Диплом, курсовая, контрольная работа
Помощь в написании студенческих работ

Взаимосвязь механизмов токопротекания, технологических параметров и электрофизических характеристик светодиодов на основе гетероструктур AlGaN/InGaN/GaN и AlInGaP

Диссертация: Взаимосвязь механизмов токопротекания, технологических параметров и электрофизических характеристик светодиодов на основе гетероструктур AlGaN/InGaN/GaN и AlInGaP
ДиссертацияПомощь в написанииУзнать стоимостьмоей работы

Первые светодиоды синего и зеленого диапазонов спектра, разработанные на фирме Nichia Chemical Industry, содержали одну квантовую яму, куда осуществлялась инжекция носителей заряда. Квантовая яма располагалась в компенсированном слое шириной до 120 нм. Недостатками эксплуатационных характеристик таких структур были большие туннельные токи и малая квантовая эффективность. Поиски оптимальных… Читать ещё >

Содержание

  • ГЛАВА 1. ОБЗОР ПУБЛИКАЦИЙ ПО ЭЛЕКТРОФИЗИЧЕСКИМ И ТЕХНОЛОГИЧЕСКИМ СВОЙСТВАМ, ХАРАКТЕРИСТИКАМ И ПАРАМЕТРАМ ВЫСОКОЭФФЕКТИВНЫХ СВЕТОДИОДОВ
    • 1. 1. Свойства, параметры и характеристики исходных полупроводниковых материалов
      • 1. 1. 1. Основные параметры нитрида галлия
      • 1. 1. 2. Основные параметры нитрида индия
      • 1. 1. 3. Основные параметры нитрида алюминия
      • 1. 1. 4. Основные параметры трехкомпонентных растворов на основе соединений GaP и InP
    • 1. 2. Конструктивно-технологические параметры высокоэффективных светодиодных структур
    • 1. 3. Электрофизические характеристики и параметры высокоэффективных светодиодов
    • 1. 4. Механизмы рекомбинации и спектры электролюминесценции светодиодов с квантовыми ямами
    • 1. 5. Влияние термополевых воздействий на параметры и характеристики высокоэффективных светодиодов
  • Выводы по обзору материалов публикаций
  • ГЛАВА 2. МЕТОДИЧЕСКОЕ И АППАРАТУРНОЕ ОБЕСПЕЧЕНИЕ ЭКСПЕРИМЕНТАЛЬНЫХ ИССЛЕДОВАНИЙ ХАРАКТЕРИСТИК И ПАРАМЕТРОВ СВЕТОДИОДОВ
    • 2. 1. Метод измерения распределения концентрации зарядовых центров в области изменения объемного заряда р-n перехода и устройство для его реализации
    • 2. 2. Методы измерения вольт-амперных и люмен-амперных зависимостей и устройство для их реализации
      • 2. 2. 1. Измерение вольт-амперных зависимостей
      • 2. 2. 2. Измерение характеристик электролюминесценции
  • Выводы к главе 2
  • ГЛАВА 3. АНАЛИЗ РАСПРЕДЕЛЕНИЙ КОНЦЕНТРАЦИИ ЗАРЯДОВЫХ ЦЕНТРОВ В ОБЛАСТИ ИЗМЕНЕНИЯ ПРОСТРАНСТВЕННОГО ЗАРЯДА СВЕТОДИОДНЫХ ГЕТЕРО-СТРУКТУР НА ОСНОВЕ AIGaN/InGaN/GaN и AlInGaP С
  • КВАНТОВЫМИ ЯМАМИ
    • 3. 1. Виды распределений концентрации зарядовых центров в светодиодных структурах AIGaN/InGaN/GaN и AlInGaP с квантовыми ямами
    • 3. 2. Нестабильность распределения концентрации зарядовых цен
    • 3. 3. Образование скрытых инверсных слоев в эпитаксиальных
  • ГЛАВА 4. МЕХАНИЗМЫ ПРОТЕКАНИЯ ТОКА В СВЕТОДИОДНЫХ СТРУКТУРАХ С КОМПЕНСИРОВАННЫМ СЛОЕМ
    • 4. 1. Вольт-амперные зависимости гомопереходов и гетеропереходов
    • 4. 2. Модель механизма протекания тока в режиме его ограничения последовательным сопротивлением, образующимся в компенсированном слое
    • 4. 3. Механизмы возникновения избыточных токов безизлучательной рекомбинации
  • Выводы к главе 4
  • ГЛАВА 5. КВАНТОВАЯ ЭФФЕКТИВНОСТЬ СВЕТОДИОДОВ С КВАНТОВЫМИ ЯМАМИ НА ОСНОВЕ ГЕТЕРОСТРУКТУР
  • AlGaN/InGaN/Ga и AIInGaP
    • 5. 1. Анализ причин спада квантовой эффективности светодиодных структур с компенсированным слоем
    • 5. 2. Изменение характеристик светодиодов при длительном протекании прямого тока в режиме ограничения его последовательным сопротивлением компенсированного слоя
  • Выводы к главе 5. структурах светодиодов
  • Выводы к главе 3
  • ВЫВОДЫ ПО ДИССЕРТАЦИИ
  • СПИСОК ЦИТИРУЕМЫХ РАБОТ

