Диплом, курсовая, контрольная работа
Помощь в написании студенческих работ

Физико-химические процессы в емкостных высокочастотных и барьерном разрядах и их электрические и оптические характеристики

Диссертация: Физико-химические процессы в емкостных высокочастотных и барьерном разрядах и их электрические и оптические характеристики
ДиссертацияПомощь в написанииУзнать стоимостьмоей работы

Диссертационная работа является результатом законченного цикла фундаментально-прикладных исследований неравновесной плазмы нестационарных газовых разрядов, проводимых автором в период с 1992 по 1995 гг. в лаборатории Спектроскопии плазмы НИЦ «Жалын» при Президиуме Академии наук КР и в период с 1996 по 2009 гг. в лаборатории Оптики и спектроскопии Кафедры физики и микроэлектроники… Читать ещё >

Содержание

  • ГЛАВА. ЕМКОСТНЫЕ ВЫСОКОЧАСТОТНЫЕ И БАРЬЕРНЫЙ РАЗРЯДЫ
  • ПРИМЕНЕНИЕ И ПРОБЛЕМЫ
    • 1. 1. ВЧЕ разряды
      • 1. 1. 1. ВЧЕ разряд
      • 1. 1. 2. ВЧЕ разряды в магнитном поле
    • 1. 2. Плазменное травление и осаждение тонких пленок
      • 1. 2. 1. Источники плазмы, используемые для изготовления полупроводниковых структур
      • 1. 2. 2. Анизотропное плазменное травление
      • 1. 2. 3. Плазменное осаждение аморфных гидрогенизированных углеродных пленок в метане и метансодержащих смесях
    • 1. 3. Барьерные разряды
      • 1. 3. 1. Структура и характеристики барьерных разрядов
      • 1. 3. 2. Численное моделирование барьерных разрядов
    • 1. 4. Эксимерные лампы
      • 1. 4. 1. Принципы работы и устройство эксиламп БР
      • 1. 4. 2. Экспериментальные исследования и моделирование характеристик эксиламп БР
    • 1. 5. Плазменные дисплейные панели
      • 1. 5. 1. Введение
      • 1. 5. 2. Устройство и принцип работы ПДП переменного тока
      • 1. 5. 3. Моделирование ПДП
  • Выводы к главе
  • ГЛАВА. ЭКСПЕРИМЕНТАЛЬНАЯ ТЕХНИКА
    • 2. 1. ВЧЕ реактор традиционного типа
    • 2. 2. ВЧЕ реактор с магнитным полем
    • 2. 3. Измерения электрических характеристик и температуры газа
    • 2. 4. Регистрация спектров и измерение интенсивностей
      • 2. 4. 1. Спектральная регистрирующая система на базе дифракционного спектрографа ДФС
      • 2. 4. 2. Спектральная автоматизированная регистрирующая система на базе монохроматора МДР
      • 2. 4. 3. Пространственные измерения интенсивности излучения
    • 2. 5. Зондовые измерения
  • Выводы к главе
  • ГЛАВА. ИССЛЕДОВАНИЕ ВЛИЯНИЯ ВНЕШНЕГО МАГНИТНОГО ПОЛЯ НА ХАРАКТЕРИСТИКИ ВЧЕ РАЗРЯДА В АРГОНЕ
    • 3. 1. Функция распределения электронов в ВЧЕ разряде в аргоне
      • 3. 1. 1. Кинетическое уравнение для электронов в ВЧЕ разряде
      • 3. 1. 2. ФРЭЭ и параметры электронов в ВЧЕ разряде в аргоне
      • 3. 1. 3. Распределение интенсивности излучения спектральных линий в межэлектродном промежутке ВЧЕ разряда
    • 3. 2. Характеристики высокочастотного емкостного разряда в магнитном поле в аргоне
      • 3. 2. 1. Электрические характеристики
      • 3. 2. 2. Концентрация заряженных частиц и температура электронов
      • 3. 2. 3. Оптические характеристики
      • 3. 2. 4. Анализ влияния дрейфа электронов в магнитном поле на характеристики разряда
    • 3. 3. Исследование влияния магнитного поля на характеристики ВЧЕ разряда в рамках гидродинамической модели
      • 3. 3. 1. Одномерная гидродинамическая модель ВЧЕ разряда
      • 3. 3. 2. Влияние магнитного поля на характеристики ВЧЕ разряда в Ar
  • Выводы к главе
  • ГЛАВА. ВЧЕ РАЗРЯД В ТРИФТОРБРОММЕТАНЕ
    • 4. 1. Экспериментальные исследования характеристик плазмы
  • ВЧЕ разряда в трифторбромметане
    • 4. 1. 1. Абсолютные концентрации атомов брома и фтора
    • 4. 1. 2. Температура газа
    • 4. 2. Кинетическая модель плазмохимических реакций в CF3Br плазме
    • 4. 2. 1. Кинетическая модель
    • 4. 2. 2. Компонентный состав CF3Br плазмы ВЧЕ разряда
  • Выводы к главе
    • ГЛАВА. ВЧЕ РАЗРЯД В МАГНИТНОМ ПОЛЕ В МЕТАНЕ И СМЕСИ МЕТАНА С АРГОНОМ
    • 5. 1. Электрические и оптические характеристики ВЧЕ разряда в магнитном поле в метане
    • 5. 1. 1. Электрические характеристики
    • 5. 1. 2. Температура газа
    • 5. 1. 3. Спектр и пространственное распределение излучения
    • 5. 2. Концентрация атомарного водорода в ВЧЕ разряде в магнитном поле в метане и смеси метана с аргоном
    • 5. 2. 1. Методика измерения концентрации атомов водорода методом оптической актинометрии
    • 5. 2. 2. Концентрация атомарного водорода в ВЧЕ разряде в метане 139 5.2.3. Концентрация атомарного водорода в ВЧЕ разряде в смесях Аг-СГЦ
    • 5. 3. Заселенности энергетических уровней атомов водорода
    • 5. 4. Параметры молекулярного водорода
    • 5. 4. 1. Концентрация молекул водорода
    • 5. 4. 2. Распределение молекул водорода по колебательным уровням
    • 5. 4. 3. Вращательная температура молекул водорода 161 5.5. Колебательная и вращательная температуры радикалов СН
  • Выводы к главе
    • ГЛАВА. МОДЕЛИРОВАНИЕ ПРОЦЕССОВ В КСЕНОНОВЫХ ЭКСИЛАМПАХ БАРЬЕРНОГО РАЗРЯДА
    • 6. 1. Моделирование барьерного разряда в рамках гидродинамической модели
    • 6. 1. 1. Кинетика электронов в барьерном разряде в ксеноне
    • 6. 1. 2. Гидродинамическая модель барьерного разряда: приближение локальной энергии электронов (LEA модель)
    • 6. 1. 3. Гидродинамическая модель барьерного разряда: приближение локального электрического поля (LFA модель)
    • 6. 1. 4. Тестирование программы
    • 6. 1. 5. Характеристики БР в ксеноне, рассчитанные в рамках
  • LFА и LEA приближений
    • 6. 2. Влияние плазмохимических процессов в ксеноне на характеристики барьерного разряда
    • 6. 2. 1. Кинетическая схема плазмохимических процессов в ксеноне
    • 6. 2. 2. Развитие импульсов тока в барьерном разряде в ксеноне, влияние плазмохимических процессов
    • 6. 3. Влияние внешних параметров на характеристики барьерного разряда в ксеноне
    • 6. 3. 1. Влияния частоты изменения напряжения
    • 6. 3. 2. Влияние амплитуды напряжения
    • 6. 3. 3. Влияние емкости диэлектриков
    • 6. 3. 4. Влияние длины разрядного промежутка
    • 6. 4. Моделирование ксеноновой лампы трехступенчатого профиля
    • 6. 5. Оптимизация ксеноновых эксиламп
  • Выводы к главе
    • ГЛАВА. МОДЕЛИРОВАНИЕ БАРЬЕРНОГО РАЗРЯДА В ЯЧЕЙКЕ ПЛАЗМЕННЫХ ДИСПЛЕЙНЫХ ПАНЕЛЕЙ
    • 7. 1. Кинетика электронов в смесях Хе-&#
    • 7. 1. 1. Расчет параметров электронов
    • 7. 1. 2. Влияние электрического поля и концентрации ксенона на кинетику электронов в смеси Хе-&#
    • 7. 2. Моделирование характеристик барьерного разряда в смеси 0.05 Хе /0.95 Ые
    • 7. 2. 1. Одномерная гидродинамическая модель БР в смеси Хе-&#
    • 7. 2. 2. Характеристики барьерного разряда в смеси 0.05 Хе/0.95 N
    • 7. 3. Численный анализ подобия БР в смеси 0.95№-/0.05Хе
    • 7. 3. 1. Подобные электрические разряды. Разрешенные и запрещенные процессы
    • 7. 3. 2. Анализ подобия электрических характеристик БР в смеси Хе-Ые
    • 7. 3. 3. Законы преобразования для концентраций заряженных и нейтральных компонент Хе-№- плазмы БР
    • 7. 3. 4. Законы преобразования для эффективности излучения
  • Выводы к главе

Физико-химические процессы в емкостных высокочастотных и барьерном разрядах и их электрические и оптические характеристики (реферат, курсовая, диплом, контрольная)

Общая характеристика работы. Работа посвящена исследованию емкостных высокочастотных и барьерного разрядов. Особое внимание в работе уделено систематическому параметрическому исследованию характеристик разрядов, изучению параметров частиц и физико-химических процессов в плазме, влиянию этих процессов на характеристики разрядов. Для изучения ВЧЕ разрядов в основном используются экспериментальные методы исследованияособое внимание уделяется обоснованию применения спектральных методов. Барьерные разряды исследуются численными методамибольшое внимание уделяется разработке моделей барьерных разрядов.

Актуальность темы

Неравновесные газовые разряды в последние десятилетия привлекают огромный интерес исследователей, что связано с широким кругом их индустриальных приложений.

Емкостные ВЧ разряды работающие на частоте 13.56 МГц были первыми, используемыми в технологиях плазменной обработки (плазменного травления) [1−5]. Однако их неспособность создавать плазму высокой плотности при низких давлениях газа и разделять функции генерации плазмы и ускорения ионов ограничили их применение и привели в начале 90-х годов к появлению источников с индуктивной ВЧ плазмой.

Плазменные реакторы, основанные на индуктивных ВЧ разрядах могут обеспечивать высокие плотности плазмы при низких давлениях газа и независимо контролировать плотность (ионного потока) и энергию ионов [6−8]. Применение индуктивных ВЧ разрядов в коммерческих реакторах для плазменной обработки показало их существенные ограничения. Сюда можно отнести неспособность работать в индуктивной моде с низкой плотностью.

11 3 плазмы (/7"10 см") и малой длиной разрядного промежутка, значительные радиальные и азимутальные неоднородности [9].

Другим направлением, развиваемым в начале 90-х годов, было использование магнитного поля для улучшения характеристик реактивного ионного травления (РИТ). РИТ часто приводит к нежелательным радиационным повреждениям и/или загрязнениям поверхности, которые должны впоследствии удаляться. ВЧЕ разряды в магнитном поле позволяют получить более высокие скорости травления и малые энергии бомбардировки ионов, что приводит к снижению количества повреждений и уменьшает потребность в их отжиге. Использование магнитного поля в разрядах в смесях газов может приводить к пространственному разделению компонент смеси [10]. К началу данных исследований лишь небольшое число работ было посвящено изучению фундаментальных свойств ВЧЕ разрядов в магнитном поле [11−15].

Основным преимуществом реактивного ионного травления, является потенциальная возможность прецизионного анизотропного травления материала в направлении, перпендикулярном его поверхности. Широко применяемое в промышленности в начале 90-х годов травление в фторсодержащей плазме СР4 или СР4−02 (81Р4, ББб, МЕ3, СШ3 и др.) при отсутствии каких-либо кристаллографических эффектов происходит изотропно с одинаковой скоростью по всем направлениям [1, 2]. Анизотропное травление стимулируют бомбардировкой положительными ионами [16]. Однако при больших концентрациях атомарного фтора Б (1014-И015 см" 3) в плазме ионное ускорение процесса травления не исключает спонтанного травления под маску и не обеспечивает необходимой в задачах субмикронной технологии микроэлектроники анизотропии травления. В связи с этим было предложено использовать в качестве травителей менее химически активные галогены. Так в работах [17−19] была продемонстрирована возможность анизотропного травления кремния (81) в плазме трифторбромметана (СР3Вг). Однако к началу работ, представленных в данной диссертации, внутренние параметры СР3Вг плазмы, химические реакции и частицы, ответственные за процесс травления кремния в СР3Вг плазме не были изучены.

Наряду с травлением полупроводниковых структур ВЧЕ разряды используют для осаждения тонких аморфных гидрогенизированных углеродных пленок, часто называемых алмазоподобными. Они обладают уникальными свойствами такими как высокие твердость, электрическая прочность, химическая стойкость, прозрачность в видимой области спектра, и используются в качестве диэлектрических и защитных слоев [20, 21], в том числе в микроэлектронике. При плазменном осаждении гидрогенизированных углеродных пленок часто используются смеси метана с водородом и инертными газами. Несмотря на активные исследования метансодержащей плазмы [22−24], параметры химически активных частиц, физико-химические процессы протекающие в плазме и на поверхности к началу работы над диссертацией оставались слабо изученными. Разработка методов контроля и изучение параметров метансодержащей плазмы представляют практический интерес для понимания механизмов формирования алмазоподобных пленок и оптимизации условий их осаждения.

Прогресс в разработке источников плазмы для изготовления полупроводниковых структур требует знания параметров плазмы этих источников. Экспериментальное исследование параметров и физико-химических процессов в химически активной плазме представляет собой чрезвычайно трудную задачу. Методы контактной диагностики неравновесной плазмы разработаны авторами [25−27]. Методы мониторинга параметров плазмы в реакторах для плазменного травления активно развивались в последнем десятилетии [28−32].

Барьерные разряды обеспечивают эффективные технологии для получения неравновесной плазмы в газах атмосферного давления. Свойства БР привели к большому количеству индустриальных приложений барьерных разрядов, таких как генерация озона, модификация поверхностей, осаждение покрытий, контроль загрязнений, стерилизация и дезинфекция, С02-лазеры, эксилампы и плазменные дисплейные панели (ПДП) [33−35].

Эксимерные лампы (эксилампы) — относительно недавно появившийся класс источников спонтанного УФи ВУФизлучения, в которых используется неравновесное излучение эксимерных или эксиплексных молекул [36−39]. В отличие от люминесцентных и тепловых источников УФ и ВУФ излучения, до.

80% общей мощности излучения эксилампы может быть сосредоточено в узкой (не более 10 нм на полувысоте) полосе соответствующей молекулы. При этом удельные мощности излучения превышают величины, характерные для ламп низкого давления на резонансных переходах атомов. К числу наиболее изученных и востребованных относятся эксилампы на переходах димера ксенона Хе2(^=172 нм).

К началу исследования барьерных разрядов в рамках диссертационной работы как отечественными, так и зарубежными группами был проведен цикл работ по созданию, исследованию и применению эксиламп [40−42]. Однако многообразие возможных условий возбуждения эксиламп, влияние на их выходные характеристики многих, часто взаимозависимых, факторов существенно осложняют создание эксиламп с необходимыми для практических применений выходными параметрами [43]. Дальнейшее совершенствование эксиламп актуально в связи с возрастающими потребностями науки и техники в мощных и недорогих источниках УФ и ВУФ излучения.

Плазменные дисплейные панели (ПДП) представляют собой матрицы субмиллиметровых флуоресцентных ламп, сложным образом контролируемых электронными драйверами [44−45]. Каждый элемент изображения (пиксель) ПДП состоит из трех элементарных разрядных ячеек, излучающих ультрафиолетовое излучение (УФ). Ультрафиолетовое излучение с помощью люминофоров преобразуется в видимый свет трех цветов. Плазма в каждой ячейке ПДП переменного тока генерируется барьерным разрядом (БР), горящем в тлеющем режиме в смеси инертных газов. Типичное давление составляет 500 Тор в газоразрядном зазоре 100 мкм. В качестве переменного напряжения используется прямоугольный сигнал частотой порядка 100 кГц и временем нарастания 200−300 не. Во включенном состоянии через разрядную ячейку каждые полпериода проходит импульс тока длительностью менее 100 не.

Несмотря на ряд прекрасных характеристик, излучательная эффективность ПДП переменного тока остается низкой по сравнению с электронно-лучевыми трубками (ниже ~в 3 раза) и требует улучшения [44].

Существенной частью улучшения технологии ПДП является понимание основных физических процессов динамики плазмы, распределения энергии электронов и взаимодействия плазмы с поверхностью. Малые размеры ПДП ячеек и короткие времена горения разряда делают экспериментальную диагностику очень сложной.

Несмотря на сложность экспериментальных исследований, в последние годы была проведена оптическая диагностика плазмы в ПДП ячейках. Наряду с этими исследованиями в работах [46, 47] сообщалось об измерениях свойств макроскопических ячеек ПДП ('макроячеек'). Макроячейки представляют собой разрядные ячейки, геометрия которых похожа на геометрию реальных ячеек ПДП, однако их размеры на 1−2 порядка больше. Макроячейки являются очень полезным инструментом для изучения разрядов в ячейках ПДП, поскольку диагностика разряда в макроячейке существенно проще, чем разряда в реальных ячейках, и в связи с тем, что конструкция электродов и геометрия могут легко быть изменены. Предполагается, что при масштабировании ячеек выполняется подобие разрядов и физика БР в макроячейках ПДП остается такой же, как и в реальных ячейках. Однако исследования выполнения законов подобия в БР к началу данной работы проведено не было.

