Диплом, курсовая, контрольная работа
Помощь в написании студенческих работ

Емкостные и транспортные свойства квазидвумерных электронных слоев в субмикронных полевых транзисторах современной микроэлектроники

ДиссертацияПомощь в написанииУзнать стоимостьмоей работы

Здесь следует однако отметить, что и для субмикронных приборов качественное поведение транзисторных характеристик остается по сути дела таким же как и для длинноканальных приборов, разумеется с некоторым улучшением рабочих параметров. Поэтому в настоящей диссертации речь идет не о кардинальном пересмотре теории полевых транзисторов, а лишь о вовлечении в рассмотрение ряда квантовых… Читать ещё >

Содержание

  • Глава I. Особенности емкостных характеристик 14 современных полевых структур. Актуальные проблемы расчета и анализа
    • 1. 1. Пороговые свойства ПТШ структур с сильно 14 неоднородным профилем легирования
    • 1. 2. Анализ особенностей накопления поверхностного 30 заряда, обусловленных перезарядкой локализованных состояний
    • 1. 3. Самосогласованный расчет поверхностной 42 концентрации проводящих электронов с учетом перезарядки поверхностных состояний
    • 1. 4. Обобщение на случай квазинепрерывного спектра 48 ловушек. Эффективная подвижность и крутизна МОП-транзистора
    • 1. 5. Накопление заряда в гетеротранзисторах с 55 высокой подвижностью (НЕМТ). Квантовые поправки к результирующей емкости
  • Глава II. Транспортные свойства квазидвумерных электронных слоев в гетеротранзисторах
    • 2. 1. Особенности кулоновского рассеяния в 72 квазидвумерных электронных слоях гетеротранзисторов
    • 2. 2. Рассеяние квазидвумерных электронов на 80 объемных акустических фононах. Аномальное концентрационное падение подвижности
    • 2. 3. Разогрев носителей в субмикронных каналах. 88 Ультраквазигидродинамическая транспортная модель
    • 2. 4. Подавление ударной ионизации за счет 99 электронной инжекции в объемный канал

Емкостные и транспортные свойства квазидвумерных электронных слоев в субмикронных полевых транзисторах современной микроэлектроники (реферат, курсовая, диплом, контрольная)

Общепринято, что фантастические темпы развития и впечатляющие успехи микроэлектроники [1] лежат в основе современной научно-технической революции и стремительного роста информатизации не только производственных, но и социальных аспектов развития общества. Как известно, основой микроэлектроники являются так называемые интегральные технологии [2], обеспечивающие создание интегральных схем (ИС), характеризующихся огромным (10б-109) числом активных электрических элементов — транзисторов в одном кристалле сравнительно малой (порядка 1 см) площади [3]. По типу основного активного элемента интегральные схемы и, соответственно, технологии разделяются на биполярные, в основе которых лежит биполярный транзистор с низкоомным, токовым управлением и полевые, базирующиеся на той либо иной конструкции так называемого полевого транзистора, высокоомно управляемого потенциалом его полевого электрода [4].

Уже на первых стадиях развития микроэлектроники в начале 70-х годов проявились определенные преимущества полевых, в частности, МДП (металл-диэлектрик-полупроводник) технологий [5, 6] с точки зрения минимизации латеральных размеров, т. е. повышения уровня интеграции. Поэтому все последующие десятилетия МДП технологии развивались повышенными темпами и в настоящее время занимают доминирующее положение в микроэлектронной индустрии как по степени интеграции, так и по функциональным свойствам базового элемента транзистора, главным из которых является крутизна управления и соответствующее быстродействие [7]. В свою очередь это определяет повышенный интерес исследователей, в том числе и автора настоящей диссертации к углубленному изучению физических процессов в полевых структурах с целью дальнейшего совершенствования технологий и функциональных свойств полевых приборов.

В принципе, для всех типов активных полевых приборов, среди которых главными являются: МДП транзистор (полевой транзистор с изолированным затвором) [8]- ПТШ (транзистор с затвором Шоттки) [9]- НЕМТ (гетеротранзистор с высокой электронной подвижностью) [10], характерными являются высокие численные значения отношения минимального латерального размера, как правило это так называемая длина канала, к поперечным размерам функциональных слоев, электропроводность которых модулируется (управляется) напряжением затвора. В этом смысле подвижные электроны в канале полевого транзистора всегда можно было представлять себе в виде соответствующего квазидвумерного объекта. Однако ранее, пока толщина окисла в МОП транзисторе или легированного слоя в ПТШ составляла несколько десятых микрона, рассматриваемая квазидвумерность не накладывала ограничений на использование обычных трехмерных моделей электропроводности электронов в канале транзистора и выявлялась лишь в конечных результатах моделирования. Иное дело теперь, когда толщина этих слоев составляет несколько единиц или десятков нанометров, а глубина легирования составляет несколько, вплоть до единичного, мономолекулярных слоев [11−13]. При этом квазидвумерный характер электронного энергетического спектра становится определяющим, равно как и некоторые другие квазидвумерные эффекты, существенно влияющие на выходные характеристики транзистора.