Взаимосвязь механизмов токопротекания, технологических параметров и электрофизических характеристик светодиодов на основе гетероструктур AlGaN/InGaN/GaN и AlInGaP (реферат, курсовая, диплом, контрольная)

Актуальность темы

.

В 90-х годах 20-го столетия в оптоэлектронике произошла научно-техническая революция, которая определила направление развития этой области электроники: были разработаны и теперь массово изготавливаются светодиоды синего и зеленого диапазонов спектра на основе нитридных соединений, квантовая эффективность которых на 2−3 порядка стала выше традиционных светодиодов на основе фосфида галлия и карбида кремния. В настоящее время уже идет речь о замене традиционных источников света полупроводниковыми.

Вместе с этим остается ряд серьезных проблем, которые не позволяют достичь теоретически прогнозируемые параметры светодиодов на основе указанных материалов. К их числу относятся: недостаточно отработанные конструктивно-технологические параметры светодиодных структурнеясности механизмов токопротекания, формирования вольт-амперной зависимости и причин снижения квантовой эффективности при средних и высоких плотностях токовнедостаточное понимание механизмов изменения параметров в процессе длительной работы.

Первые светодиоды синего и зеленого диапазонов спектра, разработанные на фирме Nichia Chemical Industry, содержали одну квантовую яму, куда осуществлялась инжекция носителей заряда. Квантовая яма располагалась в компенсированном слое шириной до 120 нм. Недостатками эксплуатационных характеристик таких структур были большие туннельные токи и малая квантовая эффективность. Поиски оптимальных структурно-технологических параметров привели к созданию светодиодных структур с 4−5-ю квантовыми ямами, которые в свою очередь различаются по характеру легирования барьеров по краям квантовых ям. Наряду с этим ведутся поиски решений геометрии кристалла структур. Но до сих пор остается одна из важных проблем уменьшения ширины компенсированного слоя между инжектором и активной областью.

Вольт-амперные зависимости светодиодов на основе гетероструктур AlGaN/IGaN/GaN и AlInGaP схожи с вольт-амперными зависимостями кремниевых и SiC p-i-n структур, несмотря на то, что компенсированный слой у первых на несколько порядков тоньше. Теория вольт-амперных характеристик (ВАХ) p-i-n диодных структур была разработана в предположении двойной инжекции в компенсированный слой [1−4]. В этих работах принимается, что сопротивление компенсированного слоя проявляется после снятия потенциального барьера диода. Однако имеются экспериментальные данные, свидетельствующие, что при наступлении режима ограничения тока последовательным сопротивлением потенциальный барьер не снимается полностью. Из этого следует, что полученные в [1−4] математические модели требуют доработки.

В отличии от традиционных источников света, у которых квантовая эффективность не снижается при повышении тока, в светодиодах он достигает максимального значения при относительно малых плотностях тока — 1−10 А/см, а затем снижается в 5−10 раз и более при достижении плотности тока до 100 А/см2. В качестве причины указывается повышение температуры р-п перехода. Однако имеются данные, что температурный спад квантовой эффективности неадекватен ее спаду при повышении плотности тока.

Далеко не полно исследовано поведение параметров светодиодов на основе гетероструктур AlGaN/IGaN/GaN и AlInGaP с квантовыми ямами при различных энергетических воздействиях. Несмотря на то, что прогнозируемая долговечность таких светодиодов на основе гетероструктур AlGaN/IGaN/GaN и AlInGaP 100 000 часов, еще нет результатов такой наработки по причине малого времени существования высокоэффективных светодиодов на основе указанных полупроводниковых соединений. Поэтому актуальным является исследование деградации светодиодов при повышенной мощности для разработки основ ускоренных методов прогнозирования долговечности.

Представленный анализ проблем качества светодиодных структур на основе нитридных соединений и AlInGaP свидетельствует об актуальности поставленной темы диссертации и необходимости их решения путем комплексных экспериментальных исследований и разработки моделей, адекватно их описывающих.

