Диплом, курсовая, контрольная работа
Помощь в написании студенческих работ

Генераторы низкотемпературной плазмы на основе разряда низкого давления с инжекцией электронов из дугового контрагированного разряда

Диссертация: Генераторы низкотемпературной плазмы на основе разряда низкого давления с инжекцией электронов из дугового контрагированного разряда
ДиссертацияПомощь в написанииУзнать стоимостьмоей работы

Достижение предельного значения тока тлеющего разряда в первой разрядной ступени ограничивает дальнейшее повышение тока инжектируемых электронов, а, следовательно, не позволяет повысить плотность плазмы основного разряда. Замена в первой ступени разрядной системы тлеющего разряда на дуговой является логичным и очевидным решением проблемы снятия ограничения по току разряда, а, следовательно… Читать ещё >

Содержание

  • Введение
  • ГЛАВА I. РАЗРЯДЫ НИЗКОГО ДАВЛЕНИЯ ДЛЯ ГЕНЕРАЦИИ ИНТЕНСИВНЫХ НИЗКОЭНЕРГЕТИЧНЫХ ИОННЫХ ПОТОКОВ
    • 1. 1. Генерация низкоэнергетичных ионных потоков в системах с извлечением и транспортировкой
    • 1. 2. Генерация газоразрядной плазмы при низком давлении
    • 1. 3. Разрядные системы с инжекцией электронов и их осцилляцией
    • 1. 4. Выводы и постановка задач исследований
  • ГЛАВА II. МЕТОДИКА И ТЕХНИКА ЭКСПЕРИМЕНТА
    • 2. 1. Газоразрядная система с инжекцией электронов на основе несамостоятельного дугового разряда с холодными катодами
    • 2. 2. Эмиттер электронов на основе дугового контрагированного разряда
    • 2. 3. Методика и техника измерения параметров газоразрядной плазмы
    • 2. 4. Выводы
  • ГЛАВА III. ПРОЦЕССЫ ГЕНЕРАЦИИ ОБЪЕМНОЙ ПЛАЗМЫ В
  • РАЗРЯДНОЙ СИСТЕМЕ С ИНЖЕКЦИЕЙ ЭЛЕКТРОНОВ ИЗ ДУГОВОГО КОНТРАГИРОВАННОГО РАЗРЯДА
    • 3. 1. Характеристики и параметры разрядной системы
      • 3. 1. 1. Первая разрядная ступень (эмиттерный разряд)
      • 3. 1. 2. Характеристики основного разряда
    • 3. 2. Влияние собственного магнитного поля инжектированного пучка
    • 3. 3. Пространственное распределение концентрации плазмы
    • 3. 4. Влияние внешнего аксиального магнитного поля на процессы генерации плазмы
      • 3. 4. 1. Влияние конфигурации и величины магнитного поля на ионный ток коллектора
      • 3. 4. 2. Особенности генерации плотной плазмы в системе с одним соленоидом
    • 3. 5. Выводы
  • ГЛАВА IV. ГЕНЕРАТОРЫ ОБЪЕМНОЙ ГАЗОРАЗРЯДНОЙ ПЛАЗМЫ С ЭМИТТЕРОМ ЭЛЕКТРОНОВ НА ОСНОВЕ ДУГОВОГО КОНТРАГИРОВАННОГО РАЗРЯДА
    • 4. 1. Генераторы объемной газоразрядной плазмы
      • 4. 1. 1. Генератор объемной газоразрядной плазмы «8РАСЕ-Г'.98 4.1.2 Генератор объемной газоразрядной плазмы «8РАСЕ-2»
    • 4. 2. Генератор плазмы, локализованной в малом объеме
      • 4. 2. 1. Источник ультра-низкоэнергетичных интенсивных ионных потоков «БРАСЕ-З» (ЦЪЕНИЗ)
      • 4. 2. 2. Рабочие характеристики генератора плазмы «8РАСЕ-3»
    • 4. 3. Выводы

Генераторы низкотемпературной плазмы на основе разряда низкого давления с инжекцией электронов из дугового контрагированного разряда (реферат, курсовая, диплом, контрольная)

Современное состояние и дальнейшее развитие ионно-плазменных методов модификации поверхностных свойств различных материалов невозможно без непрерывного совершенствования разрядных устройств, обеспечивающих требуемые параметры плазмы: концентрацию заряженных частиц в заданном объеме и ее равномерность, энергию частиц и масс-зарядовый состав ионов в плазме, максимальную долю ионов примесей и ряд других.

