Диплом, курсовая, контрольная работа
Помощь в написании студенческих работ

Математическое моделирование высокочастотной плазменной обработки твердых тел при пониженном давлении

Диссертация: Математическое моделирование высокочастотной плазменной обработки твердых тел при пониженном давлении
ДиссертацияПомощь в написанииУзнать стоимостьмоей работы

Плазма, создаваемая данным видом разряда, обладает следующими свойствами: степень ионизации Ю-4 — Ю-7, концентрация электронов 1015 — 1019 м-3, температура атомов и ионов в плазменном сгустке (3 — 4) • 103 К, в плазменной струе (3,5 — 10) • 102 К, электронная температура 1−4 эВ. При этом твердое тело, помещенное в плазменный поток, подвергается воздействию ионов, средняя энергия которых… Читать ещё >

Содержание

  • СПИСОК ОБОЗНАЧЕНИЙ
  • 1. МАТЕМАТИЧЕСКОЕ МОДЕЛИРОВАНИЕ — ОСНОВА ПРАКТИЧЕСКОГО ПРИМЕНЕНИЯ ОБРАБОТКИ ТВЕРДЫХ ТЕЛ В ВЫСОКОЧАСТОТНОЙ ПЛАЗМЕ ПОНИЖЕННОГО ДАВЛЕНИЯ
    • 1. 1. Применение ВЧ плазмы пониженного давления в технике и технологии
    • 1. 2. Основные физические процессы взаимодействия неравновесной низкотемпературной плазмы с поверхностью твердых тел
    • 1. 3. Теоретические исследования высокочастотных разрядов
    • 1. 4. Задачи диссертации
  • 2. ФИЗИЧЕСКАЯ МОДЕЛЬ ОБРАБОТКИ ТВЕРДЫХ ТЕЛ В ВЫСОКОЧАСТОТНОЙ ПЛАЗМЕ ПОНИЖЕННОГО ДАВЛЕНИЯ
    • 2. 1. Принципиальная схема высокочастотной плазменной установки для обработки твердых тел при пониженном давлении и методы экспериментальных исследований
    • 2. 2. Основные характеристики процесса обработки твердых тел в высокочастотной плазме пониженного давления
      • 2. 2. 1. Характеристики квазинейтралыюй плазмы высокочастотных разрядов пониженного давления в процессе обработки твердых тел
      • 2. 2. 2. Характеристики взаимодействия ВЧ плазмы пониженного давления с обрабатываемым телом
    • 2. 3. Взаимодействие высокочастотной плазмы пониженного давления с твердым телом
    • 2. 4. Основные параметры процесса высокочастотной плазменной обработки твердых тел при пониженном давлении
  • 3. МАТЕМАТИЧЕСКАЯ МОДЕЛЬ ОБРАБОТКИ ТВЕРДЫХ ТЕЛ В ВЫСОКОЧАСТОТНОЙ ПЛАЗМЕ ПОНИЖЕННОГО ДАВЛЕНИЯ
    • 3. 1. Общая система гидродинамических уравнений квазинейтральной ВЧ плазмы пониженного давления
    • 3. 2. Прямой метод расчета напряженностей высокочастотных электрического и магнитного полей в среде с неоднородной проводимостью
    • 3. 3. Двумерная двухтемпературная самосогласованная математическая модель квазинейтральной ВЧ плазмы пониженного давления
      • 3. 3. 1. Постановка граничных условий
      • 3. 3. 2. Система краевых задач
      • 3. 3. 3. Самосогласованность системы краевых задач
    • 3. 4. Математическая модель слоя положительного заряда возле обрабатываемого тела
      • 3. 4. 1. Структура СПЗ
      • 3. 4. 2. Система задач колебательной части СПЗ
      • 3. 4. 3. Система задач двойного слоя
    • 3. 5. Общий обзор построенной модели
  • 4. АЛГОРИТМ И МЕТОДЫ РАСЧЕТА ОСНОВНЫХ ПАРАМЕТРОВ ПРОЦЕССА ВЫСОКОЧАСТОТНОЙ ПЛАЗМЕННОЙ ОБРАБОТКИ ТВЕРДЫХ ТЕЛ ПРИ ПОНИ ЖЕННОМ ДАВЛЕНИИ
    • 4. 1. Общий алгоритм расчета основных параметров взаимодействия высокочастотной плазмы пониженного давления с твердыми телами
    • 4. 2. Алгоритм и численный метод расчета характеристик квазинейтральной ВЧ плазмы пониженного давления
      • 4. 2. 1. Краевая задача для уравнения диффузии электронов
      • 4. 2. 2. Подсистема краевых задач для характеристик электромагнитного поля
      • 4. 2. 3. Краевые задачи для уравнений сохранения энергии электронного и атомно-ионного газов
      • 4. 2. 4. Дискретизация краевых задач
      • 4. 2. 5. Газодинамическая задача
    • 4. 3. Алгоритм и численный метод расчета характеристик СПЗ около обрабатываемого тела
    • 4. 4. Пакет программ расчета параметров процесса ВЧ плазменной обработки твердых тел при пониженном давлении
    • 4. 5. Выводы по главе
  • 5. ТЕОРЕТИЧЕСКИЕ ИССЛЕДОВАНИЯ ПРОЦЕССА ОБРАБОТКИ ТВЕРДЫХ ТЕЛ В ВЫСОКОЧАСТОТНОЙ ПЛАЗМЕ ПОНИЖЕННОГО ДАВЛЕНИЯ
    • 5. 1. Постановка задачи численного экспериментирования
    • 5. 2. Характеристики высокочастотной плазмы пониженного давления
      • 5. 2. 1. Концентрация электронов
      • 5. 2. 2. Напряженность магнитного поля
      • 5. 2. 3. Напряженность электрического поля и плотность тока
      • 5. 2. 4. Температура плазменной струи
    • 5. 3. Характеристики процесса обработки твердых тел в высокочастотной плазме пониженного давления
    • 5. 4. Выводы по главе
  • 6. ПРАКТИЧЕСКИЕ ПРИМЕНЕНИЯ МАТЕМАТИЧЕСКОЙ МОДЕЛИ ОБРАБОТКИ ТВЕРДЫХ ТЕЛ В ВЫСОКОЧАСТОТНОЙ ПЛАЗМЕ ПОНИЖЕННОГО ДАВЛЕНИЯ
    • 6. 1. Методика проведения численных экспериментов при проектировании ВЧ плазменных установок, работающих при пониженных давленияхи
    • 6. 2. Методика проведения численных экспериментов при разработке технологических процессов обработки твердых тел с использованием ВЧ плазмы пониженного давления
    • 6. 3. Пример: технологические процессы полировки изделий
      • 6. 3. 1. Методика исследований и материалы
      • 6. 3. 2. Результаты обработки поверхностей твердых тел
      • 6. 3. 3. Результаты применения математического моделирования
    • 6. 4. Выводы по главе
  • ВЫВОДЫ

Математическое моделирование высокочастотной плазменной обработки твердых тел при пониженном давлении (реферат, курсовая, диплом, контрольная)

Одной из актуальных задач промышленного производства является повышение качества, надежности и долговечности изделий, в том числе за счет изменения свойств материалов путем дополнительной обработки (модификации). Эффективным способом модификации поверхностей материалов органической и неорганической природы является обработка в плазме высокочастотных (ВЧ) разрядов пониженного давления (1,33−133 Па) с продувом газа.