Цель работы: определение взаимосвязи механизмов токопротекания и поведения квантовой эффективности при различных режимах работы в светодиодных гетероструктурах с квантовыми ямами на основе AlGaN/InGaN/GaN и AlInGaP с их основными конструктивно-технологическими и электрофизическими характеристиками и параметрами.

Для достижения поставленной цели решались следующие задачи:

1. Измерить и проанализировать распределение концентрации зарядовых центров в активной области светодиодных структур с квантовыми ямами.

2. Исследовать механизмы протекания электрического тока в структурах с квантовыми ямами.

3. Определить причины спада квантовой эффективности при средних и высоких плотностях тока.

4. Выявить природу сопротивления протеканию тока в структурах с компенсированным слоем.

5. Исследовать влияние длительного токопротекания на параметры и характеристики светодиодов.

Научная новизна:

1. Разработана модель механизма формирования вольт-амперной зависимости светодиодных структур на основе AlGaN/InGaN/GaN и AlInGaP с квантовыми ямами при высоких уровнях инжекции, основанная на учете изменения характера распределения электрического поля в компенсированном слое р-n перехода, в результате которого образуется участок ускоряющего поля для инжектированных носителей зарядана нем происходит дополнительное падение внешнего напряжения смещения.

2. Установлено, что наличие компенсированного участка в распределении концентрации зарядовых центров светодиодных структур с квантовыми ямами является причиной отклонения от экспоненциальной зависимости их вольт-амперных и люмен-вольтовых характеристик вследствие падения напряжения на участке компенсированного слоя.

3. Выявлен механизм возникновения и нестабильности токов безизлуча-тельной рекомбинации при прямом смещении в светодиодных структурах с квантовыми ямами на основе соединений AlInGaP, обусловленный аккумуляции зарядовых центров на поверхности кристалла.

4. Обнаружено изменение распределения концентрации зарядовых центров в области р-п — перехода при протекании прямого тока в период работы после технологических операций изготовления светодиодных структур, обусловленная распадом нестабильных комплексов и миграцией точечных дефектов, а также изменения их зарядового состояния.

5. Обнаружено образование скрытых компенсированных слоев в квазинейтральной слаболегированной области светодиодных структурах при длительном протекании прямого тока высокой плотности.

6. Предложена модель механизма влияния сильного электрического поля в компенсированном слое на токопротекание, квантовую эффективность и изменение параметров светодиодов при длительной работе.

Практическая ценность работы:

1. Модернизирован и автоматизирован измерительный комплекс для реализации неразрушающего метода измерения распределения концентрации зарядовых центров в барьерных структурах, что позволило повысить его разрешающую способность по глубине профиля до 1 нм и использовать для исследования активной области светодиодных структур с квантовыми ямами.

2. Установленная взаимосвязь между характером распределения концентрации зарядовых центров, механизмами токопротекания и люминесцентными характеристиками светодиодных структур на основе соединений AlGaN/InGaN/GaN и AlInGaP является основой для поиска путей повышения их эффективности.

3. Определены электрические режимы и механизм изменения распределения концентрации зарядовых центров и параметров светодиодных структур при длительном протекании прямого тока, которые являются основой для разработки методов прогнозирования и повышения срока их службы.

На защиту выносятся следующие положения:

1. Основные свойства и параметры вольт-амперной и люкс-амперной характеристик определяет компенсированный слой между ри плегированными областями светодиодных структур, который технологически создают в активной области квантовых ям, либо образующийся в процессе неконтролируемой взаимной диффузии примесей в процессе эпи-таксии.

2. Участок ограничения тока последовательным сопротивлением на вольт-амперной характеристике обусловлен снятием тормозящего электрического поля в компенсированном слое внешним смещением и образованием в нем ускоряющего поля для инжектированных носителей зарядана этом участке устанавливается режим сильных электрических полей и насыщения дрейфовой скорости носителей зарядарекомбинация носителей заряда происходит по краям участка ускоряющего поля.

3. Токи безизлучательной рекомбинации при малых напряжениях смещения возникают в результате туннелирования носителей заряда сквозь физический приповерхностный р-n переход на поверхностные реком-бинационные уровни: физический р-n переход образуется в результате инверсии типа проводимости в приповерхностном слое кристалла от воздействия адсорбированного на поверхности кристалла заряда. Нестабильность плотности поверхностного заряда обусловливает нестабильность токов безизлучательной рекомбинации.

4. Токовая тренировка после завершения технологических операций изготовления светодиодной структуры вызывает разрушение нестабильных и возникновение новых стабильных комплексов, а также миграцию точечных дефектов, вызывая существенное изменение начального распределения концентрации зарядовых центров в области квантовых ямв результате токовой тренировки характер распределения концентрации зарядовых центров и параметры светодиодов стабилизируются.