Среди используемых для этих целей различных ионно-плазменных устройств, разрядные системы с внешней инжекцией электронов выгодно отличаются возможностью реализации разряда с пониженным напряжением горения в более широком диапазоне рабочих давлений. Такие устройства основаны на двухступенчатой разрядной ячейке с «холодными» (ненакаливаемыми) электродами. Первая разрядная ступень обеспечивает инжекцию электронов с управляемой энергией и током в область основного разряда. Несмотря на необходимость использования дополнительного разряда для обеспечения инжекции электронов, тем не менее, благодаря значительному уменьшению напряжения горения основного разряда, энергетическая эффективность такого устройства оказывается выше, по сравнению с генераторами объемной плазмы на основе тлеющего разряда. При инжекции электронов напряжение горения разряда и, соответственно, потенциал плазмы, понижаются до уровня, когда энергии ионов, покидающих плазму, оказывается недостаточно для заметного распыления электродов и стенок вакуумной камеры. Это обуславливает малую долю примесей в плазме и делает такие разрядные системы привлекательными для применения в технологиях обработки полупроводниковых материалов.

Раннее, до начала данной работы, на основе разрядной системы с внешней инжекцией электронов было создано несколько различных модификаций источников газовых ионов и генераторов плазмы. В этих устройствах в первой разрядной ступени для инжекции электронов применялся тлеющий разряд с полым катодом. При всех известных достоинствах тлеющего разряда, его максимальное значение тока ограничено возникновением на поверхности электродов катодных пятен и переходом в дуговой режим горения. Для предотвращения дугообразования необходимо использование специальных мер, таких как выбор соответствующего материала катода, секционирование и кондиционирование поверхности катода, а также использование источника электропитания, обеспечивающего прерывание тока дуги в случае ее возникновения. Указанные способы позволяют несколько повысить ток диффузной формы разряда, но они не решают проблему в целом. Кроме того, относительно высокое напряжение горения тлеющего разряда приводит к интенсивному распылению катодной поверхности в результате ионной бомбардировки, снижая ресурс такого эмиттера и увеличивая долю примеси в плазме основного разряда.

Достижение предельного значения тока тлеющего разряда в первой разрядной ступени ограничивает дальнейшее повышение тока инжектируемых электронов, а, следовательно, не позволяет повысить плотность плазмы основного разряда. Замена в первой ступени разрядной системы тлеющего разряда на дуговой является логичным и очевидным решением проблемы снятия ограничения по току разряда, а, следовательно, и по току инжектируемых электронов. Использование для этого дугового контрагированного разряда представляется наиболее целесообразным, поскольку, с одной стороны, это позволит, по крайней мере, на порядок величины повысить значения тока инжектируемых электронов, а уменьшение напряжения горения разряда обеспечит высокую энергетическую эффективность устройства в целом. С другой стороны, экранирование катодной области дугового разряда малым отверстием в контрагирующем электроде позволит существенно снизить «засорение» плазмы продуктами эрозии материала электрода в катодном пятне.

Таким образом, тематика диссертационной работы, направленная на исследование процессов генерации плазмы в разрядной системе с внешней ин-жекцией электронов, для случая, когда эмиссия инжектируемых электронов осуществляется из плазмы дугового контрагированного разряда, представляется актуальной, поскольку решение данной проблемы обусловит дальнейшее развитие перспективного направления техники генерации ионных пучков и плазменных потоков.

Основными задачами настоящей работы являются: 1. Реализация разрядной системы с внешней инжекцией электронов, в которой для генерации инжектируемых электронов используется дуговой кон-трагированный разряд.

2. Исследование на основе данной разрядной системы условий генерации однородной газоразрядной плазмы в больших объемах и формирование интенсивных ионных потоков низкой (сверхнизкой) энергии.

3. Создание на основе проведенных исследований генераторов газоразрядной плазмы, обладающих более высокими параметрами и улучшенными эксплуатационными характеристиками.

Научная новизна работы заключается в том, что:

1. Реализована и детально исследована двухступенчатая разрядная система для генераторов объемной плазмы с инжекцией электронов из плазмы дугового контрагированного разряда низкого давления.

2. Предложена, реализована и детально исследована двухкомпонентная структура полого катода дугового контрагированного разряда без внешнего магнитного поля, обеспечивающая высокий ресурс эмиттерного узла генераторов плазмы.

3. Для предложенной разрядной системы исследованы условия генерации и определены параметры плотной однородной плазмы в больших объемах (до 1 м3).

4. Определены условия генерации интенсивных ионных потоков низкой энергии в разрядной системе с инжекцией электронов в аксиально-симметричном неоднородном магнитном поле.

Практическая ценность работы состоит в том, что на основании проведенных исследований созданы генераторы объемной газоразрядной плазмы и источник низкоэнергетичных интенсивных ионных потоков, отличающиеся большей достигнутой плотностью плазмы, более высокой эффективностью и улучшенными эксплуатационными параметрами и характеристиками. Кроме того, результаты работы могут быть использованы в ряде других устройств, использующих аналогичные или близкие по принципу действия разрядные структуры.

Диссертационная работа состоит из четырех глав.