Сложившиеся на основе экспериментальных данных представления о структуре, свойствах и динамике возникновения и погасания разряда между диэлектрическими барьерами могут быть значительно расширены и уточнены с помощью метода численного моделирования. Численное моделирование характеристик является перспективным методом оптимизации параметров эксиламп и ячеек ПДП, позволяя определить условия достижения максимальной излучательной эффективности при требуемой величине мощности излучения в заданном интервале длин волн. К началу данного исследования был разработан ряд гидродинамических моделей БР в ксеноне (эксилампы) [48−51] и в смесях инертных газов (ячейки ПДП) [52−55], а также аналитические [56], электротехнические [57] и кинетические модели [58, 59].

ГД модели барьерного разряда основаны на уравнениях газовой динамики (уравнениях непрерывности в диффузионно-дрейфовом приближении) для электронов, ионов и возбужденных атомов (молекул), связанных с уравнением Пуассона для электрического поля. Была продемонстрирована способность ГД моделей успешно моделировать фундаментальные процессы, имеющие место в эксилампах и ПДП ячейках, исходя из основополагающих принципов газовой электроники. В то же время систематические параметрические исследования излучательных характеристик ксеноновых эксиламп на момент начала данной работы отсутствовали.

Таким образом, фундаментальной проблемой при улучшении характеристик процессов и приборов, использующих ВЧЕ и барьерные разряды, является недостаток информации о протекающих в них физко-химических процессах и их влиянии на характеристики разрядов. В связи с этим, исследование физико-химических процессов в емкостных высокочастотных и барьерных разрядах является своевременным и актуальным как для улучшения существующих, так и для разработки принципиально новых технологий и приборов, основанных на их использовании.

Цель и задачи диссертационной работы.

Целью работы было экспериментальное и теоретическое исследование физико-химических процессов в неравновесной плазме емкостных высокочастотных и барьерного разрядов и их электрических и оптических характеристик.

Достижение цели работы предполагало решение следующих задач:

— Создание диагностического комплекса для исследования электрических и оптических характеристик плазмы ВЧЕ разрядов.

— Обоснование спектральных методов диагностики галогени метансодержащей плазмы.

— Экспериментальное исследование электрических и оптических характеристик и внутренних параметров традиционного и активированного магнитным полем ВЧЕ разрядов в аргоне, трифторбромметане и метане.

— Моделирование плазмохимических процессов и расчет состава плазмы ВЧЕ разряда в СБзВг.

— Разработку одномерных гидродинамических моделей БР в ксеноне и смесях ксенона с неоном.

— Численное исследование влияния физико-химических процессов в БР в ксеноне и смесях ксенона с неоном на электрические и оптические характеристики разряда.

— Масштабирование барьерных разрядов.

Методы исследований.

При исследовании ВЧЕ разрядов использовались экспериментальные и численные методы, исследование барьерных разрядов проводилось расчетным путем. Для экспериментального измерения параметров плазмы использовались электротехнический, термопарный, зондовый и спектральные методы. Зондовые измерения осуществлялись с помощью двойного Ленгмюровского зонда с использованием стандартных схемы и методики обработки ВАХ зонда. Применение спектральных методов основывалось на использовании относительных интенсивностей спектральных линий и молекулярных полос, измеряемых с помощью современного спектрального оборудования. Использование конкретных спектральных методик измерения параметров плазмы обосновывалось с помощью кинетического анализа. Для численного исследования параметров плазмы использовались нольмерные кинетические и одномерные гидродинамические модели. Для моделирования параметров электронной компоненты плазмы решалось кинетическое уравнение Больцмана в двучленном приближении.

Структура и объем диссертации

.

Объем диссертации составляет 320 страниц, в ней представлены 113 рисунков и 22 таблицы, имеется 474 ссылки на литературные источники. Диссертация состоит из настоящего введения, 7 глав, заключения, 4-х приложений и списка литературы. Объем основного текста составляет 263 страницы.

Во Введении обосновывается актуальность исследования электрических и оптических характеристик высокочастотных емкостных (ВЧЕ) и барьерного разрядов, формирования представлений о протекающих в них физико-химических процессах и их связи с характеристиками разрядов. Сформулированы цель, научная новизна, практическая значимость, приводятся защищаемые положения.

Первая глава содержит литературный анализ состояния исследований высокочастотных емкостных и барьерных разрядов. Даны общие сведения о высокочастотных емкостных (ВЧЕ) и барьерном разрядах, их особенностях, характеристиках, методах моделирования. Рассмотрены основные области, проблемы и перспективы их применения. По результатам обзора сделаны выводы об актуальности проводимых исследований, обоснованы цели и задачи диссертационной работы.

Во второй главе описана экспериментальная техника, используемая для исследования параметров ВЧЕ разрядов. Описаны ВЧЕ реакторы диодного и магнетронного типа, оптические регистрирующие системы на базе спектрографа ДФС-8 и монохроматора МДР-23, методы измерения электрических параметров и температуры газа, схема регистрации вольт-амперных характеристик двойного зонда и методика их обработки.

Во третьей главе изучаются электрические и оптические характеристики ВЧЕ разряда в магнитном поле в аргоне и анализируется влияние дрейфа электронов в магнитном поле на характеристики разряда. Разработана программа для расчета нестационарной функции распределения электронов по энергиям (ФРЭЭ) в ВЧЕ разряде в аргоне. Рассчитаны ФРЭЭ и аксиальные распределения температуры и концентрации электронов в ВЧЕ разряде в различные моменты времени. Рассчитано усредненное за период аксиальное распределение интенсивности излучения спектральных линий аргона в ВЧЕ разряде. Представлены результаты комплексного исследования характеристик ВЧЕ разряда магнетронного типа в асимметричном реакторе в аргоне: электротехническими методами измерены ВЧ ток, ВЧ напряжение и постоянное напряжение самосмещениязондовыми методами измерены концентрация заряженных частиц и температура электроновоптическими методами изучены интенсивность излучения и толщина приэлектродного слоя. Влияние магнитного поля на характеристики ВЧЕ разряда в диапазоне давлений от 650 до 10 Па дополнительно исследовано в рамках одномерной гидродинамической модели.

В четвертой главе описываются результаты экспериментального и численного исследования оптических характеристик и внутренних параметров плазмы традиционного ВЧЕ разряда в трифторбромметане — СР3Вг (хладон 13В]). Эксперименты выполнены в ассиметричном высокочастотном реакторе емкостного типа диодной конфигурации. Методом оптической актинометрии измерены абсолютные концентрации атомарных радикалов Вг и Б. Двумя методами (спектральным и термопарным) изучено пространственное распределение температуры газа. В результате численного решения дифференциального уравнения баланса энергии для экспериментально измеренного поля температур восстановлен двумерный профиль источников тепла.

Разработана кинетическая модель газофазных реакций в СР3Вг плазме. Рассчитаны концентрации компонент плазмы для условий (давление газа, температура электронов) типичных для ВЧЕ разряда в СР3Вг. Объясняется механизм анизотропного травления кремния в ВЧЕ разряде в трифторбромметане.

В пятой главе описываются результаты экспериментальных измерений электрических и оптических характеристик ВЧЕ разряда в магнитном поле в метане и смеси метана с аргоном, спектральных исследований внутренних параметров метансодержащей плазмы и анализа механизмов образования атомарного водорода и формирования распределений атомов и молекул водорода и радикалов СН* по энергетическим уровням.

Изучены электрические характеристики, температура газа, спектр излучения. Проанализированы механизмы образования возбужденных атомов о водорода Н (п=3) и аргона Аг (4р Р]). Получены выражения для определения концентрации атомов водорода по отношению интенсивностей спектральных линий водорода На и аргона в случае прямого, ступенчатого и диссоциативного возбуждения излучающих состояний. Методом оптической актинометрии измерены абсолютные концентрации атомарного водорода в разряде в метане и смеси метана с аргоном. Установлено, что концентрация атомов водорода в смеси СН4(1−10%)+Аг на порядок выше их концентрации в чистом метане при одинаковых параметрах разряда. Показано, что в механизмы образования атомов Н в метане и смеси СН4(1−10%)+Аг разные: в метане в диапазоне давлений 1-ь10 Па атомарный водород образуется в результате диссоциации метана и радикалов СНХ при столкновениях с электронами, в смеси СН4(1−10%)+Аг — в процессе диссоциации молекул метана при столкновениях с метастабильными атомами аргона: Аг’т + С#4 СН3 +н + Аг.

Обнаружено неравновесное распределение атомов водорода по энергетическим уровням. Определено отношение концентраций атомарного и молекулярного водорода. Изучено распределение относительных.

3 3 интенсивностей колебательных полос системы Фулхера Н2(с1 Пи ]/-а у" ;

1,2,3) по колебательным уровням. Определены значения температуры заселения колебательного уровня у=1 молекул водорода в основном состоянии Н2(Х1?). По распределению относительных интенсивностей вращательных линий С)-ветви колебательной полосы (0−0) а-системы Фулхера определена вращательная температура молекул водорода. Измерены колебательная и вращательная температуры радикалов СН*.

Шестая глава посвящена моделированию характеристик барьерного разряда в ксеноне. Разработана гидродинамическая (ГД) модель БР и проанализированы результаты расчета характеристик БР в ксеноне в приближениях локального электрического поля и локальной энергии электронов. Показано, что разработанная ГД модель позволяет смоделировать появление наблюдаемого на осциллограммах ксеноновых эксиламп наряду с основным импульсом тока второго (обычно более слабого) импульса. Проанализирован процесс развития волн ионизации и прохождения коротких импульсов тока в БР в ксеноне.

Представлены результаты систематического численного исследования влияния внешних параметров (частоты и амплитуды синусоидального напряжения, емкости диэлектриков, длины газоразрядного промежутка) на оптические характеристики БР в ксеноне. Смоделированы характеристики прямоугольной ксеноновой лампы трехступенчатого профиля, давление ксенона в лампе 300 тор, толщина диэлектрических барьеров 1 мм, материалкварцевое стекло. Даны рекомендации по оптимизации параметров эксиламп.

В седьмой главе представлены результаты моделирования физико-химических процессов и оптических и электрических характеристик БР в смесях Хе-№ с параметрами, характерными для ячеек плазменных дисплейных панелей, изучена возможность масштабирования ячеек ПДП, получены законы преобразования для эффективности преобразования электрической энергии в излучение при масштабировании ячеек.

Показано, что с увеличением электрического поля доля энергии электронов, затрачиваемой на возбуждение ксенона, уменьшается и больше энергии вкладывается в ионизацию ксенона, возбуждение и ионизацию неонаувеличения излучательной эффективности разряда следует ожидать в диапазоне концентраций ксенона в смеси до 10%.

В рамках гидродинамической модели проведен расчет характеристик БР в смеси 0.05Хе/0.95№. Проанализированы развитие газоразрядного процесса и характеристики БР. Показано, что исключение N6 и Ме2 из кинетической схемы незначительно сказывается на характеристиках плазмы, позволяя уменьшить число рассматриваемых элементарных физико-химических процессов и, тем самым, уменьшить время расчета установившихся характеристик БР на 20−25%.

Численно в рамках гидродинамической модели проведены анализ подобия БР разрядов с масштабным коэффициентом (соотношением линейных размеров разрядов) равным 10 и с одинаковыми значениями комбинаций рс1 и рТ в смеси инертных газов 0.95 №/0.05 Хе и проверка инвариантности комбинаций характеризующих БР величин. На основе уравнений баланса для равновесных концентраций получены законы преобразования для концентраций эксимерных молекул. Установлены законы преобразования для эффективности излучения различных компонент плазмы. Показано, что БР разряды с масштабным коэффициентом 10 и одинаковыми значениями комбинаций рс1 и рТ в смеси инертных газов 0.95 N6/0.05 Хе имеют близкие электрические свойства при одинаковых значениях как при прохождении импульса тока, так и в послесвечении.

В Заключении сформулированы основные результаты работы.

В Приложениях кратко описывается метод решения системы уравнений одномерной гидродинамической модели (Приложение 2), приводятся кинетические схемы плазмохимических реакций в СР3Вг (Приложение 1), в ксеноне (Приложение 3) и в смеси №-Хе (Приложение 4) и константы скоростей соответствующих реакций.

Положения, выносимые на защиту.

1. Результаты измерений и расчетов внутренних параметров ВЧЕ разрядов в аргоне и СР3Вг. Модель плазмохимических процессов и результаты расчета состава плазмы ВЧЕ разряда в СР3Вг.

2. Методы и результаты исследований концентраций атомарного и молекулярного водорода, колебательных и вращательных температур молекул Н2 и радикалов СН*- представления о механизмах формирования атомов Н, молекул Н2 и радикалов СН* и их распределений по энергетическим уровням в магнетронном ВЧЕ разряде в метане и смесях метана с аргоном.

3. Закономерности влияния магнитного поля на электрические и оптические характеристики и внутренние параметры плазмы ВЧЕ разрядов.

4. Одномерная гидродинамическая модель БР в ксенонерезультаты численного исследования влияния параметров БР в ксеноне на его оптические характеристики. Анализ физико-химических процессов в БР разряде в ксеноне при формировании коротких импульсов тока.

5. Одномерная гидродинамическая модель БР в смеси Ые/Херезультаты численного исследования параметров БР в смеси 0.95№/0.05Хе. Масштабирование БР, законы преобразования для концентрации эксимерных молекул и эффективности излучения при масштабировании БР в смеси Ые/Хе .

Достоверность защищаемых положений.

Достоверность полученных результатов обеспечивается использованием метрологически поверенного оборудования, статистической обработкой экспериментальных данных, воспроизводимостью основных результатов измерений, тщательным обоснованием спектральных методов диагностики плазмы, использованием зарекомендовавших себя физических моделей и численных методов, тестированием разработанных программ, согласием экспериментальных и теоретических результатов и согласием с результатами других исследователей.

Новизна полученных результатов.

1. Впервые спектральными методами измерены концентрации атомов Вг и Б в ВЧЕ разряде в СР3Вг с высоким пространственным разрешением. Показано, что концентрация атомов брома в десятки раз превышает концентрацию атомов фтора. Разработана кинетическая модель газофазных реакций в СР3Вг плазме. Рассчитан состав СР3Вг плазмы.

2. Впервые изучены характеристики ВЧЕ разряда в метане и смеси метана с аргоном в магнитном поле.

— Спектральными методами измерены концентрации атомов и молекул водорода, исследованы распределения молекул водорода и радикалов СН* по колебательным и вращательным уровням энергии.

— Показано, что в смеси аргона с метаном (1-ь10% СН4 + Аг) в диапазоне давлений 1ч-10 Па атомарный водород образуется в процессе диссоциации молекул метана при столкновениях с метастабильными атомами аргона:

Агт+СН4 —> СНЪ + Н + Аг.

— Установлено, что в ВЧЕ разряде в метане реализуется неравновесное распределение атомов водорода по энергетическим уровням, к формированию которого приводит диссоциативная рекомбинация молекулярных ионов водорода Н2 + е Н + Н*.

3. Получены новые данные о влиянии параметров БР в ксеноне и физико-химических процессов в нем на формирование импульсов тока БР.

— Показано, что гидродинамические модели БР в ксеноне в приближениях локального электрического поля и локальной энергии электронов дают качественно близкую картину развития физических процессов.

— Показано, что в плазме БР в Хе быстрая конверсия ионов Хе2+ в Хе3+ и последующая диссоциативная рекомбинация приводят к быстрому распаду плазмы после прохождения импульса тока, что влечет за собой появление второго (обычно более слабого) импульса тока на полупериод напряжения.

— Обнаружено явление стратификации энергии электронов при прохождении импульсов тока в БР в ксеноне.

— Показано, что рост перенапряжения приводит к появлению вслед за однопиковым режимом горения БР двух пикового режима и затем к умножению периода напряжения.

4. В результате систематических численных исследований получены новые данные о влиянии внешних параметров БР в ксеноне на его оптические характеристики.

5. Численно в рамках гидродинамической модели проведен анализ подобия БР в смеси 0.95№/0.05Хе. Впервые получены законы преобразования для эффективности ВУФ излучения атомов и эксимерных молекул в БР в смесях Ые/Хе. Показано, что теоретически полученные соотношения для эффективности излучения компонент плазмы БР в смеси 0.95 №/0.05 Хе выполняются для излучения резонансных атомов и молекул ксенона, на излучение которых приходится большая часть излучения.

Научная ценность и практическая значимость работы.

1. Разработанная кинетическая модель газофазных реакций в ВЧЕ разряде в СБзВг и результаты исследования абсолютных концентраций атомарных радикалов и расчета состава СР3Вг-плазмы в дальнейшем могут использоваться при разработке гидродинамических моделей ВЧЕ разряда в СР3Вг и представляют практическое значение для разработки технологий анизотропного травления кремния и его оксидов.

2. Полученные данные о концентрациях атомов и молекул водорода, распределениях молекул водорода и радикалов СН* по колебательным и вращательным уровням энергии, результаты анализа физико-химических процессов в ВЧЕ разряде в метане и смесх метана с аргоном могут использоваться при исследовании плазмохимических механизмов формирования углеродсодержащих покрытий и роста наноструктур в метансодержащей плазме и представляют практический интерес для разработки и оптимизации технологий, связанных с напылением углеродсодержащих пленок.