5. В процессе длительного протекания прямого тока через светодиодную структуру в ее слабо легированной области могут образовываться скрытые компенсированные слои в результате стока точечных дефектов и продуктов распада комплексов к границам эпитаксиальных слоев.

6. Спад квантовой эффективности при плотностях тока J > (1−10 А/см) происходит вследствие уменьшения вероятности рекомбинации в квантовых ямах носителей заряда, получающих дополнительную кинетическую энергию в ускоряющем поле компенсированного слоя в режиме ограничения тока его последовательным сопротивлениемпри напряженности ускоряющего электрического поля в нем Е > 300 кВ/см квантовая эффективность уменьшается еще и вследствие перехода горячих электронов в боковую долину с последующей безизлучательной рекомбинацией.

7. Изменение характеристик светодиодов при длительной работе в режиме ограничения тока последовательным сопротивлением компенсированного слоя обусловлено образованием точечных дефектов по механизму подпрогового смещения атомов при их взаимодействии с горячими носителями заряда, получающими дополнительную кинетическую энергию на участке ускоряющего поля компенсированного слоя.

Достоверность результатов. Достоверность полученных результатов достигнута проведением измерений по апробированным методикам на автоматизированных информационных комплексах, укомплектованных новой аттестованной измерительной аппаратурой, согласием экспериментальных результатов и теоретических моделей, развитых в ходе работы, согласием основных результатов, полученных в работе, с данными других исследователей.

Апробация работы:

Основные результаты докладывались на второй Международной конференции по физике кристаллов «Кристаллофизика 21-го века», посвященная памяти М. П. Шаскольской, 28−30 октября 2003 г., Москва, МИСиС. На VI международной конференции «Опто-, наноэлектроника, нанотехнологии и микросистемы», Ульяновск, 2004 г., на VII Международной конференции «Опто-, наноэлектроника, нанотехнологии и микросистемы», Ульяновск, 2005 г., на Третьей Международная конференция по физике кристаллов «Кристаллофизика 21-го века», посвященная памяти М. П. Шаскольской, 2006 г., Москва, МИСиС.

Личное участие автора. В диссертационной работе изложены результаты, полученные как лично автором, так и в соавторстве. Все экспериментальные результаты работы, расчеты и обработка результатов получены и выполнены автором самостоятельно. Автором развита модель зависимости тока от напряжения на компенсированном слое на участке ограничения тока последовательным сопротивлением компенсированного слоя, модернизирован измерительный комплекс. Научным руководителем оказана помощь в интерпретации экспериментов по длительной наработке светодиодов, и разработке физических и математических моделей.

Публикации. По материалам диссертации опубликовано 9 печатных работ, в том числе 3 статьи, одна из которых в журнале, рекомендованном ВАК, и 6 тезисов докладов, опубликованных в сборниках трудов международных конференций.

Структура и объем диссертации

: диссертация состоит из введения, пяти глав, основных выводов и списка цитируемых литературных источников. Объем диссертации составляет 206 страниц, в том числе 100 рисунков и 5 таблиц, список литературных источников из 128 наименований.

1. Экспериментально по распределениям концентрации зарядовых.

центров установлено, что в светодиодных структурах с квантовыми.

ямами на основе широкозонных полупроводниковых соединений.

AlGaN/InGaN/GaN и AlInGaP независимо от характера легирования.

активной области расположения квантовых ям между легированными.

областями р-п перехода существует компенсированный слой, который.

создают технологически, либо образующийся в процессе.

неконтролируемой взаимной диффузии примесейналичие этого слоя.

является причиной ограничения потенциальных параметров.

светодиодов,.

2. Нарушение экспоненциальной зависимости вольт-амперных и люмен амперных характеристик у светодиодных структур с квантовыми ямами.

обусловлено перераспределением внешнего напряжения смещения.

между барьерными областями области пространственного заряда в.

легированных слоях и областью дрейфа в компенсированном слое.

после изменения в нем направления электрического поля, созданного.

внешним напряжением смещения. 3. Ток безизлучательной рекомбинации при малых напряжениях прямого.

и обратного смещения в светодиодных структурах на основе.

соединений AlInGaP возникает при аккумуляции на поверхности.

кристалла электрического заряда, который инвертирует тип.

проводимости в приповерхностном слое, в результате чего образуется.

физический р-п переход и создаются условия для туннельной.

рекомбинации через поверхностные центрынестабильность тока.

связана с нестабильностью плотности поверхностного заряда;

обработка кристаллов антистатическим составом устраняет этот.

механизм образования тока.4. После технологических операций по созданию светодиодов в их.

кристаллической структуре образуются комплексы и точечные.

дефекты, которые изменяют свою электрическую активность после.