Первая глава носит обзорный характер и посвящена критическому анализу известных из литературы данных о физических процессах генерации объемной плазмы в разрядах низкого давления, а также извлечения и транспортировки интенсивных низкоэнергетичных ионных потоков на основе разрядов такого типа. Особое внимание уделено разрядным системам с внешней инжекцией электронов. Обоснована целесообразность реализации отбора ионов из окружающей мишень объемной плазмы при контроле ее потенциала и ускорении их в слое между плазмой и мишенью. В заключение главы сформулированы основные задачи исследований.

Вторая глава посвящена методике и технике эксперимента. Описана конструкция экспериментального макета разрядной системы и особенности работы такой системы. Рассмотрена методика измерения параметров плазмы с использованием зондовых методов и электростатического энергоанализатора. Приведены результаты, позволяющие значительно увеличить ресурс работы катода дугового разряда.

В третьей главе представлены результаты исследования процесса генерации объемной плазмы в разрядной системе с инжекцией электронов из дугового контрагированного разряда. Рассмотрены основные процессы и определены факторы, влияющие на однородность генерируемой плазмы. Описаны особенности генерации плотной плазмы при наложении на область инжекции электронного пучка внешнего аксиально-симметричного неоднородного магнитного поля. Показано влияние конфигурации и величины магнитного поля на процесс формирования интенсивного потока низкоэнергетичных ионов в такой системе.

В четвертой главе приведены конструкции и характеристики разработанных в результате проведенных исследований генераторов плазмы на основе газового разряда низкого давления с инжекцией электронов из дугового контра-гированного разряда. Представлены результаты, позволяющие оптимизировать параметры и характеристики созданных устройств для обеспечения требований реального технологического процесса.

На основании полученных результатов формулируются следующие научные положения:

1. В двухкаскадной разрядной системе генератора однородной объемной плазмы на основе разряда с внешней инжекцией электронов, использование в первом каскаде (инжекторе электронов) вместо тлеющего разряда контрагиро-ванной дуги с холодным катодом не оказывает влияния на однородность распределения параметров генерируемой плазмы, но приводит, в результате увеличения тока инжектируемых электронов и снижения напряжения горения, к повышению эффективности ее генерации приблизительно на порядок величины, увеличению концентрации плазмы и снижению уровня загрязнения плазмы продуктами распыления материала электродов.

2. В двухкаскадной разрядной системе с инжекцией электронов из дугового контрагированного разряда с полым катодом, в который помещен элемент рабочего материала с более низким пороговым током дуги, предотвращается эрозия стенок полого катода, осуществляется многократное и полное использование рабочего материала, что, в сочетании с возможностью восполнения рабочего материала и отсутствием внешнего магнитного поля, многократно повышает ресурс работы устройства.

3. В генераторе плазмы на основе разряда с внешней инжекцией электронов установившееся распределение потенциала плазмы обеспечивает преимущественную транспортировку ионов вдоль оси системы по направлению к коллектору. Создание в такой разрядной системе аксиально-симметричного неоднородного магнитного поля, достаточного лишь для замагничивания электронного компонента плазмы, не оказывает влияния на движение ионов в осевом направлении, но приводит к образованию потенциальной ямы в радиальном распределении потенциала плазмы, снижающей потери ионов на стенках камеры.

4. На основе разрядной системы с инжекцией электронов из плазмы дугового контрагированного разряда создан ряд устройств, обеспечивающих генерацию однородной плазмы в объеме порядка 1 м³ с концентрацией до 8−1010 см" 3. Сочетание разрядной системы такого типа с внешним аксиально-симметричным неоднородным магнитным полем позволяет получать направленные потоки низкоэнергетичных ионов с током в непрерывном режиме до 4,5 А и энергетическим разбросом не более 10 эВ.

Результаты работы докладывались: на 6~ и 7й Конференциях по модификации свойств конструкционных материалов пучками частиц и плазменными потоками (Томск, Россия, 2002, 2004 гг.), the 11— International Congress on Plasma Physics (Sydney, Australia, 2002), the 4~ Asian-European International Conference on Plasma Surface Engineering (Jeju City, Korea, 2003), 9~ Всероссийской научной конференции студентов-физиков и молодых ученых (Красноярск, 2003), Всероссийской научно-практической конференции «Электронные средства и системы управления» (Томск, 2003), 16— Звенигородской конференции по физике плазмы и УТС (Звенигород, 2003),.

Всероссийской научной конференции по физике низкотемпературной плазмы (Петрозаводск, 2004), научной сессии МИФИ (Москва, 2003).

Результаты диссертационной работы представлены в статьях [127,130]- в сборниках докладов и тезисах всероссийских и международных конференций [110,111,114,115,119−121,129,131,132].

Созданный в результате исследований генератор объемной плазмы «SPACE-2» поставлен по контракту института в компанию «Phygen Inc.» (Миннеаполис, США), а источник низкоэнергетичных ионов «SPACE-3» — в компанию «4 Wave» (Стерлинг, США). Генератор объемной плазмы «SPACE-1» использовался в Центре передовых технологий по плазменной модификации поверхности (г.Сувон, Корея) для проведения совместных исследований по ионной отработке материалов с большой площадью поверхности.