3. Выявленные закономерности влияния поперечного магнитного поля на характеристики ВЧЕ разряда могут быть использованы при разработке технологий травления и осаждения тонких пленок.

4. Созданная модель БР и полученные сведения о влиянии параметров БР в ксеноне на его характеристики позволяет оптимизировать параметры Хе2-эксиламп на практике. Результаты анализа физико-химических процессов в БР в ксеноне во время прохождения импульсов тока и в фазе послесвечения представляют интерес при изучении механизмов формирования филаментов в барьерном разряде и для разработки более совершенных моделей БР в ксеноне.

5. В результате анализа в рамках одномерной ГД модели подобия барьерных разрядов в смеси 0.95№/0.05Хе получены законы преобразования для эффективности излучения, применимые для масштабирования БР при исследованиях и разработке ячеек плазменных дисплеев и эксиламп. Полученные законы могут использоваться для дальнейшего изучения роли разрешенных и запрещенных процессов в механизме протекания барьерных разрядов в инертных газах и их смесях.

Личный вклад автора.

Диссертационная работа является результатом законченного цикла фундаментально-прикладных исследований неравновесной плазмы нестационарных газовых разрядов, проводимых автором в период с 1992 по 1995 гг. в лаборатории Спектроскопии плазмы НИЦ «Жалын» при Президиуме Академии наук КР и в период с 1996 по 2009 гг. в лаборатории Оптики и спектроскопии Кафедры физики и микроэлектроники Кыргызско-Российского Славянского университета. На различных этапах работы исследования выполнялись совместно с коллегами, но при этом личный вклад автора является определяющим и состоит в выборе направления, участии в создании экспериментальных установок и диагностических комплексов, разработке программ для управления автоматизированным комплексом регистрации спектров, выборе и обосновании спектральных методов, планировании и проведении основных экспериментальных исследованийразработке и участии в разработке кинетических схем плазмохимических процессов, одномерной гидродинамической модели БР, программ для решения кинетического уравнения Больцмана и расчета состава плазмы в рамках кинетической (OD) моделипроведении численных расчетованализе и интерпретации полученных данныхподготовке докладов и статей.

Апробация работы.

Результаты исследований докладывались и обсуждались на следующих конференциях и симпозиумах: Всероссийской (с международным участием) конференции по физике низкотемпературной плазмы (ФНТП-2001, Петрозаводск, Россия, 2001) — IV International Conference Plasma Physics and Plasma Technology (PPPT-4, Minsk, Belarus, 2003) — IV Международном симпозиуме по теоретической и прикладной плазмохимии (Иваново, Россия, 2005) — III международном симпозиуме «Горение и плазмохимия» (Алматы, Казахстан, 2005) — Международном семинаре «Проблемы моделирования и развития технологии получения керамики» (Бишкек, Кыргызстан, 2005) — XXXIII Звенигородской конференции по физике плазмы и У ТС. (Звенигород, Россия, 2006) — XVI International Conference on Gas Discharges and their Applications (GD 2006, Xi’an, China, 2006) — V International Conference Plasma Physics and Plasma Technology (PPPT-5, Minsk, Belarus, 2006) — 18-th International Symposium on Plasma Chemistry (Kyoto, Japan, 2007) — IV международном симпозиуме «Горение и плазмохимия» (Алматы, Казахстан, 2007) — V Международном симпозиуме по теоретической и прикладной плазмохимии (Иваново, Россия, 2008) — 11-th International Symposium on High Pressure Low Temperature Plasma Chemistry (HAKONE XI, Oleron Island, France, 2008) — 9-th International Conference «Atomic and Molecular Pulsed Lasers» (Tomsk, Russia, 2009) — научных и научно-практических конференциях КРСУ, Бишкек, 19 982 009 гг., и на научных семинарах кафедры физики и микроэлектроники КРСУ.

Публикации.

По теме диссертации опубликованы 53 научные работы, включая 18 статей в журналах из списка ВАК и 1 монографию.

Выводы к главе 7.

В данной главе получены следующие основные результаты:

1. Численно изучена кинетика электронов в смесях Хе-№. Показано, что с увеличением электрического поля доля энергии электронов, затрачиваемой на возбуждение ксенона, уменьшается и больше энергии вкладывается в ионизацию ксенона, возбуждение и ионизацию неона. Увеличение скорости возбуждения атомов ксенона в метастабильное и резонансное состояния наблюдается до концентраций ксенона в смеси -15−20%. Эффективность ионизации увеличивается при увеличении концентрации ксенона до -7%.

2. Разработана гидродинамическая модель и проведен расчет характеристик БР в смеси 0.05Хе/0.95№. Показано, что в смеси 0.95 №/0.05 Хе концентрации ионов №+ и № 2+ значительно меньше концентрации ионов Хе+, Хе2+ и №Хе+ и вклад ионов №+, № 2+ в формирование электрических и оптических характеристик мал. В фазе импульса тока основным ионом является ион Хе+, в среднем за период — Хе2+. В фазе импульса тока в кинетике электронов и атомарных ионов преобладает прямая ионизация, в фазе послесвечения — процессы ионной конверсии и диссоциативной рекомбинации. Излучение разряда состоит в основном из резонансного излучения атомов ксенона на длине волны 147 нм, излучательная эффективность разряда составляет 7−8%).

3. Численно в рамках гидродинамической модели проведен анализ подобия БР разрядов в смеси инертных газов 0.95 №/0.05 Хе. Показано, что БР разряды с масштабным коэффициентом 10 и одинаковыми значениями комбинаций рс1 и рТ в смеси 0.95 №/0.05 Хе имеют близкие электрические свойства при одинаковых значениях Отклонения от инвариантности комбинаций З/р, Е/р и о/р малы, в фазе послесвечения заметны различия в зависимостях падения напряжения на разрядном промежутке от Для электронов и основных ионов Хе+ инвариантность комбинаций 1Яе /р2 приближенно выполняется (отклонения не превышают 40%), для остальных ионов — нарушается, что обусловлено кинетикой их образования и гибели.

4. Получены законы преобразования при масштабировании барьерного разряда для концентраций эксимерных молекул и эффективности преобразования электрической энергии в излучение. Показано, что теоретически полученные законы подобия выполняются для резонансных состояний атомов и молекул ксенона, которые являются основными источниками вакуумного ультрафиолетового излучения барьерного разряда в смеси 0.95№/0.05Хе.

ЗАКЛЮЧЕНИЕ

.

Основные научные результаты, которые выносятся на защиту, могут быть сформулированы следующим образом.

1. Проведено комплексное исследование параметров плазмы ВЧЕ разряда в СР3Вг при давлениях 1−10 Па (частота 5.28 МГц). Изучено пространственное распределение температуры газа. Методом оптической актинометрии с высоким пространственным разрешением измерены абсолютные концентрации атомов Вг и Б. Показано, что концентрация атомов брома в десятки раз превышает концентрацию атомов фтора. При наличии на ВЧ электроде пластины кремния концентрация атомарного брома у ВЧ электрода повышается. Разработана кинетическая модель газофазных реакций в СР3Вг плазме, рассчитаны кинетические кривые концентраций компонент СР3Вг плазмы. Дано объяснение наблюдаемому эффекту анизотропного травления кремния в ВЧЕ разряде в трифторбромметане, связанное с близкими концентрациями основных ионов СР3+ и атомарного фтора в разряде и отсутствием летучих соединений брома с кремнием.

2. Проведено комплексное исследование характеристик ВЧЕ разряда в магнитном поле в аргоне и метане (частота 13.56 МГц). Исследовано влияние магнитного поля, мощности разряда и давления газа на характеристики разряда. Показано, что в ВЧЕ разряде в магнитном поле как в аргоне, так и в метане в диапазоне магнитных полей > 25 Гс и давлений < 10 Па значительное уменьшение подвижности электронов в поперечном магнитному полю направлении приводит к уменьшению ВЧ тока и напряжения, постоянного напряжения самосмещения, сдвига фаз между током и напряжением и толщины приэлектродного слоя. Концентрация электронов и интенсивность излучения разряда увеличиваются с ростом магнитного поля.

3. Методом оптической актинометрии измерены абсолютные концентрации атомов и молекул водорода в ВЧЕ разряде в магнитном поле в метане и смесях метана с аргоном. Показано, что концентрация атомов водорода в ВЧЕ разряде в смесях аргона с метаном (1^-10% Аг +СН4) на порядок выше, чем в ВЧЕ разряде в метане при одинаковых параметрах разрядов. Установлено, что высокая концентрация атомов водорода в ВЧЕ разряде в смесях аргона с метаном связана с их образованием в процессе диссоциации молекул метана при столкновениях с метастабильными атомами аргона: Аг*т + СНА снъ + н + Аг. Показано, что степень диссоциации молекул водорода в ВЧЕ разряде в магнитном поле в метане равна -0.03−0.05.

4. Спектральными методами изучены распределения атомов и молекул водорода и радикалов СН по энергетическим уровням в плазме ВЧЕ разряда в магнитном поле в метане и проанализированы механизмы формирования этих распределений. Установлено, что плазма неравновесна, температура газа и вращательная температура молекул водорода изменяется в диапазоне 350−600К, вращательная температура радикалов СН — 1200−2000К, колебательная температура молекул водорода и радикалов СН — 2000;6000К, температура электронов — 3−10 эВ. Показано, что в плазме ВЧЕ разряда в метане формируются неравновесные распределения атомов водорода по энергетическим уровням и молекул водорода по уровням колебательной энергии. К формированию неравновесного распределения атомов водорода по энергетическим уровням приводит диссоциативная рекомбинация молекулярных ионов водорода + е —" Н + Н*.

5. Разработана одномерная гидродинамическая модель барьерного разряда в ксеноне, позволившая смоделировать появление наблюдаемого на осциллограммах ксеноновых эксиламп наряду с основным импульсом тока второго (обычно более слабого) импульса. Смоделированы характеристики барьерного разряда в ксеноне в приближениях локального электрического поля и локальной энергии электронов. Показано, что оба приближения дают качественно близкое развитие физических процессов в барьерном разряде, однако количественные характеристики барьерного разряда, рассчитанные в этих приближениях, заметно различаются.

6. Проанализирован процесс развития волн ионизации и прохождения коротких импульсов тока в барьерном разряде в Хе. Изучено влияние физико-химических процессов в неравновесной плазме ксенона на формирование импульсов тока в барьерном разряде. Показано, что быстрая конверсия ионов Хе2+ в ионы Хе3+ и их последующая диссоциативная рекомбинация приводят к быстрому распаду плазмы после прохождения импульса тока.

7. Численно изучено влияние концентрации Хе и электрического поля на кинетику электронов в смесях №-Хе. Показано, что оптимальное для генерации вакуумного ультрафиолетового излучения эксимерных молекул содержание Хе в смесях Ые-Хе составляет несколько процентов.

8. Численно в рамках разработанной одномерной гидродинамической модели проведен анализ подобия барьерных разрядов в смеси инертных газов 0.95 Ке/0.05 Хе. Получены законы преобразования при масштабировании барьерного разряда для концентраций эксимерных молекул и эффективности преобразования электрической энергии в излучение. Показано, что теоретически полученные законы подобия выполняются для резонансных состояний атомов и молекул ксенона, которые являются основными источниками вакуумного ультрафиолетового излучения барьерного разряда в смеси 0.95Ые/0.05Хе.

Работы по теме данной диссертации были поддержаны Международным научно-технического центром (проект МНТЦ 3098), Международной ассоциацией за развитие сотрудничества с учеными из новых независимых государств бывшего Советского Союза (проект ПчГГА8−942 922), Министерством образования и науки КР.

В заключение хочу поблагодарить моего научного консультанта профессора Оторбаева Джоомарта Каиповича за постоянное внимание к работе, помощь в проведении исследований и поддержку и заведующего кафедрой физики и микроэлектроники профессора Лелевкина Валерия Михайловича за внимание к работе, ценные советы и поддержку. Выражаю искреннюю признательность профессору Кулумбаеву Эсену Болотовичу, Лапочкиной Татьяне Михайловне, Мамытбекову Мухтару Заировичу, Скорнякову Андрею Владимировичу, Ишикаеву Ринату Мансуровичу и Кайрыеву Нурланбеку Жутановичу за полезное сотрудничество и помощь в проведении научных исследований.