протекания прямого тока вследствие распада нестабильных и.

образования новых комплексов и миграции точечных дефектов с малой.

энергией активацииэта перестройка вызывает изменение.

первоначального распределения концентрации зарядовых центров и.

последующую его стабильность и стабильность характеристик. 5. Длительное протекание тока через светодиод в режиме ограничения.

его последовательным сопротивлением компенсированного слоя.

приводит к образованию скрытых инверсных слоев в активной области.

вследствие стока точечных дефектов к границам эпитаксиальных слоев,.

миграция которых стимулируется возбуждением их электронной.

системы горячими электронами, приобретающими энергию в.

ускоряющем поле компенсированного слоя. 6. Спад квантовой эффективности светодиодов в режиме ограничения.

тока последовательным сопротивлением компенсированного слоя.

связан с уменьшением вероятности рекомбинации горячих носителей.

заряда в квантовых ямах и смещением области рекомбинации на края.

участка с ускоряющим полемдругой причиной спада квантовой.

эффективности является эффект перехода горячих электронов в.

боковую долину с последующей безызлучательной рекомбинацией. 7. Деградация люминесценции светодиодов при высоком уровне.

инжекции обусловлена образованием безызлучательных центров.

точечных дефектов, которые возникают по подпороговому механизму.

при взаимодействии горячих электронов компенсированного слоя с.

атомами кристаллической решетки.