Личный вклад автора состоит в создании экспериментальной установки, выборе методик эксперимента, проведении исследований и анализе их результатов. Обсуждение задач исследований, методов их решения и результатов анализа экспериментальных данных проводилось совместно с соавторами, фамилии которых указаны в опубликованных по теме диссертации работах. Фамилии соавторов, участвовавших в создании генераторов газоразрядной плазмы, указаны в прилагаемых к диссертации актах внедрения. Автором самостоятельно выдвинуты защищаемые положения, сделаны выводы и даны рекомендации, на основании которых разработаны принципиальные конструкции генераторов газоразрядной плазмы. Окончательная редакция защищаемых научных положений и выводов по работе осуществлялась совместно с научными руководителями диссертации при активном творческом участии соискателя.

В заключение автор искренне благодарит д.т.н., профессора Е. М. Окса и к.т.н., с.н.с. А. В. Визиря, под руководством которых была выполнена данная работа. Автор признателен в.н.с. лаборатории плазменных источников, д.т.н. Юшкову Г. Ю. за интерес и поддержку работы, сотрудникам Отдела физической электроники ИСЭ СО РАН Губанову В. П., Гришину Д. М. за разработку источников питания для генераторов плазмы, а также сотрудникам «лаборатории плазменных источников ИСЭ СО РАН за помощь в проведении экспериментов.

ЗАКЛЮЧЕНИЕ

.