Показать весь текст

Список литературы

  1. .С., Киреев В. Ю. Применение низкотемпературной плазмы для травления и очистки материалов. М: Энергоатомиздат, 1987.
  2. Плазменная технология в производстве СБИС. Под ред. Айспрука Н., Браун Д. М.: Мир, 1987.
  3. Ю.П., Шнейдер М. Н., Яценко H.A. Высокочастотный емкостной разряд: Физика. Техника эксперимента. Приложения. М.: Изд-во Моск. Физ.-техн. Ин-та- Наука. Физматлит, 1995.
  4. В.П. Граничные эффекты емкостного высокочастотного разряда. Дисс. докт. физ.-мат. наук, Москва. 2001.
  5. Haruhiko Abe, Masahiro Yoneda, and Nobuo Fujiwara. Developments of Plasma Etching Technology for Fabricating Semiconductor Devices. //JJAP. 2008. 47. No. З.рр. 1435−1455.
  6. E.A. Индуктивный высокочастотный разряд низкого давления и возможности оптимизации источников плазмы на его основе. //УФН. 2008, т. 178, № 5, с. 519−540.
  7. А.Ф., Вавилин К. В., Кралькина Е. А., Павлов В. Б., Рухадзе A.A. Особенности индуктивного ВЧ-разряда низкого давления. I. Эксперимент. // Физика плазмы. 2007. Т. 33. № 9. С. 802−815.
  8. А.Ф., Вавилин К. В., Кралькина Е. А., Павлов В. Б., Рухадзе A.A. Особенности индуктивного ВЧ-разряда низкого давления. II. Математическое моделирование.// Физика плазмы. 2007. Т. 33. № 9. С. 816−827.
  9. Godyak V.A. Electrical and plasma parameters of ICP with high coupling efficiency.//Plasma Sources Sei. Technol. 2011. V. 20. 25 004.
  10. JI.B., Шибков B.M. Разряд в смесях инертных газов. М.: Физматлит. 2005.
  11. Е.И., Вагнер С. Д., Друкман A.M. Характеристики высокочастотного ртутного разряда в постоянном магнитном поле.// ЖТФ. 1959. Т. 29.№ 10. С. 1263−1270.
  12. Lin I. Steady-state rf magnetron discharges.// J .Appl. Phys. 1985. V.58. P.2981−2987.
  13. Yeom G.Y., Thornton J.A. and Kushner M.J., Cylindrical magnetron discharges. I. Current-voltage characteristics for dc- and rf-driven discharge sources.// J. Appl. Phys. 1989. V. 65. P. 3816−3824.
  14. Yeom G.Y., Thornton J.A. and Kushner M.J., Cylindrical magnetron discharges. II. The formation of dc bias in rf-driven discharge sources.// J. Appl. Phys. 1989. V. 65. P.3825−3832.
  15. Д. Л., Донелли В. М., Ибботсон Д. Э. Основные принципы применения плазменного травления для изготовления кремниевых приборов. В кн.: Плазменная технология в производстве СБИС. М.: Мир. 1987. С. 155.
  16. Matsuo S. Selective etching of Si relative to Si02 without undercutting by CBrF3 plasma. //Appl. Phys. Lett. 1980. V.36. No.9. P.768−770.
  17. Flamm D.L., Cowan P.L. and Golovchenko J.A. Etching and film formation in CBrF3 plasmas: Some qualitative observations and their general implications.// J. Vac. Sci. Technol. 1980. V. 17. No. 6. P. 1341−1347.
  18. M.K., Антонов С.JI., Барышев Ю. П. и др. Исследование анизотропного травления монокристаллического кремния в низкотемпературной плазме CBrF3.// Труды ИОФАН. Технологические проблемы микроэлектроники. Т.14. М.: Наука. 1988. С.100−110.
  19. Н.И., Литовченко В. Г., Лукьянов А. Н. и др. Влияние условий осаждения на просветляющие свойства алмазоподобных углеродных пленок для солнечных элементов на основе кремния. //ЖТФ. 2006. Т.76. В.5. С.122−126.
  20. J. С., Koidl P. and Domitz S. In Plasma deposited thin films, edited by Mort J. and Jansen F. CRC Press. Boca Raton. Florida. 1986. P.89.
  21. Kline L.E., Partlow W.D., Bies W.E. Electron and chemical kinetics in methane rf glow-discharge deposition plasmas // J. Appl. Phys. 1989. V. 65. P. 70−78.
  22. Ю.А., Рахимов A.T., Суетин H.B. Моделирование процессов осаждения алмазных пленок в реакторе с активацией смеси разрядом постоянного тока // Физика плазмы. 1995. Т. 21. № 10. С. 921−927.
  23. Bardos L., Barankova Н., Lebedev Yu.A., Nyberga Т. and Berga S. Diamond Deposition in a Microwave Electrode Discharge at Reduced Pressures // Diamond and Related Materials. 1997. V. 6. № 3. P. 224.
  24. Ю.А., Лебедев Ю. А., Полак Jl.С. Методы контактной диагностики в неравновесной плазмохимии. М.: Наука. 1981.
  25. Ю.А. Физико-химические процессы в неравновесной плазме углеводородов при пониженном давлении. Автореф. дисс. докт. физ.-мат. наук. М.: ИХФ АН СССР, 1989.
  26. Ю.А. Зондовая диагностика химически активной неравновесной плазмы. В кн.: Энциклопедия низкотемпературной плазмы. Вводный том II. /Под ред. В. Е. Фортова. 2000. М.: Наука, МАИК «Наука/ Интерпериодика», С. 469−474.
  27. A.A., Руденко К. В. Диагностика in situ плазменных технологических процессов микроэлектроники: современное состояние и ближайшие перспективы. Часть I. // Микроэлектроника. 2001. Т. 30. № 2. С. 85 105.
  28. A.A., Руденко К. В., Я.Н. Суханов. Диагностика in situ плазменных технологических процессов микроэлектроники: современное состояние и ближайшие перспективы. Часть II .// Микроэлектроника. 2001. Т.30. № 3. С. 163−182.
  29. A.A., Руденко К. В. Диагностика in situ плазменных технологических процессов микроэлектроники: современное состояние и ближайшие перспективы. Часть III. // Микроэлектроника. 2001. Т. 30. № 5. С. 323−344.
  30. A.A., Руденко К. В. Диагностика in situ плазменных технологических процессов микроэлектроники: современное состояние иближайшие перспективы. Часть I V.// Микроэлектроника. 2001. Т. 30. № 6. С. 403−433.
  31. Kogelschatz U. Dielectric-barrier discharges: their history, discharge physics, and industrial applications. // Plasma Chem. Plasma Proc. 2003. V. 23. No.l. P.l.
  32. В.Г., Гибалов В. И., Козлов K.B. Физическая химия барьерного разряда. М.: Изд-во МГУ, 1989.
  33. Э.А. Действие излучения газоразрядных эксиламп на жидкую и газовую фазы органических веществ. Автореф. дисс. докт. физ.-мат. наук, Томск. 2009.
  34. М.И., Скакун B.C., Соснин Э. А. и др. Эксилампы- эффективные источники спонтанного УФ- и ВУФ- излучения. УФН. //УФН. 2003. Т. 173. № 2. С. 201−217.
  35. Erofeev M.V. and Tarasenko V.F. XeCl-, KrCl-, XeBr- and KrBr-excilamps of the barrier discharge with the nanosecond pulse duration of radiation.// J. Phys. D: Appl. Phys. 2006. V. 39. P. 3609−3614.
  36. Г. Н. Исследование и оптимизация источников вакуумного ультрафиолетового излучения на основе плазмы инертных газов. Автореф. дисс. докт. физ.-мат. наук, С.-Пб. 2010.
  37. Г. А. Волкова, Н. Н. Кириллова, Е. Н. Павловская и др. ВУФ лампы на барьерном разряде в инертных газах // ЖПС. 1984. Т. 41. Вып. 4. — С. 691−695.
  38. Eliasson В., Kogelschatz U. Modeling and Applications of Silent Discharge Plasmas // IEEE Trans, on Plasma Science. 1991. V. 19. No. 2. — P. 309−323.
  39. A.M. Boichenko, V.S. Skakun, V.F. Tarasenko et al. Cylindrical excilamp pumped by a barrier discharge // Laser Physics. 1994. V.4. № 3. — P. 635— 637.
  40. М.И. Газоразрядные источники спонтанного и вынужденного излучения с рабочими средами на основе инертных газов и галогенов. Автореф. дисс. докт. физ.-мат. наук, Томск. 2009.
  41. Boeuf J.P. Plasma display panels: physics, recent developments and key issues. // J. Phys. D: Appl. Phys. 2003. V.36. R53-R79-
  42. A.A., Дедов В. П. Принципы построения и проблемы совершенствования плазменных дисплеев. // Оптический журнал. 1999. Т. 66. № 6. С. 64−73.
  43. Ganter R., Ouyang J., Callegari Т. and Boeuf J.P. Physical phenomena in a coplanar macroscopic plasma display cell. I. Infrared and visible emission. // J. Appl. Phys. 2002. V. 91. P. 992−999.
  44. Ganter R., Ouyang J., Callegari T. and Boeuf J.P. Physical phenomena in a coplanar macroscopic plasma display cell.II. Comparisons between experiments and models. // J. Appl. Phys. 2002. V. 91. P. 1000−1007.
  45. Carmen R.J. and Mildren R.P. Computer modeling of a short-pulse excited dielectric barrier discharge xenon excimer lamp (~12 nm).// J. Phys. D: Appl. Phys. 2003. V. 36. P. 19−33.
  46. Bogdanov E.A., Kudryavtsev A.A., Arslanbekov R.R. and Kolobov V.I. Simulation of pulsed dielectric barrier discharge xenon excimer lamp.// J. Phys. D: Appl. Phys. 2004. V. 37. P. 2987−2995.
  47. Beleznai Sz., Mihajlik G., Agod A. et al. High-efficiency dielectric barrier Xe discharge lamp: theoretical and experimental investigations.// J. Phys. D: Appl. Phys. 2006. V. 39. P. 3777−3787.
  48. Boeuf J.P., Punset С., Hirech A. and Doyeux H. Physics and Modeling of Plasma Display Panels. //J. Phys. IV. France. 1997, V.7, P. C4(3−14).
  49. Ikeda Y., Verboncoeur J.P., Christenson P.J. and Birdsall C.K. Global modeling of a dielectric barrier discharge in Ne-Xe mixtures for an alternating current plasma display panel.// J. of Appl. Phys. 1999. V. 86, No.5, P.2431−2441.
  50. B.B., Манкелевич Ю. А., Прошина O.B., Рахимов А. Т., Рахимова Т. В. Моделирование разряда в ячейке плазменной дисплейной панели в частотном режиме. // Физика плазмы. 1999. Т. 25. № 7. С. 646.
  51. Kim Н. С., Hur М. S., Yang S. S., Shin S. W., and Lee J. K. Three-dimensional fluid simulation of a plasma display panel cell. // J. of Appl. Phys. 2002. V. 91. No. 12. P. 9513−9520.
  52. Д.С., Цендин Л. Д. Низкочастотный барьерный разряд в таунсендовском режиме. //ЖТФ. 2005. Т.75. В.10. С.29−38.
  53. М.И. Определение энерговвода в эксилампах с возбуждением барьерным разрядом. // Оптика атмосферы и океана. 2001. Т. 14. № 11. С. 10 911 095.
  54. Drallos P.J., Nagorny V.P. and Williamson W. Boltzmann Simulations of AC-PDP Gas Discharges. Physica Scripta. // Physica Scripta. 1994. V. T53. P. 75−78.
  55. Hagelaar G.J.M. and Kroesen G.M.W. A Monte Carlo modelling study of the electrons in the microdischarges in plasma addressed liquid crystal displays.// Plasma Sources Sci. Technol. 2000. V. 9. P.605−614.
  56. .С. Применение низкотемпературной плазмы для нанесения тонких пленок. М.: Энергоатомиздат, 1989.
  57. Liberman М.А. and Lichtenberg A.J. Principeis of plasma discharges and materials processing. Hoboken, NJ: Wiley. 2005.
  58. Goedheer W.J. Lecture notes on radio-frequency discharges, dc potentials, ion and electron energy distributions.// Plasma Sources Sci. Technol. 2000. V. 9. P.507−516.
  59. Yang Y. And Kushner M.J. Modeling of magnetically enhanced capacitively coupled plasma sources: Two frequency discharges.// J.Vac. Sci. Technol. A. 2007. V. 25. No.5. C. 1420−1432.
  60. Booth J.P., Curley G., Marie D. and Chabert P. Dual-frequency capacitive radiofrequency discharges: effect of low-frequency power on electron density and ion flux. //Plasma Sources Sci. Technol. 2010. V.19. 15 005.
  61. Yang Y. And Kushner M.J. Modeling of dual frequency capacitively coupled plasma sources utilizing a full-wave Maxwell solver: I. Scaling with high frequency.// Plasma Sources Sci. Technol. 2010. V.19. 55 011.
  62. Kuypers A.D. and Hopman H.J. Ion energy measurement at the powered electrode in an rf discharge.// J. Appl. Phys. 1988. V.63. No. 6. P. 1894−1898.
  63. Toups M.F. and Ernie D.W. Pressure and frequency dependence of ion bombardment energy distributions from rf discharges.// J. Appl. Phys. 1990. V.68. No. 12. P. 6125−6132.
  64. Zeunera M., Meichsner J. and Rees J. A. High energy negative ions in a radio-frequency discharge.// J. Appl. Phys. 1996. V.79. No. 12. P.9379−9381.
  65. Zeunera M., Neumann H. and Meichsner J. Ion energy distributions in a dc biased rf discharge.// J. Appl. Phys. 1997. V. 81. No. 7. P. 2985−2994.
  66. Kawamura E., Vahedi V., Lieberman M.A. and Birdsall C.K. Ion energy distributions in rf sheaths- review, analysis and simulation.//Plasma Sources Sci. Technol. 1999. V.8. R45-R64.
  67. В.И. Высокочастотные разряды низкого давления в технологии малоэнергоемкого вакуумно-плазменного травления микроструктур // ФИЛ. 2004. Т. 2. № 1.С.117−145.
  68. Lieberman M.A. Analytical solution for capacitive RF sheath // IEEE Trans. Plasma Sci. 1988. V. 16. P. 638−644.
  69. Yang X., Moravej M., Nowling G.R. et al. Comparison of an atmospheric pressure, radio-frequency discharge operating in the a and у modes.// Plasma Sources Sci. Technol. 2005. V. 14. P. 314.
  70. Meijer P.M., Goedheer W.J. Calculation of the auto-bias voltage for RF frequencies well above the ion-plasma frequency// IEEE Trans. Plasma Sci. 1991. V. 19. P. 170−175.
  71. Godyak V.A., Sternberg N. Dynamic model of the electrode sheaths in symmetrically driven rf discharges // Phys. Rev. A. 1990. V. 42. P. 2299−2312.
  72. Rieman K.-U. Theoretical analysis of the electrode sheath in rf discharges // J. Appl. Phys. 1989. Y. 65. P. 999−1004.
  73. Metze A., Ernie D.W., Oskam H.J. The energy distribution of ions bombarding electrode surfaces in rf plasma reactors // J. Appl. Phys. 1989. V. 65. P. 993−998.
  74. В.П. Граничные эффекты емкостного высокочастотного разряда. Дисс. докт. физ.-мат. наук, Москва. 2001.
  75. А.Ф., Савинов В. П., Сингаевский И. Ф. Энергетическое распределение электронов в приэлектродной плазме емкостного ВЧ разряда низкого давления. //Вестн.МГУ.сер.З, физика, астрономия. 1998. № 6, с.52−55.
  76. Godyak V.A., Piejak R.B. and Alexandrovich B.M. Measurements of electron energy distribution in low-pressure RF discharges.// Plasma Sources Sci. Technol. 1992. V.l. P. 36−58.
  77. А.Ф., Рухадзе А. А., Савинов В. П., Сингаевский И. Ф. Электронный энергетический спектр приэлектродной плазмы ассиметричного емкостного ВЧ разряда низкого давления.// Письма в ЖТФ. 1999. Т.25. В. 19. С. 32−39.
  78. Tatanova M., Thieme G., Basner R. et al. About the EDF formation in a capacitively coupled argon plasma. Plasma Sources Sci. Technol. 2006. V. l5. P. 507−516.
  79. K.B., Мяконьких A.B., Орликовский A.A. Мониторинг плазмохимического травления структур poly-Si/Si02/Si: зонд Ленгмюра и оптическая эмиссионная спектроскопия. // Микроэлектроника. 2007. Т. 36. № 3. С. 206−221
  80. Alexandrov A.F., Savinov V.P., Singaevsky I.F. The asymmetrical capacitive HF low pressure discharge near-electrode plasma electron energy spectrum. Contr. Papers of ICPIG-XXIII, Toulouse. 1997. V. l, P. 108−109.
  81. Coburn J.W. Plasma Etching and Reactive Ion Etching. 1982. AVS Monograph Series, N.R.Wettern (Ed.), American Institute of Physics, New York.
  82. Donnelly V.M., Ibbotson D.E., and Flamm D.L. Ion Bombardment Modification of Surfaces: Fundaments and applications. 1984. Auciello O., Kelly R. (Ed.). Elsevier, Amsterdam.
  83. Gorowitz B. and Saia J. VLSI Electronics Microstructure Science. 1984.V.8. Plasma Processing for VLSI, Einspruch N.G., Brown D. M (Ed.). Academic Press, INC.
  84. Kushner M.J. Modeling of magnetically enhanced capacitively coupled plasma sources: Ar discharges. //Phys. D.: Appl.Phys. 2003. V. 94. P. 1436−1447.
  85. Rauf S. Simulations of magnetized capacitively coupled plasmas operating at constant power and voltage. //Plasma Sources Sci. Technol. 2005. V.14. P. 329−335.
  86. Yeh T.C., Grebe K. R. and Palmer M. J. Magnetic field enhanced reactive ion etching of polyimide.// J. Vac. Sci. Technol. A. 1984. V. 2. P. 1292−1295.
  87. Kinoshita H., Ishida T. and Ohno S. Plasma characteristics and etch uniformity in CF4 magnetron etching using an annular permanent magnet.// J. Appl. Phys. 1987. V. 62. P. 4269.