Показать весь текст

Список литературы

  1. Bougrov V., Levinshtein М.Е., Rumyantsev S.L., Zubrilov A., in Properties of Advanced SemiconductorMaterials GaN, AIN, InN, BN, SiC, SiGe //JohnWiley & Sons, Inc., New York, 2001,1−30
  2. Fan, J.W., M. F Li, T. C, Chong, J.B. Xia, Electronic properties of zinc-blende GaN, AIN, and their alloys Ga^^AlxN // J.Appl. Phys. 79(1) (19 961 188−194
  3. Pankove J.I., Bloom, S., Harbeke, G. // RCA Rev., 36 (1975) 163
  4. M.E., Rumyantsev S.L., Shur M.S. // John Wiley & Sons, Inc., New York, 2001,1−30.
  5. Manchon, D.D., Barker, A.S., Dean, J. R, Zetterstrom, R.B. // Solid State Commun, 8(1970)1227
  6. Martin, G, A. Botchkarev, A. Rockett, H. Morkoc. Valence-band discontinuities of wurtzite GaN, AIN, and InN heterojunctions measured by x-ray photoemissionspecfroscopy // Appl. Phys. Lett.68(18) (1996), 2541−2543
  7. I.Akasaki, H.Amano. Properties of Group III Nitrides // EMIS Datareviews Series, N11,1994,an INSPEC publication, 30−34
  8. S.H. Strite, J. Marcos // J. Vac. Sci. Tecnol. BIO, 4, (1992), 1237−1266
  9. Albrecht, J.D., R. R Wang, RR Ruden, M. Farahmand, K. F Breman // J. Appl. Phys. 83(9) (1998), 4777−478 195
  10. Bhapkar, U. V, M.S. Shur, Monte Carlo calculation of velocity-field characteristics of wurtzite GaN // J. Appl. Phys. 82, 4 (1997), 1649−1655
  11. Chernyak, L., A. Osinsky, H. Tonkin, J.W. Yang, Q. Chen, MA. Khan, Electron beam induced current measurements of minority carrier diffusionlength in gallium nitride //Appl. Phys. Lett. 69(17) (1996), 2531−25 33.
  12. O’Leary, S.K., Foutz B.E., Shur M.S., Bhapkar U.V., Eastman L.F., Electron transport in wurtzite indium nitride. // J. Appl. Phys. B3JJ998'' 826=829.
  13. Davydov, V.Yu., Emtsev V.V., Goncharuk A.N., Smirnov A.N., Petrikov V.D., Mamutin V.V., Vekshin V.A., Ivanov S.V., Smirnov M.B. and InushimaТ., Experimental and theoretical studies of phonons in hexagonal InN //Appl. Phys. Lett 75 (1999), 3297−3299.
  14. Lambrecht, W.R., Segall В., Anomalous band-gap behavior and phase stability of c-BN-diamond alloys // Phys. Rev. В 47 (1993), 9289−9296
  15. Bechstedt R, Furthmuller J., Ferhat M., Teles L. K., Scolfaro L. M. R., 1. eite J. R., Davydov V. Yu., Ambacher 0., Goldhahn R. Energy gap andoptical properties of In^GauxN. // Phys. Stat. Solidi (a) 195(3), (2003), 628−633.
  16. O’Leary, S.K., Foutz B.E., Shur M.S., Bhapkar U.V., Eastman L. R, Electron transport in wurtzite indium nitride. // J. Appl. Phys. 83 (1998), 826−829.
  17. GUO, Q, Yoshida A. // Jpn. J. Appl. Phys. 33, part 1,5A (1994), 2453−2456.-
  18. Christensen, N.E., Gorczyca L, Optical and structural properties of III-V nitrides under pressure. // Phys. Rev. В 50 (1994), 4397−4415.
  19. Collins, A. T, Lightowlers, E.C., Dean, P. // J. Phys Rev. 158,3 (1967), 833- 838.
  20. Tansley, T.L., Egan R.J., Point-defect energies in the nitrides of aluminum, gallium, and indium. // Phys. Rev. В 45,19 (1992), 10 942−10 950-
  21. Jenkins, D.W., Dow J.D., Electronic structures and doping of InN, xN, and InxAIi.xN. // Phys Rev. В 39,5 (1989), 3317−3 329 196
  22. Boguslawski, P., Briggs, E.L., Bernholc, Amphoteric properties of substitutional carbon impurity in GaN and AIN // J. Appl. Phys. Lett. 69, 2(1996), 233−235
  23. , I., Svane A., Christensen N.E. // Internet J. Nitride Sem. Res. 2, Article 18 (1997).
  24. K.F.Brennan, P.K.Chiang//J.Appl.Phys., 71, no.2, pp.1055−1057 (1992).
  25. Amato et al. Patent Number 5,496, 766. Mar. 5,1996
  26. Nakamura et al. Patent Number 5,306, 662. Apr. 26,1994
  27. E. L. Piner, F. G. Mclntosh, N. A. El-Masry, etc. Growth and Properties of InGaN and AlInGaN Thin Films on (0001) Sapphire // MRS Internet J. Nitride Semicond. Res. 1,1996, 43
  28. Д.С., Сизов B.C., Заварин E.E. и др. Кинетика и неоднородная инжекция носителей в нанослоях InGaN // ФТП, 2005, т. 39, вын. 2, с.92−95.
  29. Wagner J., Ramakrishnan А., Behr D., etc. Composition dependence of the band gap energy of InxGal-xN layers on GaN (x < 0.15) grown by metal-organic chemical vapor deposition // MRS Internet J. Nitride Semicond. Res.4S1,G2.8,1999.-6C.
  30. Chichibu S.F., Sota Т., Wada K., etc. Spectroscopic studies in InGaN quantum wells. // MRS Internet J. Nitride Semicond. Res. 4S1, G2.7, 1999.- 1 4 c.