Плазма, создаваемая данным видом разряда, обладает следующими свойствами: степень ионизации Ю-4 — Ю-7, концентрация электронов 1015 — 1019 м-3, температура атомов и ионов в плазменном сгустке (3 — 4) • 103 К, в плазменной струе (3,5 — 10) • 102 К, электронная температура 1−4 эВ. При этом твердое тело, помещенное в плазменный поток, подвергается воздействию ионов, средняя энергия которых составляет 10−100 эВ при плотности ионного тока 0,3 — 25 А/м2. Это позволяет получить при модификации поверхности результаты, недостижимые другими методами плазменного воздействия: уменьшение шероховатости поверхности (средней высоты микронеровностей) в 2 раза при одновременном увеличении микротвердости в 2−8 раз, повышении износостойкости и долговечности изделий на 30−50%, увеличении срока службы в 1,5−2 раза.

В настоящее время накоплены обширные экспериментальные данные об электрических, энергетических, газодинамических свойствах плазмы ВЧ разрядов пониженного давления, о результатах взаимодействия ее с различными материаламиимеются общие представления об основных процессах, протекающих в неравновесной низкотемпературной плазме на границе с твердым телом. Однако механизмы взаимодействия ВЧ плазмы пониженного давления с твердыми телами исследованы недостаточно глубоко, режимы ВЧ плазменной обработки получены эмпирическим путем в лабораторных условиях для ограниченного набора параметров разряда.

Для разработки промышленных образцов оборудования и технологических процессов с использованием ВЧ разрядов пониженного давления необходимо создание математической модели ВЧ плазменной обработки, которая позволяет проводить расчет значений концентраций и энергий частиц, напряженностей электрического и магнитного полей в плазме в широком диапазоне варьирования параметров режима поддержания разряда, оптимизацию конструктивных параметров ВЧ плазмотронов и определять оптимальные режимы обработки для различных материалов.

Поэтому разработка математической модели ВЧ плазменной обработки твердых тел при пониженных давлениях имеет научный и практический интерес.

Диссертационная работа направлена на решение актуальной проблемы математического моделирования низкотемпературной плазмы — разработку научного обоснования ВЧ плазменной обработки изделий при пониженном давлении для создания новых технологий обработки материалов, обеспечивающих направленные изменения свойств поверхностей твердых тел. В диссертации предложены физическая и математическая модели обработки твердых тел в ВЧ плазме пониженного давления, приведены результаты численных экспериментов по расчету основных параметров плазменного воздействия на поверхность, даны рекомендации по созданию базовых технологических процессов обработки.

В диссертации изложены работы автора в период с 1988 по 2003 г. г. по исследованию и созданию математической модели ВЧ плазменной обработки твердых тел при пониженном давлении.

Работа выполнена в Казанском государственном технологическом университете в рамках научно-исследовательской работы 1.01.3Д по теме «Взаимодействие высокочастотного разряда х капиллярно-пористыми структурами», 2003 г. и гранта Академии наук Республики Татарстан по теме «Высокочастотная плазменная обработка твердых тел сплошной и капиллярно-пористой структур» 2002;2003 г. г. Часть работы выполнялась в научно-производственном объединении «Мединструмент», в соответствии с постановлением Совета Министров СССР от 12.08.1988 № 997 «О первоочередных мерах по повышению технического уровня, увеличению производства изделий медицинской техники и улучшению обеспечения ими учреждений здравоохранения», в рамках федеральной программы РФ «Развитие медицинской промышленности и улучшение обеспечения лекарственными средствами и медицинской техникой на 1994;1996 г. г.», утвержденной постановлением правительства РФ 77 от 10.02.92 г. «О неотложных мерах по созданию медицинской техники и увеличению ее производства в 1992;1996 годах», а также в рамках Федеральной целевой программы «Развитие медицинской промышленности в 1998;2002 годах и на период до 2005 года» по постановлению правительства РФ № 650 от 24.06.1998 г. Диссертация состоит из введения, шести глав, выводов и приложения.

выводы.

На основании изложенного, можно сделать следующие выводы:

1. Разработаны теоретические основы ВЧ плазменной обработки твердых тел в инертных газах при пониженном давлении рабочего газа 1,33−133 Па, расходе газа до 0,2 г/с, в диапазоне частот электромагнитного поля 1−30 МГц, мощности разряда 0,5−5 кВт, представленные в виде физической и замкнутой математической моделей с алгоритмом численной реализации. Теоретические основы устанавливают прямую зависимость основных параметров обработки от параметров и режима работы плазмотрона, путем использования системы краевых, начально-краевых и начальных задач, описывающих процессы в квазинейтральной плазме и в СПЗ возле обрабатываемого тела.

2. Установлено, что температура электронов в плазменном сгустке является собственным значением для задачи расчета характеристик квазинейтральной ВЧ плазмы пониженного давления, соответствующим ее нетривиальному неотрицательному решению, и определяющим абсолютное значение концентрации электронов в центре разряда. Это позволило замкнуть математическую модель и разработать алгоритм самосогласованного определения концентрации и температуры электронов в центре разряда, значений ВЧ электрической и магнитной напряженностей на стенке разрядной камеры, поглощаемой разрядом мощности, обеспечивающих поддержание стационарного состояния разряда.

3. Разработан прямой метод расчета напряженностей ВЧ электрического и магнитного полей в среде с неоднородной проводимостью, основанный на использовании закона сохранения энергии электромагнитного поля и информации о геометрической структуре плоского векторного поля. В результате комплексные уравнения Максвелла преобразованы к системе действительных нелинейных эллиптических краевых задач относительно квадратов модулей, угловых функций и фаз векторов напряженностей электрического и магнитного полей. Решение данной системы позволяет найти амплитуду, направление и фазу соответствующих векторов без использования промежуточных функций типа скалярного или векторного потенциала.