  88. Lindey R.A., Bjorkman C.H., Shan, H. et al. Magnetic field optimization in a dielectric magnetically enhanced reactive ion etch reactor to produce an instantaneously uniform plasma. // J. Vac. Sci. Technol. A. 1998. V.16. P. 16 001 603.
  89. Buie M.J., Pender J.T.P., and Dahimene M. Characterization of the etch rate non-uniformity in a magnetically enhanced reactive ion etcher. // J. Vac. Sci. Technol. A. 1998.V. 16. P. 1464−1468.
  90. Ohtsu Y., Yooshinobu Y., and Fujita H. A new sputtering device of radio-frequency magnetron discharge using a rectangular hollow-shaped electrode. // Rev. Sci. Instrum. 1998. V.69. P. 1833−1836.
  91. Okuno Y., Ishikura H., and Fujita H. Sheet plasma production by means of rf magnetron discharges. //Rev. Sci. Instrum. 1992.V. 63. P. 3725−3728.
  92. Li Y., Iizuka S., and Sato N. Production of uniform large-diameter radio-frequency discharge plasma.// Appl. Phys. Lett. 1994. V.65. P.28−30.
  93. Yeom G. Y. and Kushner M. J. Magnetic field effects on cylindrical magnetron reactive ion etching of Si/SiC>2 in CF4 and CF4/H2 plasmas.// J. Vac. Sci. Technol. A. 1989.V. 7. P. 987−992.
  94. Yeom Y., Kushner M.J. Si/SiC>2 properties using CF4 and CHF3 in radio frequency cylindrical magnetron discharges.// Appl. Phys. Lett. 1990. V.56. P. 857 859.
  95. Leahy M.F., Kaganowich G. Magnetically Enhanced Plasma Deposition and Etching.// Solid State Technol. 1987. V.30. P. 99−104.
  96. . С., Сырчин В. К. Магнетронные и распылительные системы. М.: Радио и связь, 1982.
  97. Chen F.F. and Chang J.P. Lecture notes on principles of plasma processing. New York: Kluwer/Plenum. 2002.
  98. E.B., Двинин С. А., Сейдман JT.А. Вакуумная технология и оборудование для нанесения и травления тонких пленок. М.: Техносфера, 2007, — 176с.
  99. Д.Л. Травление при высоком давлении. В кн.: Плазменная технология в производстве СБИС. М.: Мир. 1987. С. 211.
  100. М.К., Антонов С. Л., Асович B.C. и др. Ионновозбуждаемые гетерогенные процессы при анизотропном травлении монокристаллического кремния в низкотемпературной плазме CF3Br. // Микроэлектроника. 1988. Т. 17. В.2. С.119−127.
  101. Baryshev Yu., Lukichev V.F., Orlikovsky A.A. et al. Main problems of plasma-chemical trench capacitor technology. In book: Plasma jets in the development of new materials technology. Proc. Int. Workshop, Frunze, USSR (Utrecht:VSP), 1990. P. 561−569.
  102. Avtaeva S.V., Mamytbekov M.Z., and Otorbaev D.K. Diagnostics of magnetically enhanced RP discharges in methane, argon and methane-argon mixtures. // J. of Phys. D: Appl. Phys. 1997. V. 30. P. 3000−3007.
  103. C.B., Мамытбеков M.3., Оторбаев Д. К. Магнетронный высокочастотный разряд в метане, аргоне и смеси метана с аргоном.
  104. Теплофизика высоких температур. 1998. Т.36. № 2. С. 194−200. (High Temperature. 1998. V.36. No. 2. P. 176−182)
  105. Gielen J. W. A. M. Plasma beam deposition of amorphous hydrogenated carbon. Ph.D. Thesis. Eindhoven: Eindhoven University of Technology. 1996. 151 p.
  106. Yoon S. F. Tan K. Rusli H., and Ahn J. Modeling and analysis of the electron cyclotron resonance diamond-like carbon deposition process.// J. Appl. Phys. 2002. V. 91.No.3.P.1634−1639.
  107. R. Mohan Sankaran and Konstantinos P. Giapis. Hollow cathode sustained plasma microjets: Characterization and application to diamond deposition. // J. Appl. Phys. 2002. V. 92. No.5. P.2406−2411.
  108. Yang T.-S., Lai J.-Y., and Wong M.-Sh. Combined effects of argon addition and substrate bias on the formation of nanocrystalline diamond films by chemical vapor deposition. //J. Appl. Phys. 2002. V. 92. No.9. P.4912−4917.
  109. Goswami R., Jana T. and Ray S. Transparent polymer and diamond-like hydrogenated amorphous carbon thin films by PECVD technique. // J. Phys. D: Appl. Phys. 2008. V. 41. 155 413.
  110. Staryga E., Bak G.W. Relation between physical structure and electrical properties of diamond-like carbon thin films.//Diamond & Related Materials. 2005. V.14. P.23−34.
  111. Corbella C., Pascual E., Gomez M.A. et al. Characterization of diamond-like carbon thin films produced by pulsed-DC low pressure plasma monitored by a Langmuir probe in time-resolved mode.// Diamond & Related Materials. 2005. V.14. P. 1062- 1066.
  112. Yasui N., Inaba H., and Ohtake N. Influence of Substrates on Initial Growth of Diamond-Like Carbon Films. // Applied Physics Express. 2008. V. 1. 35 002.
  113. Liu D., Ma Т., Yu S. et al. Plasma-assisted CVD of hydrogenated diamond-like carbon films by low-pressure dielectric barrier discharges.// J. Phys. D: Appl. Phys. 2001.V.34. P.1651−1656.
  114. Beulens J.J. Surface modification using a cascade arc source. Ph.D. Thesis. Eindhoven University of Technology. Eindhoven. 1992.
  115. Geraud-Grenier I., Massereau-Guilbaud V., Plain A. Characterization of particulates and coatings created in a 13.56 MHz radiofrequency methane plasma // Surface & Coatings Technology. 2004. V. 187. P. 336−342.
  116. C.B., Лапочкина T.M., Скорняков A.B. Осаждение аморфных углеродсодержащих пленок в ВЧЕ разряде в метане. //Горение и плазмохимия. 2005. Т.З. № 2. С. 132−140.
  117. Chingsungnoen A., Wilson J.I.B., Amornkitbamrung V. et al. Spatially resolved atomic excitation temperatures in CH4/H2 and C3H8/H2 RF discharges by optical emission spectroscopy. // Plasma Sources Sci. Technol. 2007. V.16. P. 434 440.
  118. Amanatides E., Mataras D. Electrical and optical properties of CH4/H2 RF plasmas for diamond-like thin film deposition // Diamond &Related Materials. 2005. V. 14. P. 292−295.
  119. Hytry R. and Boutard-Gabillet D. Pressure and power dependence of self-bias, sheath thickness, and deposition rate in confined methane plasmas at 13.56 MHz. //Appl. Phys. Lett. 1996.V. 69. No. 6. P.752−754.
  120. Keudell V., Moller W., and Hytry R. Deposition of dense hydrocarbon films from a nonbiased microwave plasma.// Appl. Phys. Lett. 1993. V. 62. P.937.
  121. Keudell V. and Moller W. A combined plasma-surface model for the deposition of C: H films from a methane plasma.// J. Appl. Phys. 1994. V. 75. P. 7718.
  122. Toyoda H., Kojima H., and Sugai H. Mass spectroscopic investigation of the CH3 radicals in a methane rf discharge. //Appl. Phys.Lett. 1989. V.54. No. 16. P.1507−1509.
  123. Kojima H., Toyoda H., and Sugai H. Observation of CH2 radical and comparison with CH3 radical in a rf methane discharge.// Appl. Phys.Lett. 1989. V.55. No.13. P.1292−1294.
  124. Sugai H., Kojima H., Ishida A., and Toyoda H. Spatial distribution of CH3 and CH2 radicals in a methane rf discharge.// Appl. Phys.Lett., 1990. V.56. No.26. P.2616.
  125. Zarrabian M., Leteinturier C. and Turban G. Mass spectrometric investigations on CH4 plasmas obtained from a dual electron cyclotron resonance-radio frequency discharge. //Plasma Sources Sci. Technol. 1998. V.7. P. 607−616.
  126. A.JI., Горбачев A.M., Колданов B.A. и др. Исследования импульсного и непрерывного СВЧ-разрядов, применяемых в технологии получения алмазных пленок // Физика плазмы. 2005. Т. 31. № 4. С. 376−384.
  127. Ю.А., Мокеев М. В. О температуре газа в плазме электродного СВЧ разряда пониженного давления в водороде. // Физика плазмы. 2003. Т. 29. № 3. С. 251−256.
  128. Yu В., Girshick S. Atomic carbon vapor as a diamond growth precursor in thermal plasmas // J. Appl. Phys. 1994. V. 75. № 3. P. 3914−3923.
  129. Mutsukura N., Inoue Sh., Machi Y. Deposition mechanism of gydrogenated hard-carbon films in a CH4 rf discharge plasma // J. Appl. Phys. 1992. V. 72. № 1. P. 43−53.
  130. Dagel D. J., Mallouris С. M., and Doyleb J. R. Radical and film growth kinetics in methane radio-frequency glow discharges. J. Appl. Phys. 1996. V.79. No. 11. P.8735. •
  131. Meyyappan M., Govindan T.R. Radio frequency discharge modeling: Moment equations approach // J. Appl. Phys. 1993. V. 74. № 4. P. 2250−2259.
  132. Herrebout D., Bogaerts A., Yan M. et al. One-dimensional fluid model for an rf methane plasma of interest in deposition of diamond-like carbon layers // J. Appl. Phys. 2001. V. 90. № 2. P. 570−579.
  133. Bera K., Farouk B. and Lee Y. H. Effects of reactor pressure on two-dimensional radio-frequency methane plasma: a numerical study. //Plasma Sources Sci. Technol. 1999. V.8. P. 41220.
  134. Herrebout D., Bogaerts A., Yan M. Et al. Vanhulsel. Modeling of a capacitively coupled radio-frequency methane plasma: Comparison between a one-dimensional and a two-dimensional fluid model.// J. Appl. Phys. 2002. V. 92. No.5. P.2290−2295.
  135. Okita A., Suda Y., Ozeki A. et al. Predicting the amount of carbon in carbon nanotubes grown by CH4 rf plasmas. //J. Appl. Phys. 2006. V. 99. 14 302.
  136. Bera K, Yi J.W., Farouk B. and Lee Y.H. Two-dimensional radio-frequency methane plasma simulation: comparison with experiments.// IEEE Trans. Plasma Sci. 1999. V. 27. P. 1476−1486.
  137. Nagayama K., Farouk B. Lee Y.H. Particle simulation of radio-frequency plasma discharges of methane for carbon film deposition. // IEEE Trans, on Plasma Sci. 1998. V. 26. № 2. P. 125−134.
  138. Alexandrov A.L., Schweigert I.V. Two-dimensional PIC-MCC simulations of a capacitively coupled radio frequency discharge in methane.// Plasma Sources Sci. Technol. 2005. V. 14. P. 209−218.
  139. Schweigert I.V. Different modes of a capacitively coupled radio-frequency discharge in methane. //Phys. Rev. Lett. 2004. V. 92. No. 15. 155 001.
  140. Proshina O.V., Rakhimova T.V. and Rakhimov A.T. A particle-in-cell Monte Carlo simulation of an rf discharge in methane: frequency and pressure features of the ion energy distribution function.// Plasma Sources Sci. Technol. 2006. V. 15. P. 402 409.
  141. Kogelschatz U. Silent discharges and their applications. Proc. 10th Int. Conf. on Gas Discharges and their Applications, Swansea, UK, 1992. V 2, Ed. W.T. Williams, pp. 972−980.
  142. Kogelschatz U., Eliasson B. and Egli W. From ozone generators to flat television screens: history and future potential of dielectric-barrier discharges.// Pure Appl. Chem. 1999. V.71. No. 10. P. 1819−1828.
  143. В.Г., Гибалов В. И., Козлов K.B. Физическая химия барьерного разряда. М.: Изд-во МГУ, 1989. 176 с.
  144. Baroch P., Saito N. and Takai О. Special type of plasma dielectric barrier discharge reactor for direct ozonization of water and degradation of organic pollution.// J. Phys. D: Appl. Phys. 2008. V.41. 85 207.
  145. Borcia G., Anderson C.A. and Brown N.M.D. Dielectric barrier discharge for surface treatment: application to selected polymers in film and fibre form. // Plasma Sources Sei. Technol. 2003. V. 12. P.335−344.
  146. Borcia G., Chiper A. and Rusu I. Using a He+N2 dielectric barrier discharge for modification of polymer surface properties.// Plasma Sources Sei. Technol. 2006. V. 15. P.849−857.
  147. Jidenco N., Jimenez C., Massines F. and Borra J.-P. Nano-particle size-dependent charging and electro-deposition in dielectric barrier discharges at atmospheric pressure for thin SiOx film deposition.// J.Phys. D: Appl. Phys. 2007. V.40. P.4155−4163.
  148. Kuzumoto M., Ogava S., and Yagi S. Role of N2 gas in a transverse-flow CW C02 laser excited by silent discharge. //J. Phys. D: Appl. Phys. 1989. V.22. P. 1835.
  149. Wienecke S., Born S., and Viol W. Sealed-off C02 lasers excited by an all-solid-state 0.6 MHz generator.//J. Phys. D: Appl. Phys. 2000. V.33. P. 1282.
  150. С. Барьерный разряд. Исследование и применение. LAP Lambert Academic Publishing GmbH & Co. KG, Saarbrucken, Germany, 2011. 193 с.
  151. Kogelschatz U. Filamentary, Patterned, and Diffuse Barrier Discharges.// IEEE Transaction on Plasma Science. 2002. V. 30. No.4. P. 1400−1408.
  152. Xu J., Guo Y., Xia L. and Zhang J. Discharge transitions between glowlike and filamentary in a xenon/chlorine-filled barrier discharge lamp.// Plasma Sources Sei. Technol. 2007. V.16. P. 448153.
  153. Buss K. Die elektrodenlose Entladung nach Messung mit dem Kathodenoszillographen. // Arch. Elektrotechnol. 1932. V. 26. P. 261−265.
  154. Raether H. Die Entwicklung der Elektronenlawine in den Funkenkanal. // Z. Phys. 1939. V. 112. P. 464−489.
  155. Raether H. Zur Entwicklung von Kanalentladungen. // Arch. Elektrotechnol. 1940.V. 34. P. 49−56.
  156. Loeb L.B. and Meek J.M. The mechanism of spark discharge in air at atmospheric pressure // J. Appl. Phys. 1940. V. 11. P. 438−447.
  157. Muller I., Punset C., Ammelt E. et al. Self-Organized Filaments in Dielectric Barrier Glow Discharges. // IEEE Trans. Plasma Sei. 1999. V. 27. No.l. P. 20−21.
  158. Guikema J., Miller N., Niehof J., Klein M., and Walhout M. Spontaneous pattern formation in an effectively one-dimensional dielectric-barrier discharge system.//Phys. Rev. Lett. 2000. V.85. No.18. P.3817−3820.
  159. Klein M., Miller N., and Walhout M. Time-resolved imaging of spatiotemporal patterns in a one-dimensional dielectric-barrier discharge system.//' Phys. Rev. E. 2001. V. 64. 26 402.
  160. Gurevich E.L., Zanin A.L., Moskalenko A.S., and Purwins H.G. Concentric-ring patterns in a dielectric barrier discharge system.// Phys. Rev. Lett. 2003. V.91. No.15. 154 501.
  161. Dong L., Yin Z., Li X. and Wang L. Spatio-temporal dynamics of discharge domains in a dielectric barrier discharge device. // Plasma Sources Sei. Technol. 2003. V.12. P.380−388.
  162. Brauer I., Bode M., Ammelt E. and Purwins H.-G. Traveling Pairs of Spots in a Periodically Driven Gas Discharge System: Collective Motion Caused by Interaction. //Phys. Rew. Lett. 2000. V. 84. P.4104−4107.
  163. Park H. D. and Dhali S. K. Generation of atmospheric pressure plasma with a dual-chamber discharge.// Appl. Phys. Lett. 2000. V.77. P. 2112.
  164. Dong L., Yin Z., Li X., Chai Z. and He Y. Spatio-temporal patterns in dielectric barrier discharge in air/argon at atmospheric pressure.// Plasma Sources Sci. Technol. 2006. V.15. P.840−844.
  165. Dong L., Wang H., Liu F. and He Y. Core dynamics of a multi-armed spiral pattern in a dielectric barrier discharge. // New J. of Physics. 2007. V. 9. 330.
  166. Stollenwerk L., Amiranashvili Sh. and Purwins H.-G. Forced random walks with memory in a glow mode dielectric barrier discharge.// New J. Phys. 2006. V. 8. 217.
  167. Noma Y., Choi J. H., Stauss S. et al. Gas-temperature-dependent characteristics of cryo-dielectric barrier discharge plasma under atmospheric pressure.// Appl. Phys. Express. 2008. V.l. 46 001.
  168. Brenning N., Axnas I., Nilsson J. O., and Eninger J. E. High-pressure pulsed avalanche discharges: Formulas for required preionization density and rate of homogeneity // IEEE Trans. Plasma Sci. 1997. V. 25 P. 83−88.
  169. Massines F., Rabehi A., Decomps P. et al. Experimental and theoretical study of a glow discharge at atmospheric pressure controlled by dielectric barrier. // J. Appl. Phys. 1998. V. 83. P. 2950−2957.
  170. Navratil Z., Brandenburg R., Trunec D. et al. Comparative study of diffuse barrier discharges in neon and helium.// Plasma Sources Sci. Technol. 2006. V. 15. P.8−17.
  171. Mangolini L., Orlov K., Kortshagen U. et al. Radial structure of a low-frequency atmospheric-pressure glow discharge in helium. //Appl. Phys. Lett. 2002. V. 80. P. 1722−1724