Показать весь текст

Список литературы

  1. Handbook of Plasma Immersion Ion Implantation and Deposition. Edited by A. Anders, Wiley-Interscience Pub., 2000.
  2. М.Д., Плешивцев H.B., Семашко H.H. Пучки ионов и атомов для управляемого термоядерного синтеза и технологических целей. М.: Энергоатомиздат, 1986.
  3. Оке Е.М., Чагин А. А., Мытников А. В. Источник электронов с плазменным катодом для генерации пучков в форвакуумном диапазоне давлений.// ПТЭ, 1998, № 2, с. 95.
  4. В.А., Бурачевский Ю. А., Оке Е.М., Федоров М. В. Электронный источник с плазменным катодом для генерации ленточного пучка в форвакуумном диапазоне давлений.// ПТЭ, 2003, № 2, с. 127.
  5. Получение многослойной тонкой пленки с периодически изменяющимся составом распылением пучком ионов вращающейся многокомпонентной мишени. Патент. Япония. МКИ С 23 С 14/46. N60−82 665 А.
  6. Wilson R.G., Brewer G.R. Ion Beams with Applications to Ion Implantation, Wiley, New York, 1973.
  7. Nelson G.C., Borders J.A., Oborny M.C. Low-energy ion beam for material studies // Rev. Sci. Instr., 1982, V.53, № 5, p.610−614.
  8. Proc. of 12th and 13th International Conference on High Power Particle Beams, 1998, Israel, 2000, Japan.
  9. Proc. of 1st International Congress on Radiation Physics. High Current Electronics and Modification of Materials- 12th Symposium on High Current
  10. Electronics- 5th Conference on Modification of Materials with Particle Beams and Plasma Flows, Tomsk, Russia, 2000.
  11. Bugaev A.S., Nikolaev A.G., Oks E.M., Schanin P.M., Yushkov G.Yu. The «TITAN» ion source. // Rev.Sci. Instr., 1994, V.65, № 10, р.3119.
  12. Khvesyuk V.I., Tsygankov P.A. The use of a high-voltage discharge at low pressure for 3D ion implantation.// Surf. Coat. Technol., 1997, p.68.
  13. Thornton J.A., Hoffman D.V.// Thin Solid Films, 1989, V.171, p.5.
  14. Kawamura E., Vahedi V., Lieberman M.A., Birdsall C.K.// Plasma Sources Sci. Technol., 1999, V.8, p.45.
  15. Wertheimer M.R., Martinu L., Moisan M.// Proc. of Polymers, Ed. R. d’Agostino, F. Fracassi, P. Favia, Dordrecht: Kluwer, 1997, p. 101.
  16. A.T. Интенсивные ионные пучки.// перев. под ред. Н. Н. Семашко, М.: Мир, 1992, 354 с.
  17. Yoshida Y. Holey-plate ion source.// Rev.Sci.Instr., 2000, V.71, № 2, p.710.
  18. Delcroix J.-L., Trindade A.R. Hollow cathode arcs.// Adv. Electron. Phys., 1974, V35, p.87.
  19. W.L., Tsai C.C., Ryan P.M. 15 cm DuoPIGatron ion source.//Rev.Sci.Instr., 1977, V.48, p. 533.
  20. А.И. Физические основы космических электрореактивных двигателей. М.: Атомиздат, 1978, Т.1, с. 13.
  21. В.Т., Стогний А. И. Формирование пучка равномерной плотности в холловском ионном источнике с открытым торцом.// ПТЭ, 1996, № 5, с. 103.
  22. Д.А., Свадковский И. В. Ионный источник для процессов ионно-лучевого ассистирования осаждению.// Материалы 6й Международной конференция по модификации материалов пучками частиц и плазменными потоками, Томск, 2002, с. 89.
  23. А.И. и др.// ЖТФ, 1972, Т.42, № 1, с. 57.
  24. Dudnikov V., Westner A. Ion source with closed drift anode layer plasma acceleration.// Rev. Sci. Instrum., 2002, V. 73, p.729.
  25. Ide-Ektessabi A., Yasui N., Okuyama D. Characteristics of an ion beam modification system with a linear ion source.// Rev. Sci. Instrum., 2002, V. 73, p.873.
  26. Kaufman H.R., Robinson R.S., Seddon R.I. End-Hall ion source.// J.Vac.Sci.Technol., 1987, A5 (4), p.2081.
  27. Popova I., Muha R., Chen Z., and Yates J.T.// J. Vac. Sci. Technol., 2003, V. A21, p. 401.
  28. Ishii Y., Tanaka R., Isoya A.// Nucl. Instrum. & Meth. Phys. Reserch., (1996), V. B113, p.75.
  29. Zharinov A.// Lett. Sov. J. Experimental and Tech. Phys., 1978, V.17, p.508.
  30. Popov Yu./ Lett. Sov. J. Experimental and Tech. Phys., 1966, V. 4, p. 1352.
  31. В.И., Крейндель М. Ю., Оке E.M., Щанин П. М., Юшков Г. Ю. К вопросу о зарядовой компенсации широкоапертурных ионных пучков.// Тез. докл. 9 т симпозиума по сильноточной электронике, Томск, 1992, с. 117.
  32. М.Д. Компенсированные ионные пучки. Украинский физический журнал, 1979, вып.2.
  33. Slinker S.P., Hubbard R.F., Lampe M., and other. Ion Beam Transport in a Preionized Plasma Channel. // Proc. of 9th International Conference on High-Power Particle Beams, Washington, DC, 1992, V.2, p.945.
  34. Sacudo N. Microwave ion source for industrial applications.// Rev. Sci.Instrum., 2000, V.71, № 2, p. 1016.