Вышесказанное достаточно аргументирует необходимость соответствующей модернизации теории полевых транзисторов, применительно к последним (и ожидаемым в ближайшей перспективе) достижениям микрои наноэлектронной технологии. Именно решению соответствующих актуальных теоретических задач и посвящена настоящая диссертация.

Здесь следует однако отметить, что и для субмикронных приборов качественное поведение транзисторных характеристик остается по сути дела таким же как и для длинноканальных приборов, разумеется с некоторым улучшением рабочих параметров. Поэтому в настоящей диссертации речь идет не о кардинальном пересмотре теории полевых транзисторов, а лишь о вовлечении в рассмотрение ряда квантовых и квазидвумерных физических эффектов, существенных для субмикронных транзисторов с нанометровыми слоями. В этой связи следует подчеркнуть, что истинной целью работ, составляющих настоящую диссертацию, является не кардинальный пересмотр существующей теории полевых транзисторов, а лишь углубление понимания ее основных положений с целью расширения адекватности соответствующих теоретических предсказаний электрических свойств субмикронных приборных структур с нанометровыми толщинами функциональных слоев.

Как известно, для работы полевого транзистора принципиальными являются два основных момента: во-первых, привлечение (или экстракция) подвижных электронов в канал транзистора напряжением на его затворе, что количественно описывается соответствующими емкостными (вольт-фарадными) характеристиками [14]- и во-вторых, транспорт привлеченных носителей от истока к стоку транзистора, обычно описываемый так называемой подвижностью [15], зависящей как от продольной так и от поперечной составляющих электрического поля. Несмотря на то, что подобное разделение свойств прибора на емкостные и транспортные является в определенном смысле условным, оно широко используется исследователями, позволяя сконцентрироваться на тех либо иных физических эффектах и структурных особенностях. Следуя этой традиции, в настоящей диссертации мы также сосредоточились сначала на емкостных свойствах полевых структур с сильно неоднородным профилем легирования с учетом квантовых поправок [16] и эффектов локализации [17], а затем уже приступили к изучению низкои высокополевого транспорта в субмикронных транзисторах на базе представлений теории протекания в неупорядоченных системах [18] и квазигидродинамической модели электронного дрейфа [19].

Следует также подчеркнуть практическую направленность настоящей диссертации, как в плане постановки соответствующих задач, отвечающих последним достижениям в области микроэлектронной технологии в смысле ипользования актуальных значений структурных параметров, так и в том, что несмотря на их расширенное и углубленное физическое рассмотрение, конечные результаты исследований формулируются в терминах известных транзисторных рабочих параметров и характеристик, таких как крутизна, пороговое напряжение и т. п. С другой стороны последнее, разумеется, облегчает автору возможность экспериментальной проверки и подтверждения развиваемых теоретических моделей.

Итак, резюмируя вышеизложенное можно сказать, что целью настоящей диссертационной работы является разработка теоретического описания низкоразмерных и квантовых эффектов, усложняющих работу субмикронных транзисторных структур с нанометровыми функциональными слоями и соответствующее развитие общей теории полевых транзисторов.

В этой связи были поставлены и решены следующие задачи:

— построена физическая модель и программа расчета характеристик накопления заряда в быстродействующих ПТШ структурах со сложным профилем легирования подзатворной области;

— построена теоретическая модель учета влияния накопления заряда на мелких поверхностных состояниях на крутизну МОП транзисторов;

— построена обобщенная модель накопления заряда в полевых гетеротранзисторах и выявлены квантовые поправки к результирующей емкости канала;

— развита теоретическая модель рассеяния квазидвумерных электронов на акустических фононах и кулоновских примесях с учетом межподзонных переходов;

— развита новая, ультраквазигидродинамическая модель транспорта квазидвумерных электронов в субмикронных полевых транзисторах.