4. В результате численного экспериментирования определены условия существования стационарного состояния ВЧ плазмы пониженного давления, теоретически определены основные закономерности формирования технологических параметров ВЧ плазмы пониженного давления в зависимости от параметров плазмотрона и режима его работы, дано адекватное физическое объяснение эффектам избирательности ВЧ плазменной обработки, и замедления скорости изменения характеристик поверхности по мере обработки. Это позволило сформулировать практические рекомендации по разработке базовых режимов ВЧ плазменной обработки основных групп конструкционных материалов.

5. На основании результатов численных экспериментов разработаны рекомендации по созданию технологических процессов ВЧ плазменной полировки конструкционных материалов: полировку проводников, целесообразно проводить в ВЧЕ разряде в режиме ионной бомбардировки с энергией ионов Wi = 60 — 70 эВ и плотностью ионного тока ji = 2 — 2,5 А/м2, диэлектриков — Wi = 80 — 100 эВ, j j = 2 — 3 А/м2, полупроводников — Wi = 70 — 90 эВ и плотностью ионного тока ji = 0,5 — 1,5 А/м2, соответственно.

Показать весь текст

Список литературы

  1. А.А. Математическое моделирование и вычислительный эксперимент // Вестн. АН СССР. — 1979. — № 5. — С. 38−49.
  2. Samarskii А.А. Numerical methods in plasma physics // Lect. Not. Phys.- 1979. Vol. 91. — P. 235−347.
  3. Современные проблемы математической физики и вычислительной математики: Сб. статей / Отв. ред. ак. А. Н. Тихонов — М.: Наука, 1982. 534 с.
  4. Ю.П., Самарский А. А. Вычислительный эксперимент. — М.: Знание, 1983. — 64 с.
  5. Импульсные излучающие разряды в инертных газах / С. И. Андреев, В. Я. Гольдин, Д. А. Гольдина и др. // Докл. АН СССР. 1976. — Т. 226, № 5. — С. 1045−1047.
  6. П.Н. Численное моделирование. — М.: Изд-во МГУ, 1993.- 152 с.
  7. П.П., Леванов Е. И. Автомодельные решения задач газовой динамики с учетом теплопроводности. — М.: Изд-во МФТИ, 1996. 212 с.
  8. А.А., Михайлов А. П. Математическое моделирование: Идеи. Методы. Примеры. — 2-е изд., испр. — М.: ФИЗМАТЛИТ, 2002. 320 с.
  9. И.Ш., Желтухин B.C., Кашапов Н. Ф. Высокочастотная плазменно-струйная обработка материалов при пониженных давлениях. Теория и практика применения. — Казань: Изд-во Казан, унта, 2000. 348 с.
  10. И.Ш., Желтухин B.C., Кудинов В. В. Физическая модель взаимодействия вы-сокочастотной плазмы с твердыми телами в динамическом вакууме // Физ. и хим. об-работки матер. 2003. 4. С. 46−52.
  11. И.Ш., Желтухин B.C. Физическая модель высокочастотной плазменной струйной обработки твердых тел // Вест. Казан, гос. технол. ун-та. 2002. С. 96−105.
  12. И. Ш. Желтухин B.C. Неравновесная низкотемпературная плазма в процессах модификации поверхностей изделий // Тез. докл. Междунар. конф. «Физика и техника плазмы». Минск.- 1994. — С. 161−164.
  13. И.Ш., Желтухин B.C., Мекешкин-Абдуллин А.С. Обработка натуральной кожи ВЧ-плазмой пониженного давления // Кожевенно-обувная промышленность. — 2002. — № 4. — С. 34−36.
  14. И.Ш., Маковский В. Ф., Желтухин B.C. Получение биоактивных покрытий для медицинских имплантатов плазменным методом // Тез. докл. междунар. конф. «Физика и техника плазмы». — Минск. 1994. — С. 155−156.
  15. Применение ВЧ плазмы низкого давления для нанесения тонких защитных покрытий / И. Ш. Абдуллин, B.C. Желтухин,
  16. А.Х.Габдрахманов и др. // Тез. докл. междунар. конф. «Физика и техника плазмы». — Минск. — 1994. — С. 349−350.
  17. Применение ВЧ плазмы низкого давления для напыления тонких плёнок Si02 / И. Ш. Абдуллин, В. С. Желтухин, А. Х. Габдрахманов и др. // Тез. докл. VII конф. по физике газового разряда. Самара.- 1994. С.75−76.
  18. И.Ш., Миронов М. М. Желтухин B.C. Модификация поверхности медицинских металлических имплантатов с целью придания им бактерицидных и биоактивных свойств // Тез. докл. VII конф. по физике газового разряда. Самара. — 1994. — С.69−70.
  19. Bacillicidal and biologically resistant coatings for implants / I.Sh.Abdullin, V.E.Bragin, V.S.Zheltoukhin and others // Proc. of the Third Russian-Chinese Symp. «Advanced Materials and Processes». -Kaluga, Russia. — 1995. — C. 23−25.
  20. Abdullin I.Sh., Kashapov N.F., Zheltoukhin V.S. Application of low pressure RF plasma for deposition of Si02 thin films / Proc. Int. Conf. on Phenomena in Ionized Gases. — Warsaw, Poland. — July 11−16, 1999.- p.16−18.
  21. И.Ш., Желтухин B.C. Применение ВЧ плазмы пониженного давления для газонасыщения поверхности металлов // Вестник Казан, гос. технол. ун-та. 2003.С. 73−77.
  22. B.JI., Даутов Г. Ю., Абдуллин И. Ш. Электродуговые и высокочастотные плазмотроны в химико-металлургических процессах. — Киев: Вища школа, 1991. — 170 с.
  23. Технологическое применение низкотемпературной плазмы / Р. Оулет, М. Барбье, П. Черемисинофф и др. — М.: Энергоатомиздат, 1983. — 144 е., ил.
  24. А.А., Гавриленко И. В., Купченко В. В. Исследование некоторых свойств конденсатов Ti—N2, Zr—N2, получаемых осаждением плазменных потоков в вакууме (способ КИБ) // Физ. и хим. обработки материалов. — 1980. — № 3. — С. 64−67.