  35. Boonyawan D., Chirapatpimol N., Sanguansak N., Vilaithong Т. A 13,56 MHz multicusp ion source for high intensity Ar beam.// Rev.Sci.Instrum., V.71, №.2, p.1181.
  36. D.Siegfried, B. Buchholtz, D. Burtner, W. Foster Radio frequency linear ion beam source with 6cmx66cm beam.// Rev.Sci.Instrum., V.73, №.2, p. 1029.
  37. Asmussen J.// J.Vac.Sci.Technol., 1989, V. A7, № 3, p.883.
  38. И.Ш., Шаехов М. Ф. Активация высокодесперсионного силикагеля в высокочастотном разряде пониженного давления.// Материалы 16й Звенигородской конференции по физике плазмы и УТС, Звенигород, 2004, с. 200.
  39. С.Ю. Применение ЭЦР-плазмы в технологии наноструктур.// Материалы Всероссийской научной конференции по физике низкотемпературной плазмы, Петрозаводск, 2004, Т.2, с. 155.
  40. Shapoval S., Bulkin P., Chumakov A., et al. Compact ECR-source of ions and radicals for semiconductor surface treatment // Vacuum, 1992, V.43, № 3, p.195.
  41. Ю.А., Захаров A.H., Климов А. И., Кошелев В. И., Петкун А. А., Сочугов Н. С., Сухушин К. Н. Плазменный источник на основе С.В.Ч. разряда с электронно-циклотронным резонансом.// ПТЭ, 1997, № 1, с. 108.
  42. Ю.Г., Еремка В. Д., Кушнир В. А., Назаров Н. И., Потапенко В. А., Стрельницкий В. Е., Шулаев В. М. Сверхвысокочастотный источник кислородной плазмы.// ПТЭ, 1996, № 1, с. 99.
  43. .С., Сырчин В. К. Магнетронные распылительные системы. М: «Радио и связь», 1982.
  44. Nikulin S.P., Kuleshov S.V.// Zh.Tech.Fiz., 2000, V.70, № 4, p.18.
  45. A.C., Настюха А. И. Исследование тлеющего разряда в электродной системе с неэквипотенциальными катодами.// Известия высших учебных заведений, Радиофизика, 1976, Т.19, № 12, с. 1891.
  46. А.С., Настюха А. И. Роль дополнительной ионизации газа осциллирующими электронами в области катодного падения тлеющего разрядас полым катодом.// Известия высших учебных заведений, Радиофизика, 1976, Т.19, № 12, с. 1884.
  47. . И. Разряд с полым катодом. М.: Энергия, 1969. 184 с.
  48. Грановский B. J1. Электрический ток в газе. Установившийся ток. М: Наука, 1971.
  49. В.Г., Метель A.C. Влияние граничных условий на характеристики тлеющего разряда с полым катодом.// ЖТФ, 1982, Т.52, № 3, с. 442.
  50. В.Н., Метель A.C. О механизме потерь быстрых электронов в тлеющем разряде с осциллирующими электронами.// Физика плазмы, 1982, Т.8, № 5, с. 1099.
  51. A.C. Расширение диапазона рабочих давлений тлеющего разряда с полым катодом / // ЖТФ, 1984, Т. 54, № 2, с. 241.
  52. A.B. Генерирование широкоапретурных ионных пучков и потоков плазмы на основе тлеющего разряда с полым катодом и внешней инжекцией электронов: Дисс.канд.техн.наук, Томск, ИСЭ СО РАН, 2000.
  53. A.B., Оке Е.М., Юшков Г. Ю. Ионно-эмиссионные свойства несамостоятельного тлеющего разряда с полым катодом.// Известия ВУЗов, Физика, 2000, № 2, с. 14.
  54. Н.В., Никулин С. П., Радковский Г. В. Источник интенсивных широких пучков ионов газов на основе разряда с полым катодом в магнитном поле.// ПТЭ, 1996, № 1, с. 93.
  55. И.Р., Подковыров В. Г., Сочугов Н. С. Устройство дугогашения для мощных магнетронных распылительных систем.// Материалы 5й Международной конференции по модификации материалов пучками частиц и плазменными потоками, Томск, 2002, с. 186.
  56. A.C. Плазменный источник электронов с секционированным холодным полым катодом.//ПТЭ, 1987, № 1, с. 164.
  57. С.П., Кулешов С. В. Генерация однородной плазмы в тлеющих разрядах низкого давления.// ЖТФ, 2000, Т.70, № 4, с. 18.
  58. Schneider J.D., Rutkowski H.L., Meyer E. A and other. Linac Conference, BNL-51 134, Brookhaven, 1979, p.457.
  59. Kaufman H.R., Robinson R.S.// Am. Instr. Aeronaut. Astronaut. J. 20, 1982, p.745.
  60. Moor R.D. Magneto-Electrostatic Plasma Containment Ion Truster.// AIAA Pap., 1969, № 69−260, p. 1.
  61. Limpaecher R., Mackenzie K. Magnetic multipole containment of large uniform collisionless quiescent plasmas.// Rev.Sci.Instr., 1973, V.44, p.726.
  62. A.B., Николаев А. Г., Оке E.M. и др. Источник ионов газа на основе стационарного контрагированного дугового разряда с холодными катодами // Тез.докл. 9Ш симпозиума по сильноточной электронике, 1992, с. 40.
  63. А.Г., Оке Е.М., Щанин П. М., Юшков Г. Ю. Ионно-эмиссионные свойства плазмы контрагированного разряда и вакуумной дуги.// 1— Всесоюзное совещание по плазменной эмиссионной электронике, Улан-Уде. 1991, с.ЗО.
  64. Ю.Е., Оке Е.М., Щанин П. М. Влияние быстрых электронов на эмиссионные свойства дугового контрагированного разряда.// Материалы 5Ш Всесоюзного симпозиума по сильноточной электронике, Томск, 1984, 4.2, с. 189.