  31. Chiu S.-Y, Anwar A.F.M., Wo S. Base transit time in abrupt GaN/InGaN/AlGaN HBTs // MRS Internet J. Nitride Semicond. Res. 4S1, G6.7,1999-бс.
  32. N.M. Smidt, P. S. Vergels, E.B. Yakimov. EBIC characterization of light emitting structures based on GaN // ФТП, 2007, том 41, вып. 4
  33. R.L. Anderson. IBM. J. Res. Dev. v.4, 1960, p.283- R.L. Anderson. Solid State Electron., v.5,1962, p.341
  34. А.А. Ефремов, Д. В. Тархин, Н. И. Бочкарева, Ю. Т. Ребане, Ю. Г. Шретер. Определение коэффициента ослабления света в тонких слояхсветодиодных структур // ФТП, 2006, том 40, вып. З, с.380−383
  35. Takeshi Uenoyama Optical gain spectra in InGaN/GaN quantum wells with the compositional fluctuations // MRS Internet J. Nitride Semicond. Res.4S1,G2.9,1999.-6 с
  36. Н.И Бочкарева, А. А. Ефремов, Ю. Т. Ребане, Р. И. Горбунов, А. В. Клочков, Ю. Г. Шретер. Неоднородность инжекции носителей заряда идеградация голубых светодиодов // ФТП, 2006, том 40, вып. 1, с. 122−127
  37. Никифоров. Температура в жизни и работе светодиодов. Часть 1 // Компоненты и технологии. 2005, № 9, с. 140−146
  38. Никифоров. Температура в жизни и работе светодиодов. Часть 2 // Компоненты и технологии. 2005, № 8, с. 18−23
  39. Sakharov A.V., Lundin W.V., Usikov А., etc. Heterostructure for UV LEDs based on thick AlGaN layers // MRS Internet J. Nitride Semicond. Res. 3,28,1998.-4 с
  40. H.C. Грушко, Л. Н. Потанахина. Определение параметров потенциальных барьеров с двойной гетероструктурой на основе GaN сквантовой ямой // Ученые записки Ульяновского государственногоуниверситета. Сер. Физическая. 2004, вып. 1(16), с.23−25
  41. H.C, Грушко, Н. В. Дуванова, Е. А. Логинова. Структуры InGaN/SiC с модулированным легированием // Ученые записки Ульяновскогогосударственного университета. Сер. Физическая. 2004, вып. 1(16), с.30−39
  42. К.Г., Кудряшов В. Е., Туркин А. Н., Юнович А. Э. Спектры люминесценции голубых и зеленых светодиодов на основемногослойных гетероструктур InGaN/AlGaN/GaN с квантовыми ямами//ФТП, 1997, Т.31,№ 9, с. 1055−1058
  43. В.Е., Туркин А. Н., Маняхин Ф. И. и др. Люминесцентные и электрические свойства светодиодов InGaN/AlGaN/GaN смножественными квантовыми ямами // ФТП, 1999, т. ЗЗ, вып.4, с. 445−450
  44. А.Н., Маняхин Ф. И., Юнович А. Э. и др. Люминесценция р-п- гетероструктур InGaN/AlGaN/GaN при ударной ионизации // ФТП, 1998,32,№ 1,с.63−67
  45. К.Г., Кудряшов В. Е., Туркин А.Н и др. Туннельные эффекты в светодиодах на основе гетероструктур InGaN/AlGaN/GaN с квантовымиямами//ФТП, 1997, 31, № 11, с. 1304−1309
  46. А.Н., Маняхин Ф.И., Кудряшов В. Е и др. Изменения люминесцентных электрических свойств светодиодов изгетероструктур InGaN/AlGaN/GaN при длительной работе // ФТП, 1999, т. З, ВЫП.2, с.224−232
  47. М. Shatalov, А. Chitnis, V. Adivarahan, А. Lunev, J. Zhang, J.W. Yang, Q. Farrid, G. Simin, A. Zakheim, M. Asif Khan. Band edge luminescence inInGaN multiple quantum well light emitting diodes with quanternaryAlInGaN barriers. // ?
  48. Н.И. Бочкарева, Е.А. Zhirnov, А. А. Ефремов, Ю. Т. Ребане, Р. И, Горбунов, Ю. Г. Шретер. Туннельно-рекомбинационные токи иэффективность электролюминесценции InGaN/GaN светодиодов //ФТП, 2005, ТОМ.39, вып.5, с.627−632-
  49. А.Л. Закгейм. Особенности работы светодиодов сине-зеленого диапазона на основе InGaN-структур с квантово-размерной областьюпри высоких уровнях возбуждения. // Светодиоды и лазеры, 2001, №, с. 43−49-
  50. Ф.И. Маняхин. Причины спада выходной мошности излучения и внешнего квантового выхода светодиодных структур AlGaN/InGaN/GaNс квантовыми ямами при больших напряжениях прямого смешения //Изв. ВУЗов, сер. Материалы электронной техники, 2004, № 1, с. 45−50-
  51. Ф.И. Маняхин. Проблема деградации параметров светодиодов и пути ее решения // Изв. ВУЗов, сер. Материалы электронной техники, 2005,№ 4, с. 67−72
  52. А.А. Ефремов, Н. И. Бочкарева, Р. И. Горбунов, Д. А. Лавринович, Ю. Т. Ребане, Д. В. Тархин, Ю. Г. Шретер. Влияние джоулева разогрева наквантовую эффективность и выбор теплового режима мощных голубыхInGaN светодиодов // ФТП, 2006, том 40, вып.5, с. 621−627