  25. А.И. Установка «Пуск-77−1"для нанесения ионно-вакуумных износостойких покрытий на обрабатывающий инструмент // Технол. автомобилестр. — 1978. — № 6. — С. 42—48:
  26. А.П., Григорьев А. И. Износостойкие покрытия, нанесенные вакуумными ионно-плазменными методами // Технол. машиностр. -- 1973. — № 7. — С. 15−20.
  27. .С. Нанесение тонких пленок в производстве интегральных схем // Электроника. — М.: ВИНИТИ, 1984. — Т. 16. — С. 145−179.
  28. Reboux J. Chalumean a plasma haute frequence et hautes temperatures // Ing. Techn. — 1962. — № 157. — P. 115—125.
  29. Некоторые характеристики высокочастотного индукционного газового разряда и особенности его применения для синтеза тугоплавких кристаллов диэлектриков / К. К. Воронин, В. М. Гольдфарб, А. В. Донской и др. // Низкотемпературная плазма. М., 1967. — С. 15 — 623.
  30. Reed Т.В. Growth of refractory crystals using the induction plasma torch // J. Appl. Phys. 1961. — V. 32, № 12. — P. 2534 — 2535.
  31. Некоторые процессы выращивания тугоплавких кристаллов в высокочастотных плазменных горелках / А. В. Донской, С. В. Дресвин, К. К. Воронин и др. // Теплофиз. высоких темпер. 1965. — Т. 3, вып. 4.-С. 627−631.
  32. Н.Н. Плазменные процессы в металлургии и обработке материалов // Физ. и хим. обраб. матер. 1967. — № 2. — С. 3 — 17.
  33. Получение сферических и тонкодисперсных порошков в низкотемпературной плазме / Н. Н. Рыкалин. В. А. Петруничев, И. Д Кулагин и др. // Плазменные процессы в металлургии и технологии неорганических материалов. М., 1973. — С. 73 — 78.
  34. Плазменные процессы в получении сферических порошков тугоплавких металлов / А. Б. Гугняк, Е. Б. Королева, И. Д. Кулагин и др. // Физ. и хим. обраб. матер. 1967. — № 4. — С. 40 — 45.
  35. В.И. Сфероидизация в высокочастотном плазменном разряде порошка окиси алюминия // Порошк. меллургия. 1966. — № 2. — С. 6 — 9.
  36. А.Н., Зильберберг В. И., Шарифкер С. Ю. Низкотемпературная плазма в металлургии. М.: Металлургия, 1970. — 216 с.
  37. Марин К. Г, Любимов В. К. Применение низкотемпературной плазмы в микроэлектронике // Физ. и хим. обраб. матер. 1978. — № 2. — С. 64 — 69.
  38. Плазменные процессы в получении моноокиси кремния / И. Д. Кулагин, В. К. Любимов, К. Г. Марин и др. // Физ. и хим. обраб. матер. 1967. — № 2. — С. 36 — 41.
  39. Ф.Б., Полак Л. С. Химические процессы в плазме и плазменной струе // Кинетика и термодинамика химических реакций в низкотемпературной плазме. М., 1965. — С. 100 — 117.
  40. Процесс получения пигментной двуокиси титана в высокочастотном разряде кислородной плазмы / И. В. Антипов, А. Б. Гугняк, И. Д. Кулагин и др. 11 Физ. и хим. обраб. матер. 1968. — № 4. — С. 146 — 148.
  41. Получение пигментной двуокиси, титана индукционно-атомарным способом / И. И. Рыкалин, С. В. Огурцов, И. Д. Кулагин и др. // Физ. и хим. обраб. матер. 1975. — № 1. — С. 146 — 148.
  42. Н.Н. Термическая плазма в металлургии и технологии // Тр. ВЭЛК. 1977. — Секция О, докл. № 1. — С. 71.
  43. Ю.А., Медведев С. А. Использование безэлектродного высокочастотного разряда для синтеза интерметаллических соединений на основе ниобия и ванадия // Генераторы низкотемпературной плазмы. М., 1969. — С. 501 — 507.
  44. В.В. Плазменные покрытия. — М.: Наука, 1977. — 270 с.
  45. П.Т. Жаростойкие диффузионные покрытия. М.: Металлургия, 1979. — 272 с.
  46. М.Д., Кулик А., Захаров Н. И. Теплозащитные и износостойкие покрытия деталей дизелей. Л.: Машиностроение, 1977. -168 с.
  47. Получение покрытий высокотемпературным распылением: Сб. статей / Под ред. Л. К. Дружинина и В. В. Кудинова. М.: Атомиздат, 1973. — 312 с.
  48. Л.Н., Борисенко А. И. Применение плазмы для получения высокотемпературных покрытий. М.- Л.: Наука, 1965. — 88 с.
  49. Получение пленок двуокиси кремния плазменным методом / В. Ф. Сыноров, Э. В. Гончаров, В. М. Гольдфарб и др. // Электрон.техн. Сер. «Материалы». 1967. — Вып. 3. — С. 41 — 47.
  50. Неса М., Cakenberghe J.Van. Source a plasma pour la preparation de cocnes minces de silice // Thin Solid Films. 1972. — V. 11, № 2. — P. 283 — 288.
  51. Теоретическая и прикладная плазмохимия / Л. С. Полак, А. А. Овсянников, Д. И. Словецкий и др. — М.: Наука, 1975. — 304 с.
  52. Применение высокочастотного безэлектродного плазмотрона для получения чистого кремния и его окислов / Ф. Б. Вурзель, Н. Н. Долгополов, А. И. Максимов и др. // Кинетика и термодинамика химических реакций в низкотемпературной плазме. М., 1965. — С. 223 — 232.
  53. Очерки физики и химии низкотемпературной плазмы / Под ред. Л. С. Полака. М.: Наука, 1977. — 436 с.
  54. Ю.Р. Шероховатость поверхности и методы ее оценки. -JL: Судостроение, 1971. 106 с.
  55. JI.A., Гуревич М. А. Электрография поверхностных слоев и пленок полупроводниковых материалов. М.: Металлургия, 1974. -172 с.
  56. Javan A., Bennett W. R., Heniott D. R. II Phys. Rev. Lett. -1961. Vol. 6. — № 106.
  57. И.Ш. Исследование высокочастотного диффузионного разряда в процессах обработки поверхностей / НПО «Мединстру-мент». — Казань, 1988. — 75 е., ил. (Рукопись деп. в ВИНИТИ 9.03.88, № 1571-В89).