Научная новизна полученных результатов состоит в следующем:

— предложен новый критерий порога «включения» ПТШ транзистора и удобный алгоритм его вычисления;

— показано, что и при сравнительно высоких температурах двумерный электронный газ частично локализован на мелких поверхностных состояниях, что проявляется на эксперименте в форме существенного снижения эффективной подвижности;

— впервые получено единое аналитическое соотношение, объединяющее квазиклассическое и квантовомеханическое описание зависимости плотности квазидвумерного электронного газа от уровня Ферми (поверхностного потенциала);

— на основе развитой ультраквазигидродинамической модели электронного транспорта получено новое простое аналитическое выражение для вольт-амперных характеристик субмикронных полевых транзисторов, адекватность которого с уменьшением длины канала лишь возрастает.

Практическая ценность работы заключена в том, что полученные в ней новые закономерности проводимости квазидвумерных электронных слоев в современных конструктивно-технологических решениях полевых транзисторов важны при решении практических задач конструирования, моделирования, надежности и повышения выхода годных СБИС и СВЧ-транзисторов.

Диссертация состоит из введения, двух основных глав, заключения и списка цитируемой литературы.

ЗАКЛЮЧЕНИЕ

.

В заключении кратко сформулируем выводы диссертации:

1. Локализация электронов на мелких поверхностных состояниях составляет существенную конкуренцию накоплению подвижного электронного заряда в канале транзистора и приводит к заметному понижению эффективной поверхностной подвижности и крутизны сток-затворных характеристик транзистора.

2. Эффективная электрическая емкость двумерного электронного газа увеличивается пропорционально его концентрации в области сравнительно малых ее значений, а затем стабилизируется в окрестности специфического квантового значения, пропорционального эффективной массе электронов в узкозонном материале.

3. При низких (ниже азотной) температурах низкополевая подвижность двумерного электронного газа характеризуется сложной концентрационной зависимостью. Наростая в области сравнительно малых поверхностных концентраций, электронная подвижность резко падает при концентрации, отвечающей началу заполнения второй подзоны пространственного квантования, что обусловлено «включением» процессов межподзонного рассеяния.

4. Транспортный процесс в транзисторах с субмикронным каналом характеризует существенный «недоразогрев» электронной подсистемы. Это подавляет известный, эффект насыщения дрейфовой скорости, свойственный длинноканальным приборам и, соответственно, увеличивает крутизну и улучшает частотные характеристики транзистора.