  65. Nikolaev A.G., Oks Е.М., Schanin P.M., Yushkov G.Yu. Vacuum arc gas/metal ion sources with a magnetic field.// Rev.Sci.Instr., 1996, V.67, № 3, p. 1213.
  66. Shubaly M.R. Institute of Physics Conference Series, V.54, Adam Hilger, Bristol, UK, 1980, p.333.
  67. С.П., Оке E.M., Щанин П. М., Юшков Г. Ю. «Титан» источник газовых и металлических ионов на основе контрагированного разряда и вакуумной дуги.// Известия вузов. Физика, 1994, Т. 37, № 3, с. 53.
  68. А.В., Николаев А. Г., Оке Е.М., Щанин П. М., Юшков Г. Ю. Генератор плазмы на основе стационарного дугового контрагированного разряда для плазменных источников заряженных частиц.// ПТЭ, 1993, № 3, с. 144.
  69. И.Г., Пашкова В. В. Электромагнитная фиксация катодного пятна // ЖТФ, 1959, Т.29, № 3.
  70. Л.П., Долотов Ю. И., Ступак Р. И., Осипов В. А. Электродуговой испаритель металлов с магнитным удержанием катодного пятна // ПТЭ, 1976, № 4, с. 247.
  71. Н.В., Крейндель Ю. Е., Шубин О. А. Источник мощных электронных и ионных пучков импульсно-периодического действия.// ПТЭ, 1991, № 3, с. 130.
  72. Ahmadeev Yu. Kh., Koval N.N., Schanin P.M. Generation of Gas-Discharge Plasma by an Arc Source with a Cold Hollow Cathode.// Proc. of the 7th International Conference on Modification of Materials with Particle Beams and Plasma Flows, Tomsk, 2004, p.70.
  73. Л.Г., Григорьев C.B., Коваль H.H. и др. Дуговые разряды низкого давления с полым катодом и их применение в генераторах плазмы и источниках заряженных частиц.// Известия ВУЗов. Физика., 2001, № 9, с.28−35.
  74. А.П. Генерирование сильноточных ионных пучков в источниках ионов на основе разрядов с холодным полым катодом.// ПТЭ, 1993, Т.5, с. 128.
  75. В.А., Козырев А. В., Осипов И. В., Проскуровский Д. И. Вольт-амперные характеристики отражательного разряда с полым катодом и самокалящимся элементом.// ЖТФ, 2001, Т.71, № 3, с. 22.
  76. Ю.П. Физика газового разряда. М.: Наука, 1987, 592 с.
  77. Kuleshov S.V., Nikulin S.P., Chichigin D.F. Broad beam ion sources based on modified penning discharges.// Proceedings 5th Conference on Modification of Materials with Particle Beams and Plasma Flows, Tomsk, 2000, V.3, p. 186.
  78. Oks E.M., Vizir A.V., and Yushkov G.Yu. Low pressure hollow-cathode glow discharge for broad beam gaseous ion source.// Rev.Sci.Instr., 1998, V.69(2), p.853.
  79. Gavrilov N.V. Sources of broad and ribbon ion beams with grid-bounded plasma cathode and magnetic trap.// Proceedings 7th Conference on Modification of Materials with Particle Beams and Plasma Flows, Tomsk, 2004, p.7.
  80. В.Н., Метель А.С.// Физика плазмы, Т.8, № 5, с. 1099.
  81. А.В., Оке Е.М., Щанин П. М., Юшков Г. Ю. Несамостоятельный тлеющий разряд с полым катодом для широкоапертурных ионных источников.//ЖТФ, 1997, Т.67, вып.6, с. 27.
  82. H.B., Каменецких А. С. Ионно-эмиссионные свойства плазмы источника ионов газов с плазменным катодом.// Доклады Академии наук, 2004, Т.394, № 2, с. 183.
  83. Н.В., Каменецких А. С. Характеристики ионного источника с плазменным катодом и многополюсной магнитной системой удержания быстрых электронов.// ЖТФ, 2004, Т.74, вып.9, с. 97.
  84. Gushenets V.I., Koval N.N., Schanin P.M., Tolkachev V.S. Nanosecond high current and high repetition rate electron source.// IEEE Trans. Plasma Sci., 1999, V. 27, № 4, p. 1055.
  85. A.C. № 1 598 757 Al, МКИ H 01 J 27/04. Широкоапертурный источник ионов.//Чесноков С. М. Заявлено 15.02.89.
  86. М., Эмерт Д. Новый метод измерения потенциала плазмы эмиссионным зондом.// Приборы для научных исследований, 1983, вып.7, с. 39.
  87. Оке Е. М. Условия образования и эмиссионные свойства объемной плазмы дугового разряда низкого давления: Дисс.канд.физ.-мат.наук, Томск, ИСЭ СО РАН, 1985.
  88. А.Ф., Казьмин Г. С., Коваль Н. Н., Крейндель Ю. Е. Параметры плазмы в экспандере электронного эмиттера с дуговым контрагированным разрядом // ЖТФ, 1980, Т.50, Вып.6, с. 1203.
  89. Г. А. Эктоны в вакуумном разряде: пробой, искра, дуга. М.: Наука, 2000.
  90. Физика и техника низкотемпературной плазмы.// Под ред. С. В. Дресвина, М.: Атомиздат, 1972.
  91. С.П., Крейндель Ю. Е., Щанин П. М. Электронные пучки большого сечения. М.: Энергоатомиздат, 1984.
  92. И.Г. Катодные процессы электрической дуги. М.: Наука, 1968.
  93. Daalder J.E. Components of cathode erosion in vacuum arcs.// J.Phys. D: Appl.Phys., V.9, 1976.