  172. Radu I., Bartnikas R. and Wertheimer M. R. Frequency and voltage dependence of glow and pseudoglow discharges in helium under atmospheric pressure.// IEEE Trans. Plasma Sci. 2003. V.31 P.1363−78.
  173. Brandenburg R., Maiorov V.A., Golubovskii Yu.B. et al. Diffuse barrier discharges in nitrogen with small admixtures of oxygen: discharge mechanism and transition to the filamentary regime. // J. Phys. D: Appl. Phys. 2005. V.38. P.2187−2197.
  174. Maiorov V.A. and Golubovskii Yu.B. Modelling of atmospheric pressure dielectric barrier discharges with emphasis on stability issues.// Plasma Sources Sci. Technol. 2007. V.16. S67-S75.
  175. Okazaki S., Kogoma M., Uehara M. and Kimura Y. Appearance of stable glow discharge in air, argon, oxygen and nitrogen at atmospheric pressure using a 50 Hz source.//! Phys. D: Appl. Phys. 1993. V.26. P.889−892.
  176. Tachibana K., Kishimoto Y. and Sakai O. Measurement of metastable He*(23Si) density in dielectric barrier discharges with two different configurations operating at around atmospheric pressure. // J. of Appl. Phys. 2005. V.97. 123 301.
  177. Pons J., Moreau E. and Touchard G. Asymmetric surface barrier discharge in air at atmospheric pressure: electric properties and induced airflow characteristics. // J. Phys. D: Appl. Phys. 2005. V. 38. P. 3635−3642.
  178. Forte M., Jolibois J., Moreau E. et al. Optimization of a dielectric barrier discharge actuator by stationary and non-stationary measurements of the induced flow velocity: application to airflow control.// Exp. Fluids. 2007. V.44. P. 917−928.
  179. Valdivia-Barrientos R., Pacheco-Sotelo J., Pacheco-Pacheco M. Et al. Analysis and electrical modelling of a cylindrical DBD configuration at different operating frequencies.// Plasma Sources Sci. Technol. 2006 V.15. P. 237−245.
  180. А.А., Цветков B.M. Исследование эффективности УФ-излучения лампы барьерного разряда для смеси Xe/SF6. // ЖТФ. 2008. Т.78. В. 10. С.83−86.
  181. Mangolini L., Anderson С., Heberlein J. and Kortshagen U. Effects of current limitation through the dielectric in atmospheric pressure glows in helium. // J. Phys. D: Appl. Phys. 2004. V. 37. P. 1021−1030.
  182. Yurgelenas Yu.V. and Wagner H.-E. A computational model of a barrier discharge in air at atmospheric pressure: the role of residual surface charges in microdischarge formation. // J. Phys. D: Appl. Phys. 2006. V.39. P.4031−4043.
  183. E.A., Kudryavtsev A.A., Arslanbekov R.R. 2D simulations of short-pulsed dielectric barrier discharge xenon excimer lamp. // Contrib. Plasma. Phys. 2006. V. 46. No. 10. P. 807−816.
  184. Rauf S. and Kushner M. J. Dynamics of a coplanar-electrode plasma display panel cell. I. Basic operation.// J. of Appl. Phys. 1999. V. 85. No. 7. P. 3460−3469.
  185. Muraoka K., Azumi M., Suzuki K., Yamagata Y. and Yagi M. A model for striation formation in ac PDP Discharges.// J. Phys. D: Appl. Phys. 2006. V.39. P.2135−2139.
  186. Wang Y.H., Zhang Y.T., Wang D.Z. and Kong M.G. Period multiplication and chaotic phenomena in atmospheric dielectric-barrier glow discharges.// Appl. Phys. Letters. 2007. V. 90. 71 501 (3p).
  187. Braun D., Gibalov V. and Pietsch G. Two-dimentional modeling of the dielectric barrier discharge in air. // Plasma Source Sci. Technol. 1992. V.l. P. 166 174.
  188. Gibalov V. and Pietsch G. The development of dielectric barrier discharges in gas gaps and on surfaces. // J. Phys. D: Appl. Phys. 2000. V.33. P.2618−2636.
  189. Xu X.P. and Kushner M.J. Multiplle microdischarge dynamics in dielectric barrier discharges. // J. Appl. Phys. 1998. V.84. No.8. P.4153−4160.
  190. Wagenaars E., Brandenburg R., Brok W.J.M. et al. Experimental and modeling investigations of a dielectric barrier discharge in low-pressure argon.// J. Phys. D: Appl. Phys. 2006. V.39. P. 700−711.
  191. Zhang Y.T., Wang D.Z., Wang Y.H. Two-dimensional numerical simulation of the splitting and uniting of current-carrying zones in a dielectric barrier discharge.// Physics of Plasmas. 2005. V. 12. 103 508.
  192. Zhang Y.T., Wang D.Z., Kong M.G. Two-dimensional simulation of a low-currnt dielectric barrier discharge in atmospheric helium. // J. Appl. Phys. 2005. V.98. 113 308.
  193. Zhang P. and Kortshagen U. Two-dimensional numerical study of atmospheric pressure glows in helium with impurities.// J. Phys. D: Appl. Phys. 2006. V.39. P.153−163.
  194. Birdsall C. K. Particle-in-Cell Charged-Particle Simulations, Plus Monte Carlo Collisions with Neutral Atoms, PIC-MCC. // IEEE Trans. Plasma Sci. 1991. V. 19, No. 2, P.65−85.
  195. Longo S. Monte Carlo simulation of charged species kinetics in weakly ionized gases. //Plasma Sources Sci. Technol. 2006. V.15. P. S181-S188.
  196. Eliasson В. and Kogelschatz U. UV excimer radiation from dielectric-barrier discharges.// Appl. Phys. B. 1988. V.46. P.299−303.
  197. Kogelschatz U. Silent-discharge driven excimer UV sources and their applications.// Appl. Surf. Sci. 1992. V. 54. P. 410−423.
  198. Esrom H. and Kogelschatz U. Modification of surfaces with new excimer UV sources. Thin Solid Films. // Thin Solid Films. 1992. V. 218. P. 231−246.
  199. B.A., Скакун B.C., Сморудов Г. В. и др. Коаксиальные эксилампы, накачиваемые барьерным и продольным разрядами.// Квантовая электроника. 1995. Т.22. № 5. С.519−522.
  200. Vollkommer F. and Hitzschke L. Proc. 8th Int. Symp. on Science and Technology of Light Sources (LS-8). 1998. Greifswald, Germany. IL-07, P.51−60.
  201. Mildren R.P., Carman R.J. and Falconer I.S. Visible and VUV images of dielectric barrier discharges in Xe. // J. Phys. D: Appl. Phys. 2001. V.34. P.3378−3382.
  202. A.H., Поляк A.B., Блонский И. В., Зубрилин Н. Г. Эксимерный источник излучения фотобиологического действия.// ЖТФ. 2004. Т.74. В.2. С. 73.
  203. М.И., Тарасенко В. Ф., Ткачев А. Н. и др. О формировании конусообразных микроразрядов в KrCl и ХеС1 эксилампах.// ЖТФ. 2004. Т.74. В.6. С. 129−133.
  204. Guivan N. N., Janca J., Brablec A. et al. Planar UV excilamp excited by a surface barrier discharge. // J. Phys. D: Appl. Phys. 2005. V.38. P. 3188−3193.
  205. М.И., Скакун B.C., Тарасенко В. Ф., Шитц Д. В. Мощная эксилампа на димерах ксенона. // Письма в ЖЭТФ. 2006. Т. 32. В. 11. С. 68−73.
  206. С.М., Костыря И. Д., Соснин Э. А., Тарасенко В. Ф. О формировании импульсов наносекундной длительности в ХеВг-эксилампе барьерного разряда. // ЖТФ. 2006. Т. 76. В. 7. С. 59−63.
  207. М.И., Тарасенко В. Ф., Шитц Д. В. О формировании барьерного разряда в эксилампах.// ЖТФ. 2007. Т. 77. В. 8. С. 86−92.
  208. М.И., Скакун B.C., Тарасенко В. Ф., Шитц Д. В. Одно- и двухбарьерные эксилампы ВУФ диапазона на димерах ксенона.// ЖТФ. 2008. Т.78. В.2. С.103−107.
  209. Г. Н., Крылов Б. Е., Логинов А. В., Щукин С. А. Ультрафиолетовое излучение возбужденных молекул инертных газов. // УФН. 1992. Т. 162. № 5. С. 123−159.
  210. Г. Н. Оптические спектры бинарных смесей инертных газов. // УФН. 2004. Т. 174. № 2. С. 155−175.
  211. Morozov A., Krylov В., Gerasimov G. et al. VUV emission spectra from binary rare gas mixtures near the resonance lines of Xel and KrI.// J. Phys. D: Appl. Phys. 2003. V. 36. P. 1126−1134.
  212. Мак-Каскер M. Эксимеры инертных газов. В кн.: Эксимерные лазеры. Под ред. Ч. Роудза. М. Мир. 1983. С. 70−117.
  213. Ч. Эксимерные лазеры на галогенидах инертных газов. В кн.: Эксимерные лазеры. Под ред. Ч. Роудза. М. Мир. 1983. С. 118−172.222. http://www. ushio.com.org/223. http://www.heraeus-noblelight.com/224. http://www.osram.com/
  214. Oda A., Sakai Y., Akashi H. and Sugawara H. One-dimensional modeling of low-frequency and high-pressure Xe barrier discharges for the design of excimer lamps.// J. Phys. D: Appl. Phys. 1999. V. 32. P. 2726.
  215. Zvereva G.N. and Gerasimov G.N. Numerical Simulations of a Barrier Discharge in Xe. Optics and Spectroscopy. 2001. V. 90. No.3. P.321−328.
  216. Zvereva G.N. Calculation of the parameters of vacuum-ultraviolet emission of excimers in the plasma of a barrier discharge in a krypton-xenon mixture. // Optics and Spectroscopy. 2003. V. 94. No.2. P. 191−198.
  217. A.H., Яковленко С. И. Моделирование формирования плазмы в прикатодном слое разряда эффективных эксиламп.// ЖТФ. 2003. Т.73. В.2. С.56−64.
  218. Beleznai Sz., Mihajlik G., Maros I., et al. Improving the efficiency of a fluorescent Xe dielectric barrier light source using short pulse excitation.// J. Phys. D: Appl. Phys. 2008. V. 41. 115 202.
  219. Adler F. and Muller S. Formation and decay mechanisms of excimer molecules in dielectric barrier discharges. // J. Phys. D: Appl. Phys. 2000. V. 33. P. 1705−1715.
  220. Golubovskii Yu.B., Lange H., Maiorov V.A. et al. On the decay of metastable and resonance Xe atoms in the afterglow of a constricted discharge.// J. Phys. D: Appl. Phys. 2003. V. 36. P. 694−703.
  221. Jou S.-Y., Hung C.-T., Chiu Y.-M, Wu J.S. and Wei B.-Y. Simulation of excimer ultraviolet (EUV) emission from a coaxial xenon excimer lamp driven by distorted bipolar square voltages.// Plasma Chem. Plasma Process. 2010. V.30. pp. 907−931.
  222. Shinoda T. and Niinuma A. Logically Addressable Surface Discharge ac Plasma Display Panels with a New Write Electrode. // SID. 1984. V. 84 P. 172.
  223. Holz G. E. The Primed Gas Discharge Cell A Cost and Capability Improvement for Gas Discharge Matrix Displays. // SID. 1972. V.72. P. 36.
  224. Sahni O., Lanza C. and Howard W. E. One-dimensional numerical simulation of ac discharges in a high-pressure mixture ofNe+0.1% Ar confined to a narrow gap between insulated metal electrodes. // J. Appl. Phys. 1978. V. 49. P. 2365.
  225. Sahni O. and Lanza C. Influence of the secondary electron emission coefficient of argon on Paschen breakdown curves in ac plasma panels for neon+0.1% argon mixture. // J. Appl. Phys. 1976. V. 47. P. 5107.
  226. Sahni O. and Lanza C. Importance of the dependence of the secondary electron emission coefficient on E/po for Paschen breakdown curves in ac plasma panels.// J. Appl. Phys. 1976 V. 47. P. 1337.
  227. Meunier J., Belenguer Ph., and Boeuf J. P. Numerical model of an ac plasma display panel cell in neon-xenon mixtures. // J. Appl. Phys. 1995. V.78. P. 731−745.
  228. Hachigushi S. and Tachibana K. Improvement of Efficiency of Ultraviolet Radiation in a Plasma Display Panel with a Complex Buffer Gas.// Japan. J. Appl. Phys. 2001. V. 40. P. 1448−1456.
  229. Veerasingam R., Campbell R. B. and McGrath R. T. One-dimensional fluid and circuit simulation of an AC plasma display cell. // IEEE Trans. Plasma Sci. 1995. V. 23. P. 688−697.
  230. Veerasingam R., Campbell R. B. and McGrath R. T. One-dimensional single and multipulse simulations of the ON/OFF voltages and the bistable margin for He, Xe, and He/Xe filled plasma display pixels .// IEEE Trans. Plasma Sci. 1996. V. 24. P. 1399−1410.
  231. Veerasingam R., Campbell R. B. and McGrath R. T. One-dimensional fluid simulations of a helium-xenon filled ac colour plasma flat panel display pixel. // Plasma Sources Sci. Technol. 1997. V. 6. P. 157−169.
  232. McGrath R. T., Veerasingam R., Hunter J. A. et al. Measurements and simulations of VUV emissions from plasma flat panel display pixel microdischarges // IEEE Trans. Plasma Sci. 1998. V. 26. P. 1532−1542.
  233. Uchiike H., Tuchiya N. A. H., Shinoda T. and Fukushima Y. Characteristics of discharge pattern in surface-discharge AC plasma display panels.// IEEE Trans. Electron Devices 1984. V. ED-31. P. 943−950.
  234. Rauf S. and Kushner M. J. Dynamics of a coplanar-electrode plasma display panel cell. I. Basic operation.// J. of Appl. Phys. 1999. V. 85. No. 7. P. 3460−3469.
  235. Seo J. H., Chung W. J., Yoon C. K. et al. Two-dimensional modeling of a surface type alternating current plasma display panel cell: discharge dynamics and address voltage effects. // IEEE Trans. Plasma Sci. 2001. V. 29. P. 824−831.
  236. Hagelaar G. J. M, Klein M. H., Snijkers R. J. M. and Kroesen G.M.W. Energy loss mechanisms in the microdischarges in plasma display panels. // J. Appl. Phys. 2001. V. 89. P. 2033.
  237. Punset C., Boeuf J. P. and Pitchford L. C. Two-dimensional simulation of an alternating current matrix plasma display cell: Cross-talk and other geometric effects. // J. Appl. Phys. 1998. V.83. P. 1884−1897.
  238. Punset C., Cany S. and Boeuf J. P. Addressing and sustaining in alternating current coplanar plasma display panels. // J. Appl. Phys. 1999. V. 86. P. 124−133.
  239. Boeuf J. P. and Pitchford L. C. Calculated characteristics of an ac plasma display panel cell.// IEEE Trans. Plasma Sci. 1996. V. 24. P. 95−96.
  240. Campbell R. B., Veerasingam R. and McGrath R. T. A two-dimensional multispecies fluid model of the plasma in an AC plasma display panel.// IEEE Trans. Plasma Sci. 1995. V. 23. P. 698−708.
  241. Veerasingam R., Campbell R. B. and McGrath R. T. Two-dimensional simulations of plasma flow and charge spreading across barrier pixels in AC plasma displays .// IEEE Trans. Plasma Sci. 1996. V. 24. P. 1411−1421.
  242. Jeong H. S., Shin B. J. and Whang K. W. Two-dimensional multifluid modeling of the He-Xe discharge in an AC plasma display panel.// IEEE Trans. Plasma Sci. 1999. V. 27. P. 171−181.
  243. Rauf S. and Kushner M. J. Dynamics of a coplanar-electrode plasma display panel. II. Cell optimization. // J. Appl. Phys. 1999. V. 85. P. 3470−3476 .
  244. Veronis G. and Inan U. S. Simulation studies of the coplanar electrode and other plasma display panel cell designs. // J. Appl. Phys. 2002. V. 91. P. 9502−9512.
  245. Murakami Y., Matzuzaki H., Murakami K. and Tachibana K. A Two-Dimensional Simulation of Pulsed Discharge for a Color DC-Type Plasma Display Panel. // Japan. J. Appl. Phys. 2000 V. 39. P. 590−597.
  246. Hagelaar G. J. M., deHoog F. J. and Kroesen G.M.W. Boundary conditions in fluid models of gas discharges. // Phys Rev. E. 2000. V. 62. P. 1452−1454.
  247. Hagelaar G. L. M. and Kroesen G.M.W. Speeding Up Fluid Models for Gas Discharges by Implicit Treatment of the Electron Energy Source Term. // J. Comp. Phys. 2000. V.159. P. 1−12.
  248. Shon С. H. and Lee J. К. Striation phenomenon in the plasma display panel.// Phys. Plasmas. 2001. V. 8. P. 1070.
  249. Drallos P. J., Khudik V. N. and Nagorny V. P. 3D Simulations of a SingleSubstrate AC-PDP Cell with Barrier Ribs. // SID Symposium Digest. V. 29. 1998. P. 632−635.
  250. Jeong H. S., Murakami Y., Seki M. and Murakami H. Discharge characteristics with respect to width of address electrode using three-dimensional analysis.// IEEE Trans. Plasma Sci. 2001. V. 29. P. 559−565.266. http://www.siglo-kinema.com/
  251. Ikeda Y., Suzuki K., Fukumoto H. et al. Two-dimensional particle simulation of a sustained discharge in an alternating current plasma display panel.// J. Appl. Phys. 2000. V. 88. P. 6216.
  252. Lee J. K., Dagsteer S., Shon С. H. et al. Striation Mechanism and Triggered Striation in Dielectric Microdischarge Plasma.// Japan. J. Appl. Phys. 2001. V. 40. L528−531