  58. И.Ш., Кашапов Н. Ф., Кудинов В. В. Изменение структуры и состава поверхности сталей и титановых сплавов под действием высокочастотного разряда низкого давления // Перспективные материалы. 2000. — № 1. — С. 56 -63.
  59. И.Ш., Кашапов Н. Ф., Кудинов В. В. Обработка неорганических материалов неравновесной низкотемпературной плазмой перед нанесением покрытий // Перспективные материалы. — 2000. — № 3. С. 88 -93.
  60. И.Л., Андропов А. Н., Титов А. И. Физические основы электронной и ионной технологии: Учеб. пособие для спец. электрон, техн. вузов. М.: Высш. шк., 1984. — 320 е., ил.
  61. B.C., Гужова С. К., Титов В. И. Воздействие низкотемпературной плазмы электромагнитного излучения на материалы. М.: Энергоатомиздат, 1991. — 224 с.
  62. Vella-Colciro J.P., Wolfe R., Blanke S.K. et al. J. Appl. Phys. — 1981.1. V. 51.- P. 2355.
  63. Ионная имплантация / Под ред. Дж.К.Хирвонена. М.: Металлургия, 1985. — 392 с.
  64. Распыление твердых тел ионной бомбардировкой. Ч. 1. Физическое распыление одноэлементных твердых тел. М.: Мир, 1984. — 336 е., ил.
  65. B.C. Применение низкотемпературной плазмы для нанесения тонких пленок. М.: Энергоатомиздат, 1989. — 328 с.
  66. Плазменная технология в производстве СБИС. М.: Мир, 1987. -470 е., ил.
  67. В.И. Взаимодействие низкотемпературной плазмы с твердым телом // Изв. Сиб. отд-ния АН СССР. Сер. техн. наук. 1984. -Вып. 2. 10. С. 20- 26.
  68. Технология тонких пленок: Справочник. Т. 1. М.: Сов. радио, 1977.- 664 с.
  69. .М. Возбужденные атомы. М.: Энергоиздат, 1982. — 232 с.
  70. А.В., Клубникин B.C. Электроплазменные процессы и установки в машиностроении. JL: Машиностроение, Ленингр. отд-ние, 1979. — 221 е., ил.
  71. Ю.В., Панфилов С. А. Низкотемпературная плазма в процессах восстановления. М.: Наука, 1980. — 360 с.
  72. Дж. Радиационные процессы в плазме. М.: Мир, 1971. -438 с.
  73. Установки индукционного нагрева: Учеб. пособие для вузов / А. Е. Слухоцкий, В. С. Немков, Н. А. Павлов и др. Под ред. А. Е. Слухоцкого. JL: Энергоиздат. Ленингр. отд-ние, 1981. — 328 е., ил.
  74. А.А., Павлова Л. С., Поляков В. М. Диагностика низкотемпературной плазмы по спектрам ее собственного излучения в СВЧ и субмиллиметровом диапазонах. М.: Энергоиздат, 1981. — 135 с.
  75. Влияние теплообмена излучением на тепловое состояние разрядных камер / И. И. Канторович, Л. М. Сорокин, Л. И. Севковская и др. // Физ. и хим. обработки материалов. 1988. — № 3. — С. 60 — 65.
  76. .В., Тихонов С. А., Мендельсон С. А. Магнитное упрочнение рессор и пружин // Машиностроитель. 1988. — № 7. — С. 20 -21.
  77. А.Н., Лигачев А. Е., Куракин И. Б. Воздействие пучков заряженных частиц на поверхность металлов и сплавов. М.: Энерго-атомиздат, 1987. — 183 с.
  78. Schottky W. Diffusion Theorie der Positiven Эди1е 11 Phys. Zheitschr. -1924. Bd. XXV. — S. 635 — 640.
  79. Herein M., Brown S.C. Electrical breakdown of a gas between coaxial cylinders at microwave frequence // Phys. Rev. 1948. V. 74. — № 8. -P. 910 — 913.
  80. Brown S.C., Donald A.D. Limits for the diffusion theory of a high frequency gas discharge breakdown // Phys. Rev. 1949. V. 76. — № 11. — P. 1629 — 1633.
  81. И.Ш., Сальянов Ф. А. Расчет характеристик индукционного диффузионного разряда // Изв. Сиб. отд-ния АН СССР. Сер.техн.наук. 1981. — Вып. 3, № 13. — С. 100 — 103.
  82. Справочник по специальным функциям. М.: Наука, 1979. — 832 е., ил.
  83. В.А., Ганна А. Х. О влиянии взаимовоздействия поля на пространственное распределение плазмы ВЧ разряда // Физика плазмы.- 1979. Т.5, вып.З. — С.670 — 677.
  84. Thomson J.J. The electrodeless discharge through gases // Phyl. mag. -1927. V. 4. — № 25. — P. 1128 — 1160.
  85. Henriksen B.B., Keefer D.R., Clarson M.A. Electromagnetic field in electrodeless discharge // J. Appl. Phys. 1971. — V. 42. — № 13. — P. 6460- 5464.
  86. JI.M., Шевченко В. З. Расчет электромагнитных полей в индукционном разряде // Физ. и хим. обработки материлов. 1975. -№ 6. — С. 45 — 147.
  87. Eckert H.U. Equation of the electrodeless ring discharge and their solution for the breakdown criterion // 4-th Intern. Conf. lonisation Phenomena in Gases. Amsterdam e.a. 1960. — V. 1. — P. 320 — 324.
  88. Eckert H.U. Equation of the electrodeless ring discharge //J. Appl. Phys.- 1962. V. 33. — № 9. — P. 2780 — 2788.
  89. И.Ш., Желтухин B.C. Математическое моделирование плазмы индукционного диффузного разряда // Изв. Сиб. отд-ния АН СССР. Сер. техн.наук. 1985. — Вып. 3, № 16. — С. 106 — 109.
  90. В.А., Ровинский Р. Е., Соболев А. П. Приближенное решение задачи о стационарном индуцированном высокочастотном разряде в замкнутом объеме // Журн. прикл. механики и техн. физ. 1968. -т. — С.197- 199.
  91. Ю.А. Об одной возможности уточнения элементарной теории ВЧ разряда в воздухе // Журн. техн. физики. 1976. — Т.46, вып. III. — С. 2321 — 2326.
  92. Romig M.F. Steady state solution of the radiofrequency discharge with flow // Phys. Fluids. 1960. V. 3. — № 3. — P. 129 — 133.