  94. Davis W.D., Miller H.C. Integrated ion flux emitted from the cathode spot region of a diffuse vacuum arc.// J.Phys. D.: ApplPhys., 1992, V.25, p.686.
  95. A.A., Рыжков B.B., Капин A.T. Высокоскоростные потоки плазмы вакуумных дуг.// ЖЭТФ, 1964, Т.47, с. 494.
  96. Daalder J.E. Erosion and the origin of charged and neutral species in vacuum arcs.// J.Phys. D.: ApplPhys., 1975, V.8, p. 1647.
  97. Физика и технология источников ионов./ под ред. Я. Брауна, М.: Мир, 1998.
  98. Ю.А. Введение в зондовую диагностику плазмы пониженного давления. Серия «Учебная книга по диагностике плазмы» М.: МИФИ, 2003.
  99. Camp R., Sellen D. Method of plasma potential measurement by emissive probes.// Rev.Sci.Instrum., 1966, V.4, p. 68.
  100. В.П., Явор С. Я. Электростатические энергоанализаторы для пучков заряженных частиц. М.: Наука, 1978.
  101. Hughes A.LI., McMillen J.H. Re-focussing of electron paths in a radial electrostatic field.// Physical Review, 1929, p.291.
  102. Ю.Е., Никитинский В. А. Дуговой контрагированный разряд с холодными катодами.// ЖТФ, 1971, Т.41, вып.2, с. 323.
  103. Н.В., Крейндель Ю. Е., Оке Е.М., Щанин П. М. Условия существования и предельные параметры импульсной контрагированной дуги низкого давления.// ЖТФ, 1984, Т.54, № 1, с. 66.
  104. Г. Г. Особенности прохождение большого тока через сужение газоразрядного прибора низкого давления.// Электронная техника. Сер.З. Газоразрядные приборы, 1970, вып. З (19), с. 41.
  105. A.B., Шандриков М. В., Оке Е.М. Формирование объёмной плазмы на основе разрядных систем с внешней инжекцией электронов. // 3я Региональная школа-семинар молодых ученых «Современные проблемы физики и технологий», Томск, 2002, с. 167.
  106. М.А., Крейндель Ю. Е., Новиков A.A., Шантурин Л. П. Плазменные процессы в технологических пушках, М.: Атомиздат, 1989.
  107. Я.Б. Взаимодействие пучков заряженных частиц с плазмой.// Атомная энергия, Т.2, № 4, 1961, с. 313.
  108. A.B., Оке Е.М., Шандриков М. В., Юшков Г. Ю. Генерация объемной плазмы на основе сильноточного газового разряда с внешней инжекцией электронов.// Тез. докл. 16ой Звенигородской конференции по физике плазмы и УТС, г. Звенигород, 2004, с. 255.
  109. П.И., Закатов Л. П., Плахов А. Г. Влияние пробочного отношения на нагрев плазмы в пробкотроне.// Письма в ЖЭТФ, Т.2, вып.9, 1965, С. 426.
  110. Л.П., Плахов А. Г., Рютов Д. Д. и др. Исследование высокотемпературной электронной компоненты плазмы, образующейся в системе плазма-пучок.// ЖЭТФ, Т.54, вып.4, 1986, с. 1088.
  111. A.B., Гусева Г. И., Завьялов М. А., Рошаль A.C. Одномерное газодинамическое моделирование транпортировки электронного пучка в разреженном газе.// Методы вычислительной физики и их приложения, М.: Энергоатомиздат, 1986, с. 48.
  112. Shandrikov M.V., Vizir A.V., Yushkov G.Yu., Oks E.M. Bulk plasma production using gaseous discharge systems with external electron injection.// Proc. of 11— International Congress on Plasma Physics, Sydney, Australia, 2002 p.377−379
  113. М.В., Визирь A.B., Оке Е.М. Генераторы объемной газоразрядной плазмы технологического назначения.// Тез. докл. 9~ Всероссийской научной конференции студентов-физиков и молодых ученых, Красноярск, 2003, Т.1, с. 486.
  114. Физическая энциклопедия.// под ред. Прохорова A.M., M.: Сов.энцикл., 1989.
  115. Оке Е.М., Щанин П. М. Высоковольтный электронный источник с плазменным катодом и высокой плотностью энергии в пучке.// ПТЭ, № 3, 1983, С. 41.
  116. Ю.Е., Оке Е.М., Щанин П. М. Импульсный источник электронов с плазменным эмиттером на основе каскадной дуги.// ПТЭ, 1984, № 4, с. 127.
  117. Л.А., Сагдеев Р. З. Физика плазмы для физиков. М.:Атомиздат, 1979.
  118. Н. В. Катодное распыление. М.: Атомиздат, 1968. 347 с.
  119. Таблицы физических величин. Справочник.// под ред. И. К. Кикоина, М: Атомиздат, 1976.
  120. А.В., Оке Е.М., Шандриков М. В., Юшков Г. Ю. Генератор объемной плазмы на основе разряда с плазменным катодом.// ПТЭ, 2003, № 3, с. 108.
  121. Oks Е.М., Shandrikov M.V., Vizir A.V., Yushkov G.Yu. Large volume plasma gun for surface treatment technologies.// Proc. of 4~ Asian-European International Conference on Plasma Surface Engineering, Korea, 2003, p. l 11.
  122. Vizir A.V., Oks E.M., Shandrikov M.V., Yushkov G.Yu. Effective Source of High Purity Gaseous Plasma.// Proc. of 7th International Conference on modification of materials with particle beams and plasma flows, Tomsk, Russia, 2004, p.81.
Заполнить форму текущей работой

На отлично!