  253. Holstein T. Imprisonment of Resonance Radiation in Gases.// Phys. Rev. 1947. V. 72. P. 1212−1233.
  254. Holstein T. Imprisonment of Resonance Radiation in Gases. II.// Phys. Rev. 1951. V. 83. P. 1159−1168.
  255. A.M., Шибков B.M., Шибкова JI.B. Физические процессы в неравновесной плазме бинарной смеси инертных газов. // Contrib. Plasma Phys. 1986. V. 26. No. 1. P. 37−51.
  256. Ф.А., Девятов A.M., Шибков B.M. Применимость закона Бланка к диффузии метастабильных атомов в бинарных смесях инертных газов.// Вестн. Моск. Ун-та. Сер. 3. Физ. и астрон. 1989. Т.30. № 3. С. 93−95.
  257. Л.В. Физические процессы в движущейся плазме многокомпонентных инертных и химически активных смесей. Автореф. дисс. докт. физ.-мат. наук, Москва. 2007.
  258. О. В. Электрический зонд в плазме. М.: Атомиздат. 1969.
  259. Годяк В. А, Попов О. А. О зондовой диагностике ВЧ плазмы.// ЖТФ. 1977. Т.47. № 4. С. 766−771.
  260. Ю.П. Физика газового разряда. М.: Наука, 1987. 592 с.
  261. А.В., Смирнов Б. М. Элементарные процессы в плазме. В кн. Энциклопедия низкотемпературной плазмы. Вводный том I. / Под ред. В. Е. Фортова. М.:Наука, МАИК «Наука/Интерпериодика», 2000, С. 232.
  262. Чан П., Тэлбот JL, Турян К. Электрические зонды в неподвижной и движущейся плазме (теория и применение). М.: Мир, 1978.
  263. Биберман JL, Панин Б. Измерение параметров ВЧ безэлектродного разряда с помощью двух зондов.// ЖТФ. 1951. Т. 21. № 1. С. 12.
  264. С.Д., Каган Ю. М., Перель В. И. Об определении параметров плазмы с помощью метода двух зондов.// Вестник ЛГУ. Сер. Физика и Химия. 1956. № 22, вып. 4. С. 75−78.
  265. С.В., Оторбаев Д. К. Функция распределения электронов в высокочастотном разряде в аргоне. Материалы 9 школы по плазмохимии для молодых ученых России и стран СНГ. ИГХТУ. Иваново. Россия. 1999. С. 136 139.
  266. С.В. Функция распределения электронов в ВЧЕ разряде в аргоне.// Известия Вузов. 2008. № 7−8. С. 10−17.
  267. Meijer P. The electron dynamics of RF discharges. PhD Thesis. 1991. Utrecht. The Netherlands.
  268. Ю.Б., Кудрявцев A.A., Некучаев В. О., Порохова И. А., Цендин Л. Д. Кинетика электронов в неравновесной газоразрядной плазме. СПб.: Изд-во С.-Петербургского унив., 2004. 248 с.
  269. В.И., Колоколов Н. Б., Кудрявцев А. А. Зондовые методы исследования низкотемпературной плазмы. М.: Энергоатомиздат, 1996. 240 с.
  270. Vallinga P.M. Modelling of RF plasmas in a parallel plate etch reactor.-Ph.D.Thesis. Eindhoven, The Nederlands.-1988.
  271. Bell K.L., Scott N.S., and Lennon M.A. The scattering of low-energy electrons by argon atoms.// J. Phys. B: At. Mol. Phys.- V. 17.-P. 4757.-1984.
  272. Rapp D. and Englander-Golden P. Total Cross Sections for Ionization and Attachment in Gases by Electron Impact. I. Positive Ionization.// J.Chem. Phys.-V.43.-P.1464.- 1965.
  273. Fletcher J. and Cowling I.R. Electron impact ionization of neon and argon.// J. Phys. B: At. Mol. Phys.- V.6.- P. L258.- 1973.
  274. Е.П., Ковалев A.C., Рахимов A.T. Физические явления в газоразрядной плазме. М.: Наука. Гл. ред. Физ.-мат. лит., 1987. 160 с.
  275. Avtaeva S.V., Otorbaev D.K. Diagnostics of plasma parameters in RF discharge in CF3Br during etching of semiconductors. //J. Phys. D: Appl. Phys. 1993. V. 26. No.12. P. 2148−2153.
  276. Л.А., Собельман И. И., Юков E.A. Возбуждение атомов и уширение спектральных линий.- М.: Наука.- 1979.
  277. С.В. Влияние магнитного поля на электрические и оптические характеристики ВЧЕ разряда в аргоне. Наука и Новые Технологии. 2009. № 4. С.34−40.
  278. С.В., Оторбаев Д. К. Характеристики высокочастотного разряда магнетронного типа в аргоне. ФНТП-2001. Петрозаводск. ПГУ. 2001. Т.1. С.271−275.
  279. Hutchinson A.W., Turner М.М., Doyle R.A., and Hopkins M.B. The Effects of a Small Transverse Magnetic Field upon a Capacitively Coupled RF Discharge.// Trans. Plasma. Sci. 1995. V. 23. P. 636−643.
  280. Liebermann M.A., Lichtenberg A.J., and Sava S.E., Model of Magnetically Enhanced, Capacitive RF Discharges.//IEEE Trans. Plasma. Sci. 1991. V. 19. P. 189 196.
  281. Avtaeva S.V., Otorbaev D.K. Spectroscopy and langmuir probe diagnostics of magnetically enhanced capacitive RF discharge in argon. ISPC-15. Orleans, France. 2001. V. IV. P. 1267−1272.
  282. Park J.-C., and Kang B. Reactor Modeling of Magnetically Enhanced Capacitive RF Discharge. // IEEE Trans. Plasma. Sci. 1997. V.25. P. 499.
  283. Lu J. and Kushner M. J. Modeling of magnetron etching discharges.//! Vac. Sci. Technol. A. 2001.V.19. P. 2652−2663.
  284. Avtaeva S.V., Mamytbekov M.Z., Otorbaev D.K. The structure of the magnetically enhanced capacitive RF discharge. XIV ISPC. Prague. Czech Republic. 1999. V. 2. P. 577−581.
  285. C.B., Оторбаев Д. К. Экспериментальные исследования высокочастотного разряда магнетронного типа в аргоне. Материалы II Всерос. научн. конф. Молекулярная физика неравновесных систем. Ивановский гос. унив. Иваново. Россия. 2000. С.50−55.
  286. SIGLO-RF v.1.0. KINEMA SOFTWARE & СРАТ. 1995: http://www.kinema.com
  287. Boeuf J.P., Pitchford L.C. Two-dimensional model of a capacitively coupled rf discharge and comparisons with experiments in the Gaseous Electronics Conference reference reactor//Phys. Rev. E. 1995. V. 51. P. 1376−1390.
  288. C.B., Лапочкина T.M., Оторбаев Д. К. Исследование влияния межэлектродного расстояния на пространственную структуру и характеристики ВЧЕ разряда диодной конфигурации в аргоне.// Вестник КРСУ. 2004. Т. 4. № 6. С. 28−32.
  289. С.В., Лапочкина Т. М., Оторбаев Д. К. Моделирование характеристик ВЧЕ разряда в аргоне: влияние межэлектродного расстояния. Известия вузов. 2004. № 8. С.11−14.
  290. С.В., Лапочкина Т. М., Оторбаев Д. К. Расчет характеристик ВЧ разряда.// Вестник КРСУ. 2003. Т. 3. № 5. С.3−11.
  291. Avtaeva S.V., Otorbaev D.K. and Lapochkina T.M. Numerical simulation of RF discharge characteristics in argon and methane. PPPT-4. Minsk, Belarus. 2003. V.1,P. 70−73.
  292. Lelevkin V.M., Otorbaev D.K. and Schram D.C. Physics of non-equilibrium Plasmas. 1992. Amsterdam: Elsevier.
  293. Wiese W.L., Smith M.W. and Miles B.M. Atomic Transition Probabilities. V.2. Sodium through Calcium. Washington, DC: NSRDS-NBS 22. 1969.
  294. Я.Ф., Ошерович A.Jl. Экспериментальное определение времен жизни и вероятностей переходов в Ar I.// Опт. и спектр. 1968. Т.25. В.З. С. 466.
  295. П.Ф. Вероятности переходов и радиационные времена жизни уровней атомов и ионов. М.: Энергоатомиздат. 1990. С. 199.
  296. Wiese W.L., Smith M.W. and Glennon B.M. Atomic Transition Probabilities. V.l. Hydrogen through Neon. Washington, DC: NSRDS-NBS 4. 1966.
  297. Bengtson R., Miller M., Koopman D. and Wilkerson T. Atomic transition probabilities of the halogens.// Phys. Rev. A. 1971. V.3. No.l. P. 16−24.
  298. M.Jl., Комаровский В. А. Радиационные времена жизни возбужденных состояний атома брома.// Опт. и спектр. 1984. Т.57. В. 2. С.362−364.
  299. Бурштейн M. J1. Исследование процессов радиационного и столкновительного разрушения возбужденных состояний атомов галогенов. Автореф. дисс. Л.: ЛГУ. 1986. 16 с.
  300. А.В. Радиационные времена жизни возбужденных состояний атома брома. Опт. и спектр. 1985. Т.59. B.l. С.224−226.
  301. Г. К., Словецкий Д. И., Федосеев Т. В. Исследование механизмов возбуждения частиц в тлеющем разряде в тетрафторметане.// ТВТ. 1983. Т. 21. № 4. С. 652−660.
  302. Ibbotson D.E., Flamm D.L., Donelly V.M. Crystallographic etching of GaAs with bromine and chlorine plasmas. //J. Appl. Phys. 1983. V.54. No.10. P. 5974−5981.
  303. Coburn J.W., Chen M. Optical emission spectroscopy of reactive plasmas: a method for correlating emission intensities to reactive particle density.// J. Appl. Phys. 1980. V.51. No.6. P.3134−3136.
  304. Avtaeva S.V., Otorbaev D.K. Diagnostics of plasma parameters in RF discharge in CF3Br during etching of semiconductors. //J. Phys. D: Appl. Phys. 1993. V. 26.No.12. P. 2148−2153.
  305. Avtaeva S.V., Otorbaev D.K., Ishikaev R.M. Plasma parameters in RF discharge in CF3Br during etching of semiconductors. XI ESCAMPIG. St. Petersburg. Russia. 1992. P.408−409.
  306. Otorbaev D.K. at al. Electron-excited molecules in non-equilibrium plasma. 1985. New York: Nova Science. P. 121−173.
  307. Д.К., Очкин B.H., Савинов С. Ю., Соболев Н. Н., Цхай С. Н. О передаче значительного момента импульса при электронном возбуждении молекул. //Письма в ЖЭТФ. 1978. Т.28. С.424−429.
  308. A.M. Исследование наблюдаемой интенсивности электронно-колебательных полос двухатомных молекул с неразрешенной вращательной структурой. //Опт. и Спектр. 1971. Т.ЗО. В.2. С.211−219.
  309. Н.Б. Справочник по теплофизическим свойствам газов и жидкостей. М.: Наука. 1972. 720 с.
  310. С.В. Модель химических реакций в CBrF3 плазме ВЧЕ разряда. IV Международный симпозиум по теоретической и прикладной плазмохимии (ISTAPC-2005). Иваново, Россия. 2005. T.l. С.201−203.
  311. Avtaeva S.V. Chemistry in CBrF3 plasma of the RF discharge. ISPC-17. Toronto, Canada. 2005, P. 179−180.
  312. С.В. Модель химических реакций в CBrF3 плазме ВЧЕ разряда.// Известия Вузов. 2009. № 1. С.3−10.
  313. Л.С., Гольденберг М. Я., Левицкий А. А. Вычислительные методы в химической кинетике. М.: Наука, 1984. 280 с.
  314. С.В., Барышев Ю. П., Валиев К. А. и др. Исследование низкотемпературной плазмы CF3Br и процессы глубинного анизотропного травления кремния в диодном реакторе. В кн.: Проблемы субмикронной технологии. Труды ФТИ РАН. Москва: Наука. 1993. С. 3−16.
  315. С.В., Скорняков А. В. Электрические характеристики ВЧЕ разряда в метане. ISTAPC-2008. ИГХТУ, Иваново, Россия. 2008. Т.2. С. 540 543.
  316. Р., Гейдон А. Отождествление молекулярных спектров. /Пер. с англ. Под ред. Мандельштама С. Л., Аленцева М.Н.- М.: Наука, 1949.
  317. Хьюбер К.-П., Герцберг Г. Константы двухатомных молекул. 4.2. М.: Мир, 1984.
  318. Pastol A., Catherine Y. Optical emission spectroscopy for diagnostic and monitoring of CH4 plasmas used for a-C:H deposition // J. Phys. D. 1990. V.23. P.799.
  319. Aarts J.F.M., Beenakker C.I.M. and F.J. de Heer. Radiation from CH4 and C2H4 produced by electron impact // Physica. 1971. V. 53. P. 32−44.
  320. B.E., Иванов Ю. А., Словецкий Д. И. и др.// Механизм возбуждения атомов Аг и Н и концентрация атомарного водорода в положительном столбе тлеющего разряда в смесях Аг + СН4. //ХВЭ, 1983. Т. 17. № 2. С. 164.
  321. Ю.А. и др. В кн.: Физико-химические процессы в низкотемпературной плазме. М.: ИНХС АН СССР, 1985. С. 140.345. BOLSIG 1997 CP AT: http://www.cpat.ups-tlse.fr/operations/operation03/POSTERS/BOLSIG/index.html
  322. Morgan W.L. A Critical Evaluation of Low-Energy Electron Impact Cross Sections for Plasma Processing Modeling. II: CF4, SiLL^ and CH4.// Plasma Chemistry and Plasma Processing. 1992. V. 12. No.4. P. 477−492.
  323. Kleinpoppen H. and Kraiss E. Cross section and polarization of the Ha line by electron impact excitation. //Phys. Rev. Letters. 1968. V. 20. No.8. P. 361−363.
  324. .П., Пипа A.B. Учет тонкой структуры уровней атома водорода в эффективных сечениях возбуждения линий серии Бальмера электронным ударом в газах и плазме. //Оптика и спектроскопия. 2002. Т. 92. № 5. С. 709−719.
  325. Sasic О., Malovid G., Strinic A. et al. Excitation coefficients and cross-sections for electron swarms in methane. //New Journal of Physics. 2004. V. 6. 74.
  326. С ловецкий Д. И. Механизмы химических реакций в неравновесной плазме. М.: Наука, 1980.
  327. Slocomb С.A., Miller W.H., Schaefer H.F. Collisional Quenching of Metastable Hydrogen Atoms.// J. Chem. Phys. 1971. V. 55. No. 2. P.926.
  328. Tochikubo F., Makabe Т., Kakuta S., Suzuki A. Study of the Structure of Radio Frequency Glow Discharges in CH4 and H2 by Spatiotemporal Optical Emission Spectroscopy. // J. Appl. Phys. 1992. V.71. No.5. P.2143.
  329. .М. Ионы и возбужденные атомы в плазме. М.: Атомиздат, 1974.
  330. Calloway J.// Electron-impact excitation of hydrogen atoms: Energies between the n=3 and n=4 threshold. // Phys. Rev. A. 1988. V.37. P.3692.
  331. Hills D., Kleinpoppen H., Koschmieder H. Remeasurement of the total cross section for excitation of the hydrogen 22Si/2 state by electron impact. //Proc. Phys. Soc. 1966. V.89, P.35.
  332. Chutjon A., Cartwright D.C. Electron-impact excitation of electronic states in argon at incident energies between 16 and 100 eV. //Phys.Rev.A. 1981. V.23. P.2178.
  333. С.В., Мамытбеков М. З., Оторбаев Д. К. Сравнительные характеристики плазмы ВЧ и МВЧ разрядов в смеси метана с аргоном. ISTAPC-95. Иваново. Россия. 1995. С. 368−370.
  334. Avtaeva S.V., Mamytbekov M.Z., Otorbaev D.K. Atomic hydrogen density in a ordinary and magnetically-enhanced RF discharge plasma in the gas mixture argon/methane. XII ESCAMPIG. Noordwijkerhout, Netherlands. 1994. V.18E. P. 480−481.
  335. Avtaeva S.V., Mamytbekov M.Z., Otorbaev D.K. Diagnostics of magnetically-enhanced RF discharge plasmas in methane: absolute density of hydrogen atoms. XII ISPC. Minneapolis, Minnesota. USA. 1995. V.l. P.409−414.
  336. C.B. К вопросу о механизме образования атомарного водорода в высокочастотном разряде магнетронного типа в смеси Аг-СРЦ ISTAPC-2002. Иваново. ИГХТУ. 2002. С.88−91.
  337. A.A., Смирнов Б. М. Справочник по атомной и молекулярной физике. М.: Атомиздат. 1978.
  338. В.И., Гурвич JI.B., Кондратьев В. Н. и др. Энергии разрыва химических связей. Справочник АН СССР. М.: Физматгиз. 1962.
  339. Ю.А. В кн.: Энциклопедия низкотемпературной плазмы. / Под ред. Фортова В.Е. М.: Наука. 2000. Т.З. С.330−345.
  340. Walker Jr. J.D., John R.M.S. Design of a high density atomic hydrogen source and determination of Balmer cross sections // J. of Chem. Phys. 1974. V. 61. P. 23 942 407.
  341. C.B., Лапочкина T.M., Оторбаев Д. К. Спектроскопические измерения характеристик ВЧЕ-разряда в метане. Вестник КРСУ. 2005. Том 5. № 1. С.23−28.
  342. С.В., Лапочкина Т. М. Распределения атомов и молекул водорода по энергетическим уровням в ВЧЕ разряде в метане. //Вестник Ысыккульского университета. 2005. № 15. С. 28−32.
  343. С.В., Лапочкина Т. М., Оторбаев Д. К. Спектральная диагностика характеристик ВЧЕ разряда в метане. Часть 1. Распределение атомов водорода по энергетическим уровням. ISTAPC-2005. Иваново, Россия. 2005. Т.2. С.467−471.
  344. Avtaeva S.V., Lapochkina Т.М. and Otorbaev D.K. Experimental investigation of the magnetically enhanced RF discharge in methane. ISPC-17. Toronto, Canada. 2005. P.98−99.
  345. A.B., Смирнов Б. М. Диссоциативная рекомбинация электрона и молекулярного иона// УФН. 1982. Т. 136. С. 25−59.
  346. Mohlmann G.R., de Heer F.J. Emission cross sections of the H23 3 +
  347. Зр Пи—>2s? g transition) for electron impact on H2 // Chem. Phys. Lett. 1976. V. 42. P. 240−244.
  348. C.B., Лапочкина T.M., Оторбаев Д. К. Спектральная диагностика характеристик ВЧЕ разряда в метане. Часть 2. Молекулярный водород. ISTAPC-2005. Иваново, Россия. 2005. Т.2. С. 471−475.
  349. S.V. Avtaeva, Т.М. Lapochkina and D.K. Otorbaev. Experimental investigation of the magnetically enhanced RF discharge in methane. ISPC-17. Toronto, Canada. 2005, P.98−99.