Показать весь текст

Список литературы

  1. К.А. Микроэлектроника: Достижения и пути развития / Москва, Наука, 1986. 144 с.
  2. Зи С. М. Технология СБИС / Перевод с английского под ред. Чистякова Ю. Д., Москва, Мир, 1986. 404 с.
  3. Д., Эйкерс Л., Гринич Э. Электроника ультрабольших интегральных схем / Перевод с английского под ред. Мазеля Е. З., Москва, Мир, 1991, 328 с.
  4. Р., Кейминс Т. Элементы интегральных схем / Перевод с английского под ред. Мазеля Е. З., Москва, Мир, 1989, 630 с.
  5. Wallmark J.T., Jonson H. Field-Effect Transistors. Physics, Technology and Application / Presentice-Hall, Englewood Cliffs, N.Y., 1966.
  6. Richman P. MOSFET’s and Integrated Circuits / Wiley, N.Y., 1973.
  7. Зи С. М. Физика полупроводниковых приборов, Кн. 1 и 2 / Перевод с английского под ред. Суриса Р. А., Москва, Мир, 1986, 456 и 474 с.
  8. Ihantola H.K.J., Moll J.L. Design Theory of a Surface Field-Effect Transistor / Solid State Electron., 7, 423, 1964.
  9. K.A., Пашинцев Ю. И., Петров Г. В. Применение контакта металл-полупроводник в электронике / Москва, Радио и Связь, 1981,304 с.
  10. Ю.Мокеров В. Г., Федоров Ю. В., Тук А. В., Каминский В. Э., Великовский Л. Наноэлектронные СВЧ транзисторы на основе гетероструктур соединений А3В5 с двумерным электронным газом / Москва, Зарубежная радиоэлектроника, № 8, 1998, с. 4061.
  11. П.Шур М. Современные приборы на основе арсенида галлия / Перевод с английского, Москва, Мир, 1991, 632 с.
  12. А.А., Тагер А. С. Гетероструктуры с селективным легированием и их применение / Обзор. В книге: Многослойные полупроводниковые структуры и сверхрешетки, Горький, 1985, с. 104−131.
  13. Wang G.W., Feng М., Lau C.L., et al. High-performance millimeter-wave ion-implanted GaAs MESFET’s // IEEE Electron Dev. Lett., V. ED-10, № 2, 1989, p.95−97.
  14. Т., Икома Т., Ткеиси Е. Введение в микроэлектронику / Перевод с английского под ред. Ржанова В. Г., Мир, 1988, 319 с.
  15. Selberherr S. Analysis and simulation of semiconductor devices / Wien: Springer-Verlag, 1984, 296 c.
  16. Stern F., Haward W. Properties of Semiconductor Surface Inversion Layers in the Electric Quantum Limit // Phys.Rev., V.143, № 3, 1967, p.816.
  17. A.C., Гергель В. А., Ждан А. Г., Сизов В. Е. Локализация электронов при нелинейном экранировании мелкомасштабного флуктуационного потенциала гетерограницы GaAlAs-GaAs // Письма в ЖЭТФ, т.58, вып.5, 1993, с. 369−371.
  18. Stanfer D., Ahrony A. Introduction to the percolation theory // Tailor andFransis, London, 1992.
  19. В. Д., Толстихин В. И. Расчет кинетических коэффициентов квазигидродинамической модели полевых транзисторов на арсениде галлия // Электронная техника, сер.2, Полупроводниковые приборы, вып. З, 1989, с.30−36.
  20. В.А., Тимофеев М. В. Одномерная физико-математическая модель GaAs MESFET структур со сложнымпрофилем легирования // Микроэлектроника, т.26, № 6, 1997, с.414−419.
  21. Г. Е. Основы теории полупроводниковых приборов / Москва, Наука, 1965, 447 с.
  22. В.А., Тимофеев М. В., Зеленый А. П. Особенности перезарядки поверхностных состояний в МДП-структурах в режиме сильной инверсии // Микроэлектроника, т.27, № 2, 1998, с. 1−4.
  23. В.А., Тимофеев М. В., Зеленый А. П. О температурной и полевой зависимости эффективной поверхностной подвижности в МДП-структурах // Физика и техника полупроводников, т.32, № 6, 1998, с.748−751.
  24. В.А., Тимофеев М. В., Зеленый А. П. Особенности перезарядки поверхностных состояний в МДП-структурах в режиме сильной инверсии // Конференция Электроника и информатика 97: Тез. докладов — Москва, 1997, с. 87.
  25. В.А., Тимофеев М. В., Зеленый А. П. Влияние перезарядки мелких поверхностных состояний на крутизну МДП-транзисторов // Известия ВУЗов- Электроника, № 6, 1998, с.55−61.
  26. В.А., Тимофеев М. В., Зеленый А. П. Мелкие поверхностные состояния причина понижения поверхностной подвижности в структурах металл-диэлектрик-полупроводник и гетеротранзисторах // Радиотехника и электроника, т.44, № 11, 1999, с.1355−1359.
  27. В. А., Мокеров В. Г., Тимофеев М. В. Квантово-механические особенности эффекта поля в гетеротранзисторах с модуляционным и 5-легированием // ФТП, т.34, вып.2, 2000, с.234−238.
  28. В.А., Мокеров В. Г., Тимофеев М. В., Федоров Ю. В. Ультраквазигидродинамический электронный транспорт в субмикронных полевых МДП-транзисторах и гетеротранзисторах // ФТП, т.34, вып.2, 2000, 239−242.