  93. Л., Лифшиц E. Электродинамика сплошных сред. М.: Го-стехиздат, 1957. — 532 е., ил.
  94. В.В. Математическое моделирование электромагнитных полей в проводящих средах. М.: Энергия, 1975. — 150 е., ил.
  95. Вычислительные методы в электродинамике. М.: Мир. 1977. -485 е., ил.
  96. П.А., Аринчин С. А. Численный расчет электромагнитных полей. М.: Энергоатомиздат, 1984. — 168 е. ил.
  97. В.П. Численные методы решения задач электрофизики. — М.: Наука, 1985. — 336 е., ил.
  98. В.Н., Трехов Е. С., Хошев И. М. Вихревой разряд при атмосферном давлении с продувом //Физика газоразрядной плазмы. Вып. 1. — М.: Атомиздат, 1968. — С. 83 — 98.
  99. Boulos M.I. Flow and temperature tied in the fire-ball of an inductively coupled plasma // IEEE Transactions of Plasma Science. V. PS-4. — № 1. — P. 28. — C. 39.
  100. H.H., Сорокин Л. М. Металлургические ВЧ плазмотроны: Электро- и газодиамика. — М.: Наука, 1987. — 162 с.
  101. С.М. Потенциал пространства и распыление электродов в высокочастотном разряде // Журн. техн. физ. 1957. — Т.27, вып. 5. — С. 1001 — 1009.
  102. С.М. Исследование потенциала зажигания высокочастотного разряда в газе в переходной области частот и давлений // Журн. техн. физ. 1957. — Т.27, вып. 5. — С. 970 — 977.
  103. А.С., Рахимов А. Т., Феоктистов В. А. Высокочастотный несамостоятельный разряд в газах // Физика плазмы. 1981. — Т. 7. вып. 6. — С. 1411 — 1418.
  104. Н.А. Связь постоянного потенциала плазмы с режимом горения высокочастотного емкостного разряда среднего давления // Журн. техн. физ. 1981. — Т. 51, вып. 6. — С. 1195 — 1204.
  105. А.С. Приэлектродные слои в емкостном ВЧ разряде // Журн. техн. физ. 1984. — Т. 54, вып. 1. — С. 61 — 65.
  106. Е.Л., Ковалев А. С., Рахимов А. Т. Физические явления в газоразрядной плазме: Учеб. руководство. М.: Наука, 1987. — 160 е., ил.
  107. Ю.П., Шнейдер М. Н. Структура приэлектродных слоев высокочастотного разряда и переход между двумя его формами // Физика плазмы. 1987. — Т. 13, вып. 4. — С. 471 — 479.
  108. Ю.П., Шнейдер М. Н. Высокочастотный разряд среднего давления между изолированными и оголенными электродами // Физика плазмы. 1988. — Т. 14, вып. 2. — С. 226 — 232.
  109. А.А. Ускорение ионов в приэлектродном слое и энергобаланс ВЧ разряда в магнитном поле // Тез. докл. Ill Всесоюз. конф. по физике газового разряда. Киев, 1986. — С. 92 — 94.
  110. Graves D.B. Fluid models simulations of a 13.56 MHz RF-discharge: Time and space dependence of rate of electron excitation // J. Appl. Phys. 1987. V. 62. — Ш. — P. 88 — 94.
  111. C.B. Основы теории и расчета высокочастотных плазмотронов. — Л.: Энергоатомиздат. Ленингр. отд-ние, 1991. — 312 с.
  112. Ю.П., Шнейдер М. Н., Яценко Н. А. Высокочастотный емкостный разряд: Физика. Техника эксперимента. Приложения. М.: Изд-во Моск. физ.- техн. ин-та- Наука. Физматлит, 1995
  113. Belenguer Ph., Bouef J.P. Modelization des decharges radiofrequence. // Rom. Rep. Phys. — 1992. Vol. 44. — No. 9−10. — P. 807−847.
  114. Ю.Н., Костомаров Д. П. Математическое моделирование плазмы. — М.: Наука, 1982. — 320 с.
  115. B.C., Мекешкин-Абдуллин А.С. Математическая модель ВЧ плазменной обработки капиллярно- пористых материалов легкой промышленности // Тез. докл. науч. сессии / Казан, гос. технол. унт- Казань, 2000.- С. 165.
  116. Особенности обработки пористых тел при помощи ВЧЕ-разряда пониженного давления / И. Ш. Абдуллин, В. С. Желтухин, А.С.Мекешкин-Абдуллин, Е.И.Мекешкина-Абдуллина // Материалы XI конф. по физике газового разряда. Ч. 1. — Рязань, 2002 г.- С. 58−60.
  117. Abdullin, V. Jeltoukhine. Theoretical and experimental investigations of low- pressure RF plasmas // Proc. of Int. Conf. on Thermal Plasma Processes (TPP-7). — Strasbourg, France.- 2002, 18−21 June. P. 544 -549.
  118. Исследование взаимодействия неравновесной низкотемпературной плазмы с поверхностью твердых тел / И. Ш. Абдуллин, Г. И. Ибрагимов, Е. Я. Майская, В. С. Желтухин // Тез. докл. VI конф. по физике газового разряда. Казань. — 1992. — С. 47−48.
  119. И.М. Лекции по диагностике плазмы. — M.: Атомиздат, 1968. 219 с.
  120. В.Е. Сверхвысокочастотные методы исследования плазмы. — М.: Наука, 1968. — 327 с.
  121. Источники питания электротермических установок / А. С. Васильев, С. Г. Гуревич. Ю. С. Иоффе. М.: Энергоиздат, 1985. — 248 е., ил.
  122. Диагностика плазмы / Под ред. Р. Хаддлстоуна и Ц.Леонарда. М.: Мир, 1967.
  123. Диагностика плазмы. Вып. 5 / Под ред. М. И. Пергамента. — М.: Энергоиздат, 1986. — 303 с.
  124. А.с. 2 153 620 (СССР) Голографический интерферометр / Л. Т. Мустафина, Н. П. Кутикова, Т. М. Бабаева. — Заявл. 7.07.75, опубл. 14.06.77.
  125. А.К., Белозеров А. Ф., Березкин А. И. и др.Голографическая интерферометрия фазовых объектов. — Л.: Наука. Ленингр. отд-ние, 1979. 232 с.
  126. Чан П., Тэлбот Л., Турян К. Электрические зонды в неподвижной и движущейся плазме. — М.: Мир, 1978. — 480 с.
  127. Ю.А., Лебедев Ю. А., Полак Л. С. Методы контактной диагностики в неравновесной плазмохимии. — М.: Наука, 1981. — 141 с.