  350. Ю.С., Чувашев C.H. Равновесные и неравновесные распределения связанных и свободных частиц плазмы. В кн.: Энциклопедия низкотемпературной плазмы. Вводный том I. Под ред. В. Е. Фортова. М.: Наука (МАИК «Наука/Интерпериодика»), 2000. С. 72−101.
  351. Г. Спектры и строение простых свободных радикалов. М.: Мир. 1974. 208 с.
  352. Хьюбер К.-П., Герцберг Г. Константы двухатомных молекул. 4.1. М.: Мир, 1984.
  353. В.Н., Савинов С. Ю., Соболев Н.Н.// В кн.: Электронно -возбужденные молекулы в неравновесной плазме Труды ФИАН. Т. 157. М.:Наука. 1985. С. 62.
  354. Л.А., Кузьменко Н.Е, Кузяков Ю. Я, Пластинин Ю. А. Вероятности переходов двухатомных молекул. Под ред. Р. В. Хохлова. М.: Наука. 1980. 319 с.
  355. Н.Е., Кузнецова Л. А., Кузяков Ю. А. Факторы Франка-Кондона двухатомных молекул. М.: Изд-во МГУ, 1984. 344 с.
  356. Spindler Jr. R.J. Franck-Condon factors for band systems of molecular hydrogen II. The (С'ли-Х'а^), (0'л:и-Х'о+8) and (h3a+g-c37tu) systems.// J. Quant. Spectrosc. Radiat. Transfer. 1969. V. 9. P. 627−642.
  357. Spindler Jr. R.J. Franck-Condon factors for band systems of molecular hydrogen I. The (B'l+U — X1!^), (1% - B’S+U) and (d3?u — a3E+g) systems.// J. Quant. Spectrosc. Radiat. Transfer. 1969. V. 9. P. 597−626.
  358. Lavrov B.P., Melnikov A.S., Kaning M., and Ropcke J. UV continuum emission and diagnostics of hydrogen-containing nonequilibrium plasmas.// Phys. Rev. E. 1999. V. 59. No.3. P.3526−3543.
  359. Kovacs I. Rotational structure in the spectra of diatomic molecules. London: Adam Hilger Ltd. 1969. 320 p.
  360. .П., Оторбаев Д. К. Измерение газовой температуры плазмы низкого давления по интенсивностям молекулярных полос Н2 и Д2. Фрунзе. Изд-во Илим, 1978. 69с.
  361. А.И., Лавров Б. П. Об определении газовой температуры по распределению интенсивности во вращательной структуре полос двухатомных молекул, возбуждаемых электронным ударом.// ТВТ. 1988. Т. 26. № 1. С. 147 154.
  362. А.П., Котликов Е. Н., Оторбаев Д. К. и др. Возбуждение колебательно-вращательных уровней водорода электронным ударом в неравновесной плазме газового разряда.// ЖЭТФ. 1980. Т. 79. № 5. С. 16 871 703.
  363. В.Д., Фридман А. А. Физика химически активной плазмы. М.: Наука, 1984.
  364. Л.М., Воробьев B.C., Якубов И. Т. Кинетика неравновесной низкотемпературной плазмы. М.: Наука, 1982.
  365. Неравновесная колебательная кинетика./Под ред. М. Капители М.: Мир, 1989. 392 с.
  366. Koulidiati P.J. Mesure des temperatures de rotation et de vibration a partir des specters moleculaires partiellement resoles. Rapport. Technische Universiteit Eindhoven. 1991. VDF/NT 91−19.
  367. Avtaeva S.V., Kulumbaev E.B., Mamytbekov M.Z., Otorbaev D.K. Molecular emission spectroscopy for diagnostics of magnetically enhanced RF discharge. V European Conf. on Thermal plasma processes (TPP-5). St. Petersburg. Russia. 1998.
  368. C.B., Мамытбеков M.3., Оторбаев Д. К. Возбуждение СН радикалов в метансодержащей плазме ВЧ разряда. Сб. материалов V научной конф. КРСУ, Бишкек. 1998. Т.1. С. 43−44.
  369. С.В., Мамытбеков М. З., Оторбаев Д. К. Экспериментальные исследования вращательной и колебательной температур СН радикалов вметансодержащей плазме ВЧ разряда. Сб. научн. трудов. КРСУ. Бишкек. 1998. С.5−13.
  370. B.C., Нагнибеда К. А., Рындалевская М. А. Некоторые вопросы кинетической теории химически реагирующей смеси газов. JL, 1977.
  371. К. Теория и приложения уравнения Больцмана. М., 1978.
  372. К., Томсон Р. Численное моделирование газовых лазеров. М., 1981.
  373. Мик Д., Крэггс Д. Электрический пробой в газах. М., 1960.
  374. Eliasson В., Hirth М., Kogelschatz U. Ozone synthsis from oxygen in dielectric-barrier discharges. BBC Report, Baden, 1986.
  375. Ю.Б., Кудрявцев А. А., Некучаев B.O. и др. Кинетика электронов в неравновесной газоразрядной плазме. СПб.: Изд-во С.-Пб. Университета, 2004.
  376. Кудрявцев А. А, Цендин Л. Д. О физической модели короткого тлеющего разряда для плазменных дисплеев (PDP). // Письма в ЖТФ. 2001. Т.27. № 7. С. 46.
  377. Hagelaar G.J.M. and Pitchford L.C. Solving the Boltzmann equation to obtain electron transport coefficients and rate coefficients for fluid models // Plasma Sources Sci. Technol. 2005. V.14. P.722−733.
  378. Avtaeva S, Kayryev N, Kulumbaev E, Skornyakov A. EEDF, electron transport coefficients and rate constants in xenon discharge. XVII ESCAMPIGI. Lecce, Italy, 2006. P. 169−170.
  379. B.M., Кулумбаев Э. Б., Автаева С. В., Кайрыев Н. Ж., Скорняков А. В. Функция распределения электронов по энергиям в газоразрядной плазме в ксеноне. // Вестник КРСУ. 2006. Т. 6. № 5. С. 82.
  380. Avtaeva S.V., Kulumbaev Е.В., Lelevkin V.M. One-dimensional fluid simulations of 50 KHz high-pressure xenon barrier discharge. V Intern. Conf. Plasma Physics and Plasma Technology. Minsk, Belarus. 2006. V.l. P.86.
  381. C.B., Кулумбаев Э. Б. Влияние схемы плазмохимических процессов на характеристики барьерного разряда в ксеноне.// Физика плазмы. 2008. Т. 34. № 6. С. 497 (Plasma Physics Reports. 2008. V. 34, No. 6. pp. 452−470).
  382. С.В., Скорняков А. В. Влияние нелокальной кинетики электронов на характеристики барьерного разряда в ксеноне. Физика плазмы. 2009. Т.35. №.7. С. 647−656. (Plasma Physics Reports. 2009. V. 35. No. 7. P. 647 656)
  383. C.B., Календарев B.C., Скорняков А. В. Моделирование характеристик барьерного разряда в рамках электротехнической модели. //Вестник КРСУ. 2008. Т. 8. Т. 8. № 10. С.98−105.
  384. Zhu Х.М., Kong M.G. Electron kinetic effects in atmospheric dielectric-barrier glow discharges. // J. Appl. Phys. 2005. V. 97. 83 301 (6p).
  385. Lo D., Shangguan C., Kochetov I.V. and Napartovich A.P. Experimental and numerical studies on Xe2* VUV emission in fast electric discharge afterglow.// J. Phys D: Appl. Phys. 2005. V.38. P. 3430.
  386. Avtaeva S.V., Kulumbaev E.B., Skornyakov A.V. Zero-dimensional model of xenon plasma as a powerful tool for kinetic analysis. V Intern. Conf. Plasma Physics and Plasma Technology. Minsk, Belarus. 2006. V.l. P.82.
  387. C.B. Исследование влияния частоты синусоидального напряжения на характеристики барьерного разряда в ксеноне.// Вестник КРСУ. 2007. Т. 7. № 8. С. 75−83.
  388. Avtaeva S.V., Kulumbaev Е.В. Modeling of effect of voltage frequency and amplitude on Xe DBD characteristics.// Известия вузов. Физика. 2007. № 9. Приложение. С. 122−126.
  389. С.В., Скорняков А. В. Расчет характеристик ксеноновых эксиламп в рамках одномерной гидродинамической модели. Известия Вузов. Физика. 2010. Т.53. № 3. С. 43−47.
  390. С.В., Кулумбаев Э. Б. О влиянии физико-химических процессов на характеристики барьерного разряда в ксеноне. IV междунар. симп. «Горение и плазмохимия», Алматы, Казахстан, 2007. С. 72−74.
  391. Avtaeva S.V., Lelevkin V.M., Kulumbaev Е.В. and Skornyakov A.V. One-dimensional modeling of high pressure xenon barrier discharge. 18th Intern. Sym. on Plasma Chemistry. Abstr. and Full-Papers CD. Kyoto, Japan. 2007, P. 129.
  392. C.B., Кулумбаев Э. Б., Скорняков A.B. Численное исследование влияния давления газа на характеристики плазмы ксенона в барьерном разряде. //Вестник КРСУ. 2007. Т. 7. № 8. С. 89−97.
  393. Avtaeva S.V. and Kulumbaev Е.В. Effect of the AC Voltage Amplitude andlb
  394. Frequency on the Xe DBD characteristics. 11 Intern. Symp. on High Pressure Low Temperature Plasma Chemistry (HAKONE XI), Oleron Island, France, 2008. V. 1. P. 193−197.
  395. Avtaeva S. Influence of Xe percentage in Ne/Xe, He/Xe and He/Ne/Xe plasma on electron kinetics. XVIII ESCAMPIG. Lecce, Italy, 2006. P. 171−172.
  396. Avtaeva S.V., Kayryev N.Z., Kulumbaev E.B., Skornyakov A.V. Electron kinetics in discharge plasma in xenon and helium, neon and xenon mixtures. XVI Intern. Conf. on Gas Discharges and their Applications. Xi’an, China. 2006. V.2. P. 801.
  397. C.B. Параметры электронов в смесях Xe-Ne. ТВТ. 2010. Т. 48. № 3. с. 340−347 (High Temperature. 2010. V. 48.No.3. pp. 321−327)
  398. Urquijo J., Hernandez-Avila J.L. and Basurto E. Electron drift and ionization in Ne-Xe gas mixtures. 17th Int. Symp. on Plasma Chemistry. Full-Papers CD. 2005. Toronto, Canada.
  399. Uchida S., Sugawara H., Sakai Y. et al. Boltzman equation analysis of electron swarm parameters and related properties of Xe/He and Xe/Ne mixtures used for plasma display panels // J. Phys. D: Appl. Phys. 2000. V. 33. P. 62.
  400. Avtaeva S.V. and Kulumbaev E.B. Characteristics of the DBD in 0.95Ne/0.05Xe Mixture. 15th International Symposium on High Current Electronics. Tomsk: Publishing house of the IAO SB RAS, 2008. P.252−255.
  401. C.B. Моделирование характеристик барьерного разряда в смеси 0.05 Хе /0.95 Ne. Вестник КРСУ. 2009. Т. 9. № 11. С. 24−30.
  402. Piscitelli D., Phelps A.V., Urquijo J., Basurto E. and Pitchford L.C. Ion mobilities in Xe/Ne and other rare-gas mixtures. // Phys. Rev. E. 2003. V.68. 46 408.
  403. Boeuf J.P., Punset C., Hirech A. and Doyeux H. Physics and Modeling of Plasma Display Panels. //J. Phys. IV. France. 1997, V.7, P. C4(3−14).
  404. Ikeda Y., Verboncoeur J.P., Christenson P.J. and Birdsall C.K. Global modeling of a dielectric barrier discharge in Ne-Xe mixtures for an alternating current plasma display panel.// J. of Appl. Phys. 1999. V. 86, No.5, P.2431−2441.
  405. Callegari Т., Ganter R. and Boeuf J.P. Diagnostics and modeling of a plasma display panel cell. // J. Appl. Phys. 2000. V. 88. P. 3905−3913.
  406. Von Engel A. Ionised Gases. Clarendon. Oxford. 1965.
  407. Г. Ионизационные явления в газах. М.: Атомиздат, 1964.
  408. B.JI. Электрический ток в газе. Т. 1. Общие вопросы электродинамики газов. M.-JL: Гостехиздат, 1952.
  409. Г. А. Законы подобия в импульсных газовых разрядах.//УФН. 2006. Т. 176. № ю. С. 1069−1091.
  410. С.В., Кулумбаев Э. Б. Численный анализ подобия барьерных разрядов в смеси 0.95 Ne/0.05 Хе. // Физика плазмы. 2009. Т.35. № 4. С. 366−380 (Plasma Physics Reports. 2009. V.35. No.4. P.329−342).
  411. Avtaeva S.V. and Kulumbaev E.B. Characteristics of the Similar DBDs in Ne/Xe Mixture. HAKONE XI, Oleron Island, France, 2008. V. 1. P. 188−192.
  412. С.В., Кулумбаев Э. Б. Исследование законов подобия в барьерных разрядах в смеси 0.95Ne/0.05Xe. ISTAPC-2008, ИГХТУ, Иваново, Россия. 2008, Т.1. С. 246−249.
  413. Bose D., Rao M.V.V.S., Govindan T.R. and Meyyappan M. Uncertainty and sensitivity analysis of gas-phase chemistry in a CHF3 plasma.// Plasma Sources Sci. Technol. 2003. V. 12. P. 225−234.
  414. Kimura T. and Ohe K. Model and probe measurements of inductively coupled CF4 discharges.// J. Appl. Phys., 2002, V. 92, No. 4. P. 1780−1787.
  415. Font G.I., Morgan W.L. and Mennenga G. Cross-section set and chemistry model for the simulation of c-C4F8 plasma discharges.// J. Appl. Phys. 2002. V.91. No.6. P.3530−3538.
  416. Hayes T.R., Wetzel R.C., Freund R.S. Absolute electron-impact-ionization cross-section measurements of the halogen atoms.// Phys. Rev. A. 1987. V.35. No.2. P.578.449. http://kinetics.nist.gov/index.php
  417. H.H. Численные методы. M.: Наука, 1978.
  418. С. Численные методы решения задач теплообмена и динамики жидкости. М.: Энергоатомиздат, 1984.
  419. Scharfetter D. L. and Gummel D. L. Large signal analysis of a silicon read diode oscillator.// IEEE Trans. Electron Devices. 1969. V. ED-16. P. 64−77.
  420. Shampine L.F. and Reichelt M.W. The MATLAB ODE Suite. // SIAM Journal on Scientific Computing. 1997. V. 18. P. 1−22.
  421. Hunter S.R., Carter J.G., and Christophorou L.G. Low-energy electron drift and scattering in krypton and xenon // Phys. Rev. A. 1988. V. 38. P. 5539−5551.
  422. Hayashi M. Determination of electron-xenon total excitation cross-sections, from threshold to 100 eV, from experimental values of Townsend’s a. // J. Phys. D. 1983. V. 16. P. 581−590.
  423. Alford W. J. State-to-state rate constants for quenching of xenon 6p levels by rare gases // J. Chem. Phys. 1992. V. 96. P. 4330.
  424. Salamero Y., Birot A., Brunet H. et al. Kinetic study of the VUV xenon emissions using selective multiphoton excitation.// J. Chem. Phys. 1984. V. 80. P. 4774.
  425. Leichner P. K., Palmer K. F., Cook J. D. and Thieneman M. Two- and three-body collision coefficients for Xe (Pi) and Xe (P2) atoms and radiative lifetime of the Xe2(lu) molecule // Phys. Rev. A. 1976. V. 13. P. 1787−1792.
  426. Brodmann R. and Zimmerer G. Vacuum-ultraviolet fluorescence under monochromatic excitation and collision processes in gaseous Kr and Xe. // J. Phys. B: At. Mol. Phys. 1977. V. 10. P. 3395−3408.
  427. Levin L.A., Moody S.E., Klosterman E. L. et al. Kinetic model for long-pulse XeCl laser performance.// IEEE J. Quantum Electron. 1981. V. 17. P. 2282−2289.
  428. Papanyan V.O., Nersisyan G.Ts., Ter-Avestisyan S.A. and Tittel F.K. Vacuum ultraviolet afterglow emission of rare gases and their mixtures // J. Phys. B: At. Mol. Opt. Phys. 1995. V. 28. P. 807−824.
  429. Oskam H.J. and Mittelstadt V.R. Recombination Coefficient of Molecular Rare-Gas Ions.//Phys. Rev. 1963. V. 132. P. 1445−1454.
  430. Keto J.W., Gleason R.E.Jr. and Walters G.K. Production Mechanisms and Radiative Lifetimes of Argon and Xenon Molecules Emitting in the Ultraviolet. // Phys. Rev. Lett. 1974. V. 33. P. 1365−1368.
  431. Thornton G., Poliakoff E.D., Matthias E. et al. Fluorescence decay of the 0U+ and lu states of Xe2. // J. Chem. Phys. 1979. V. 71. P. 133.
  432. Mansbach P. and Keck K. Monte Carlo Trajectory Calculations of Atomic Excitation and Ionization by Thermal Electrons // Phys. Rev. 1969. V. 181. P. 275 289.
  433. Eckstrom D.J., Nakano H.H., Lorents D.C. et al. Characteristics of electron-beam-excited Xe2* at low pressures as a vacuum ultraviolet source. // J. Appl. Phys. 1988. V.64. P.1679−1690.
  434. Shui Y. J. and Biondi M. A. Dissociative recombination in argon: Dependence of the total rate coefficient and excited-state production on electron temperature. // Phys. Rev. A. 1978. V. 17. P. 868−872.
  435. Werner C. W., George E. V., Hoff P. W. and Rhodes С. K. Radiative and kinetic mechanisms in bound-free excimer lasers .// IEEE J. Quantum Electron. 1977. V. QE-13. P. 769−783.
  436. Galy J., Aouame K., Birot A., Brunet H., and Millet P. Energy transfers in Ar-Xe and Ne-Xe mixtures excited by alpha particles. II. Kinetic study// J. Phys. B. 1993. V. 26. P. 447−488.
  437. Ohwa M., Moratz T. J., and Kushner M. J. Excitation mechanisms of the electron-beam-pumped atomic xenon (5d—>6p) laser in Ar/Xe mixtures// J. Appl. Phys. 1989. V. 66. P. 5131.
  438. A.M., Держиев В. И., Жидков А. Г. и др. Кинетические модели некоторых плазменных лазеров, накачиваемых жестким ионизатором.// Труды ИОФАН. 1989. Т.21. С.44−115.
  439. Johnson Т.Н., Cartland Н.Е., Genoni Т.С. et al. A comprehensive kinetic model of the electron-beam-excited xenon chloride laser. // J. Appl. Phys. 1989. V. 66. No.12. P.5707−5725.
  440. Uhrlandt D. and Franke St. Study of a neon dc column plasma by a hybrid method. // J. Phys. D: Apl. Phys. 2002. V. 35. P.680−688.
Заполнить форму текущей работой

На отлично!