  29. В.И., Баннов Н. А. Математическое моделирование элементов интегральных схем: состояние и проблемы // Микроэлектроника, т. 16, вып.6, с.484−496.
  30. .С. Численное моделирование полупроводниковых приборов / Рига, Знание, 1986, 168 с.
  31. Ю.Р., Петросянц К. О., Шилин В. А. Математическое моделирование элементов интегральной электроники / Москва, Сов. Радио, 1976, 304 с.
  32. А.И., Коробков И. И. Сверхбыстродействующие арсенидгаллиевые интегральные схемы на основе неоднородно легированных транзисторов с высокой подвижностью электронов // Микроэлектроника, т.23, № 5, 1994.
  33. Golio J.M.M., Trew R.J. Profile Studies of Ion-Implanted MESFET’s // IEEE Trans, on Microwave Theory and Techniques, V. MTT-31, № 12, 1989, p.1066−1071.
  34. Garret C.G., Brattain W.H. Physical Theory of Semiconductor Surfaces / Phys. Rev., 1955, v.99, pp. 376−388.
  35. Therman L.M. Investigation of Surface States at Silicon/Silicon Dioxid Interface // Solid State Electron., 1962, № 5, pp. 285−293.
  36. Berglund C.N., Surface States at Steam-Grown Silicon-Silicon Dioxid Interface / IEEE Trans. Electron. Devices, 199, ED-13, pp. 701−713
  37. Lechoves K., Slobodskay A. Field Effect Capasitance Analysis of Surface States on Silicon / Phys. Stat. Solid., 1963, v. 3, pp. 447−459.
  38. Grove A.C., Deal B.E., Snow E.H. Investigation of Thermally-Oxidized Silicon Surfaces / Solid St. Electron., 1965, v.8, pp. 145−153
  39. Sah C.T. Carcteristics of the Metal-Oxide-Semiconductor Transistors // IEEE Trans. Electron. Devices, 1964, ED-11, pp. 324−333.
  40. Hofstein S.R., Helman F.P. The Silicon Insulated gate Field-Effect Transistor. //Proc. IEEE, 1963, 51, pp. 1190−1210.
  41. A.B. Электронные процессы на поверхности полупроводников / Москва, Наука, 1971, 279 с.
  42. Бонч-Бруевич B. JL, Калашников С. Г. Физика полупроводников / Москва, Наука, 1977, 672 с.
  43. С.Е. Статистика электронов в полупроводниках / Пер. с англ. под ред. Ржанова А. В., Москва, Мир, 1976.
  44. В. А., Сурис Р. А. Исследование флуктуаций поверхностного потенциала в структурах металл-диэлектрик-полупроводник//ЖЭТФ, 1978, т.75, с.191−199.
  45. В.А., Сурис Р. А. Теория поверхностных состояний и проводимости в структурах металл-диэлектрик-полупроводник // ЖЭТФ, 1983, т.84, с.719−728.
  46. В.Г., Горбань А. П. Основы физики МДП-приборов / Киев, Наукова думка, 1978, 243 с.
  47. D.V.Amelin, A.V.Hook, V.G.Mokerov. Influence of the parameters of the donor layer of the characteristics of the N-AlGaAs/InGaAs/GaAs-P-HEMT // In: Compounds Semiconductors, Philadelphia, Institute of Physics Conference, 1996.
  48. Т., Фаулер А., Стерн Ф. Электронные свойства двумерных систем / Перевод с англ., Москва, Мир, 1985.
  49. Л.Д., Лифшиц Е. М. Квантовая механика / Москва, Физматгиз, 1963, 456 с.
  50. А.В. Энергетический спектр и процессы рассеяния электронов в инверсионных слоях // ЖЭТФ, 1971, т.60, с. 18 451 852.
  51. И.М., Градштейн И. С. Таблицы интегралов, сумм, рядов и произведений / Физматгиз, 1962.
  52. А.И. Введение в теорию полупроводников / Москва, Физматгиз, 1962, 420 с.
  53. Ф.Д. Теория подвижности электронов в твердых телах / Физматгиз, 1963, 224 с.
  54. Г. Б. Таблицы интегралов и другие математические формулы / Москва, Наука, 1964, 228 с.
  55. В. А. Статические характеристики субмикронного полупроводникового триода при баллистическом движении носителей заряда // Электронная техника, сер. З, Микроэлектроника, вып. З, 1984, с. 23−28.
  56. В.И., Баннов H.A., Федирко В. А. Баллистический и квазибаллистический транспорт в полупроводниковых структурах (обзор) // ФТП, 1984, т. 18, вып.5, с.769−786.
  57. Kizilyalli I.C., Hess К., Larson J.L. et al. // IEEE Trans. Electron Dev., 1986, v.33, № 10, p. 1427.5 8. Каминский В. Э. Нелокальная модель расчета переноса и В АХ гетероструктурных полевых транзисторов // Микроэлектроника, 1988, т. 17, вып.5, с.421−427.
  58. Lee К., Shur M.S., Drummond T.J. at al. // IEEE Trans. Electron Dev., 1984, v.31, № 1, p.29.
  59. A.A. // Электрон, техника. Cep. l, 1985, № 11, c.383.
  60. Ridley B.K. Hot electrons in low-dimensional structures // Rep. Prog. Phys. 54, 1991, p. 169−256.
  61. M.A., Шабат Б. В. Методы теории функций комплексного переменного / Москва, Наука, 1965, 716 с.
  62. М. В. Одномерная физико-математическая модель GaAs MESFET-струтур со сложным профилем легирования //
Заполнить форму текущей работой