  128. Физика и техника низкотемпературной плазмы / С. В. Дресвин, А. В. Донской, В. И. Гольдфарб и др. — М.: Атом-издат. 1972. — 352 с.
  129. М., Кругер Ч. Частично-ионизованные газы. — М.: Мир, 1976. — 496 с.
  130. И.Ш., Гафаров И. Г., Желтухин B.C. Теоретическое исследование ВЧ емкостного разряда низкого давления // Физика газового разряда. Межвуз. науч. сб. — Казань: Изд. Каз. авиац. ин-та, 1988. — С. 27−31.
  131. B.C. Численное исследование условий существования индукционного диффузного разряда / НПО «Мединструмент" — Казань, 1988. — 13 с. (Рукопись деп. в ВИНИТИ 25.03.88. № 2327-В88).
  132. И.Ш., Желтухин B.C. Математическая модель высокочастотной плазменной струйной обработки твердых тел // Вест. Казан, гос. технол. ун-та. 2002. С. 273−279.
  133. B.C., Красина И. В. Математическое моделирование ВЧ плазменной обработки материалов легкой промышленности при пониженных давле-ниях // Вестник Казан, гос. технол. ун-та. 2003. С. 268−276.
  134. И.Ш., Желтухин B.C., Мекешкин-Абдуллин А.С. Математическое моделирование процесса обработки высокочастотной плазмой капиллярно-пористых материалов легкой промышленности // Инновации в машиностр.: Сб. ст. Ч. I. — Пенза. — 2001. С. 3−8.
  135. И.Ш., Желтухин B.C. Численное моделирование ВЧ разрядов низкого давления // Тез. докл. VI конф. по физике газового разряда. Казань. — 1992. — С. 9−10.
  136. И.Ш., Закиров A.M., Желтухин B.C. Расчет характеристик ВЧ разряда в самосогласованной постановке // Тез. докл. меж-дунар. конф. «Физика и техника плазмы». — Минск. — 1994.- С. 268−270.
  137. И. Ш. Желтухин B.C. Расчет параметров ВЧ плазмы низкого давления в согласованной по электронным концентрации и температуре постановке // Тез. докл. VII конф. по физике газового разряда. Самара. — 1994. — С. 148- 149
  138. И.Ш., Желтухин B.C. Численные и алгоритмические аспекты математических моделей высокочастотных разрядов // Материалы Всерос. семин. «Теория сеточ. методов для нелин. краевых задач». Казань. — 1996. — С. 3−8.
  139. B.C. О дискретизации одного вырождающегося уравнения // Тез. докл. школы-семин., посвящ. 100- летию со дня рожд. Б. М. Гагаева «Алгебра и анализ».- Казань. — 1997.- С. 150−153.
  140. B.C. Термодинамически самосогласованная модель ВЧ разряда низкого давления для струйной обработки поверхностей твердых тел // Материалы II Всерос. семинара «Теория сеточ. методов для нелин. краевых задач». — Казань. — 1998. С. 12−17.
  141. Abdullin I.Sh., Abdullina E.I., Zheltoukhin V.S. Simulation of the treatment of solid surfaces using low pressure RF plasma // Proc. 5-th Europ. Conf. on Thermal Plasma Processes (TPP-5). — St. Petersburg. 13−17 July, 1998. — P. 148−152.
  142. Abdullin I.Sh., Zheltoukhin V.S., Abdullina E.I. Simulation of the low pressure RF plasmas treatment of solid surfaces // Proc. XXIV Int. Conf. on Phenomena in Ionized Gases (XXIV ICPIG). — Warsaw. — July 11−16, 1999. Vol. 4. — P. 215−216.
  143. Research of modification of high-molecular materials using low pressure RF plasma / I.Sh.Abdullin, H.I.Abdullina, L.N.Aboutalipova, V.S.Zheltoukhin // Proc. XXIV Int. Conf. on Phenomena in Ionized
  144. Gases (XXIV ICPIG). Warsaw. July 11−16, 1999. — Vol. 1. — P. 9394.
  145. Abdullin I.Sh., Kashapov N.F., Zheltoukhin V.S. Deposition of Si02 thin films using low pressure RF plasma // Proc. 14-th Int. Symp. on Plasma Chem. (ISPC-14). Prague, Czech Republic. — August 2−6, 1999. -Vol. 3. — P. 1339−1343.
  146. Abdullin I.Sh., Abdullina H.I., Zheltoukhin V.S. Simulation of RF plasmas treatment of solid surfaces at low pressure // Proc. 14-th Int. Symp. on Plasma Chem. (ISPC- 14). August 2−6, 1999. — Prague. -Vol. 3. — P. 1179−1184.
  147. B.C. Математическое моделирование высокочастотной плазменно-струйной модификации поверхностей твердых тел // Исследования по прикл. мат.: Сб. науч. статей. — Вып. 21. — Казань: Унипресс, 1999. С. 115−131.
  148. И.Ш., Желтухин B.C., Кудинов В. В. Математическая модель высокочастотной плазменной обработки материалов в динамическом вакууме // Физ. и хим. обработки материалов. — 2003. — № 6. С. 21−27.
  149. Simulation of thin films deposition using low-pressure RF jet discharges / I. Abdullin, V. Jeltoukhine, N. Kashapov, A. Meckeskin-Abdullin // Proc. 15-th Int. Symp. on Plasma Chem. (ISPC-15). — Orleans, France. — August 2−6, 2001. Vol. 4. — P. 1233- 1238.
  150. И.Ш., Гафаров И. Г., Желтухин B.C. Исследование характеристик ВЧ разрядов низкого давления в процессах модификации поверхности // Тез. докл. VI конф. по физике газового разряда. -Казань. 1992.-. С. 25−26.
  151. B.C. О разрешимости одной нелинейной спектральной задачи теории ВЧ разрядов пониженного давления // Изв. ВУЗов. Математика. 1999. — № 5. — С. 26−31.
  152. С.И. Явления переноса в плазме // Вопросы теории плазмы. Вып.1 / Под ред. М. А. Леонтовича. М.: Госатомиздат, 1963.- С. 183 272.
  153. Л.Я., Воробьев B.C., Якупов И. Т. Кинетика неравновесной низкотемпературной плазмы. М.: Наука, 1982. — 376 е., ил.
  154. Ю.П. Физика газового разряда: Учеб. руководство. // М.: Наука, 1987. 592 е., ил.
  155. А. Ионизованные газы. М.: Физматгиз, 1959. — 120 с.
  156. Ю.П. Основы современной физики газоразрядных процессов.- М.: Наука, 1980. 416 е., ил.
  157. А.Ф., Богданкевич Л. С., Рухадзе А. А. Основы электродинамики плазмы / Под ред. А. А. Рухадзе. М.: Высш. шк. — 1988.- 424 е., ил.
  158. Е.А. Материальные уравнения электродинамики. М.: Наука, 1983. — 130 с.
  159. В.Л. Электрический ток в газе. Установившийся ток / Под ред. Л. А. Сена и В. Е. Голанта. М.: Наука, 1971. — 544 е., ил.
  160. Дж., Шерман А. Основы технической магнитной газодинамики. М.: Мир, 1968. — 492 с.
  161. А.Я. Расчет напряженности поля прямым методом. — Л.: Энергоатомиздат. Ленингр. отд-ние, 1985. — 162 е., ил.
  162. В.В. Введение в комплексный анализ. Функции нескольких переменных: Учеб.пособие. — М.: Наука, 1985. — 464 с.
  163. О.А. Краевые задачи математической физики. — М.: Наука, 1973. 408 с.
  164. О.А., Уральцева Н. Н. Линейные и квазилинейные уравнения эллиптического типа. — М.: Наука, 1973. — 426 с.
  165. А.Г., Лидский В. Б. О спектре эллиптического уравнения// Мат. заметки. — 1970. — Т. 7, № 4. — С. 495−502.
  166. В.Я. О математическом моделировании задач сплошной среды с неравновесным переносом // Современ. проблемы мат. физики и вычислит, мат.: Сб. ст. — М.: Наука, 1982. — С. 113−127.
  167. А.В. Газовый разряд. М.: Знание, 1981.
  168. В.Г. Система инженерных и научных расчетов MATLAB 5.x: в 2-х томах. М: ДИАЛОГ-МИФИ, 1999.
  169. И.Ш., Желтухин B.C. Применение ВЧ плазмы пониженного давления в процессах полировки поверхности твердых тел // Вест. Казан, гос. технол. ун-та. 2003. С. 136−142.
  170. Устройство для нанесения покрытий в вакууме / И. Ш. Абдуллин, В. С. Желтухин, И. Г. Гафаров, М. Я. Иванов.- Патент РФ № 1 610 927.
  171. И.Ш., Углов А. А., Хусаинов И. Г. Воздействие потока неравновесной низкотемпературной плазмы на германий и кремний // Физ. и химия обработки материалов. -1992. — № 6. — С. 82−85.
  172. И.Ш., Желтухин B.C., Миронов М. М. Модификация поверхности медицинских металлических имплантантов с целью придания им бактерицидных и биоактивных свойств // Тез. докл. VII конф. по физике газового разряда. Самара. 21—24 июня 1994 г.
  173. Р., Гильберт Д. Методы математической физики: В 2-х т. Т. 2. М.- Л.: Гостехиздат, 1951. — 544 е., ил.
  174. Математическое моделирование конвективного тепло-массообмена на основе уравнений Навье-Стокса / В. И. Полежаев, А. В. Бунэ, Н. А. Верезуб и др. — М.: Наука, 1987. — 272 с.
  175. В.М., Полежаев В. И., Чудов Л. А. Численное моделирование процессов тепло-массообмена. — М.: Наука. Гл. ред. физ.мат. лит., 1984. 288 с.
  176. С. Численные методы решения задач теплообмена и динамики жидкости: Пер. с англ. — М.: Энергоатомиздат, 1984. — 152 с. Пер. с англ. — М.: Мир, 1988. 428 е., ил.
  177. О.М. Численное моделирование в механике сплошных сред. — М.: Наука. Гл. ред. физ.мат. лит., 1984. — 520 с. Марчук Г. И. Методы расщепления. — М.: Наука. Гл. ред. физ.мат. лит., 1988. 264 с.
  178. Запрянов 3., Миносцев В. Б. Метод расчета пространственного обтекания тел сверхзвуковым потокм газа // Изв. АН СССР. Сер. механ. и машиностр. — 1964. — № 5. — С. 20- 24.
  179. П.И. Метод характеристик для пространственных сверхзвуковых течений. М.: ВЦ АН СССР, 1968. 150 с.
  180. Harlow F.H., Welch J.E. Numerical calculations of time-dependent viscous incompressible flow of fluid with free surface // Phys. Fluids.- 1965. Vol. 8. — 1965. — P. 2182−2189.
  181. А.А., Андреев В. Б. Разностные методы для эллиптических уравнений. — М.: Наука. Гл. ред. физ.-мат. лит., 1976. — 352 с.
  182. А.А., Гулин А. В. Численные методы: Учеб. пособие для вузов. — М.: Наука. Гл. ред. физ.-мат. лит., 1989. — 432 с.
  183. Г. И. Методы вычислительной математики. — М.: Наука. Гл. ред. физ.мат. лит., 1977. — 456 с.
  184. Г., Корн Т. Справочник по математике (для научных работников и инженеров) / Пер. с англ. под общ. ред. И. Г. Арамановича. — М.: Наука. Гл. ред. физ.мат. лит., 1974. — 832 с.
  185. Н.С., Жидков Н. П., Кобельков Г. М. Численные методы: Учеб. пособие. — М.: Наука. Гл. ред. физ.мат. лит., 1987. — 600 с.
  186. Фундаментальные и прикладные аспекты распыления твердых тел.- М.: Мир, 1989. 256 с.
  187. Распыление твердых тел ионной бомбардировкой. Ч. 2. Физическое распыление многоэлементных твердых, тел. М.: Мир, 1986.
  188. А.Ф., Якунин М. И. Об определении эффективных вероятностей гетерогенной рекомбинации атомов по тепловым потокам к поверхности, обтекаемой диссоциированным воздухом // Мат. моделирование. 1989. — Т.1, № 3. — С.44 — 60.
  189. Boeny H.V. Effect of Low Temperature Plasma on the Adhesion of Materials // 1-st Ann. Intern. Conf. Plasma Chem. and Technol: San Diego, Calif. 1982. — P. 109−118.
  190. M.M. Вырождающиеся эллиптические и гиперболические уравнения. — М.: Наука, 1966. — 292 с.
  191. О., Морган К. Конечные элементы и аппроксимация. — М.: Мир, 1986. — 320 е., ил.
Заполнить форму текущей работой

На отлично!