  53. С. Мамакин, А. Э. Юнович, А. Б. Ваттана, Ф. И. Маняхин. Электрические свойства и спектры люминесценции светодиодов наоснове гетеропереходов InGaN/GaN с модулировано-легированнымиквантовыми ямами // ФТП, 2003, том 37, вып.9, с.1131−1137
  54. B.C., Четверикова И. Ф., Чукичев М, В,. Центры с глубокими уровнями в полупроводниках. Тр. межд. конф. -%ьяновск, 1997, с. 114.
  55. А.Э. Дивакансии азота — возможная причина желтой полосы в спектрах люминесценции нитрида галлия // ФШ, 1998, т. 32, вып. 10, с.1181−1183
  56. А.Н. Туркин. Катодолюминесценция гетероструктур на основе нитрида галлия // 2-nd Russian Conference «Gallium, Aluminium andIndium Nitrides», Febr. 2003.
  57. M.A. Reshchikov, G.-C. Yi, B.W. Wessels. Defect Luminescence in Heavily Mg Doped GaN // 2-nd Russian Conference «Gallium, Aluminium andIndium Nitrides», Febr. 2003.
  58. H. Witte, A. Kritschil, M. Lisker et al. Defect States in SiC/GaN -and SiC/AlGaN/GraN -Heterostructures Characterized by Admittance andPhotocurrent Spectroscopy // 2-nd Russian Conference «Gallium, Aluminium and Indium Nitrides», Febr. 2003.
  59. M. Jlepy, П. Веннегэ, Далмассо и др. Альтернативная модель голубой полосы люминесценции в GaN, сильно легированным Mg //Лазеры и светодиоды. с. 19
  60. D.I. Bletskan, O.R. Lukyanchuk, O.D. Bletskan. Effect of the Sapphire Substrate on Spectral emission features of LEDs based onInGaN/AlGaN/GaN Heterostructures // Sem. Phys. Quant. El. & Otoel.2003,V.6,N2,p.l89−191
  61. B.E. Кудрятов, A.H. Туркин, А. Э. Юнович, A.H. Ковалев, Ф. И. Маняхин. Люминесцентные и элекгрические свойства светодиодовInGaN/AlGaN/GaN с множественными квантовыми ямами // ФТН, 1999, том 33, вып. 4, с. 445−450
  62. А.В. Андрианов, В. Ю. Некрасов, Н. М. Шмитд и др. Низкотемпературная время-разрешенная фотолюминесценция вквантовых ямах InGaN/GaN // ФТН, 2002, том 36, вып. 6, с.679−684 201
  63. A.H. Грузинцев, А. Н. Редькин, Barthou. Излучательная рекомбинация нанокристаллов GaN при большой мощностиоптического возбуждения // ФШ, 2005, том 39, вып. 10, с.1200−1203
  64. В.Ф. Коваленко, А. Ю. Мирониченко, СВ. Шутов. Влияние дрейфа носителей заряда во встроенном квазиэлектрическом поле на спектризлучения варизонных полупроводников // ФТП, 2002, том 36, вын.2,с.192−196
  65. А.Н. Георгобиани, А. Н. Грузинцев, У. А. Аминов и др. Краевая ультрафиолетовая люминесценция активированных в плазме азотапленок GaN: Zn // ФТП, 2001, том 35, вьш. 2, с.149−154
  66. F/J/ Sanchez, F. Calle, D. Basak et al. Yellow luminescence in Mg-doped GaN // MIJ-NSR, V.2, Art. 28
  67. F.J. Sanchez, D. Basak, M.A. Sanchez-Garcia et al. Yellow Band and Deep 1. evels in Undoped MOVPE GaN // MU-NSR, V. I, Art.7.
  68. В.Ю. Некрасов, Л. В. Беляков, О. М. Сресли, Н. Н. Зиновьев. Донорно- акцепторная фотолюминесценция слабо компенсированного GaN: Mg //ФШ, 1999, ТОМ. ЗЗ, вып. 12, с. 1428−1435
  69. H, R, Акимова, П. Г. Елисеев, М. А. Осинский, П. Перлин. Спонтанное излучение квантоворазмерной гетероструктуры GraN/InGaN/AlGaN прибольшом токе накачки // Квантовая элекгроника, 1996, т.23, № 12,с.1069−1071
  70. N.A. Shapuro, Piotr Perlin et al. The effects of indium concentration and well-thickness on the mechanism of radiative recombination in InxGai-xNquantum wells // MU-NSR, V.5, Art. l
  71. A.H. Грузинцев, A-H. Редькин, В. И. Таций и др. Элементарные полосы голубого свечения нелегированных пленок нитрида галлия // ФТП, 2004, том. 38, вып. 9, с.1039−1042
  72. R. Cingolani, G. Goli et al. Optical properties of GaN/AlxGal-xN quantum wells // Phys. Rev. B, V. 56, N 3, p. 1491−1 495 202
  73. Y. Narukava, Y. Rfwakami, S. Fujita, S. Fujita. Recombination dynamics of 1. ocalized exitons in Ino.20Gao.80N-Ino.05Gao.95N multiple quantum wells //Physical Review B, 1977, V. 55, N4, p. R1938-R1941
  74. B.B. Криволапчук, M.M. Мездрогина, A.B. Насонов, Н. Родин. Фотолюминесценция объемных кристаллов GaN, легированных Ей //ФТТ, 2003, том 45, вын. 9, с. 1556−1559
  75. А.Н. Туркин, М. В. Чукичев. Спектры катодолюминесцешщи гетерострукгур InGaN/AlGaN/GaN // Ритриды галлия, индия, алюминия
  76. S.F. Chichibu, Т. Sota, К. Wada et al. Spectroscopic studies in InGaN Quantum Wells // MJ-NSR, V. 1, Art. 2
  77. B. Monemar, J.P. Bergman, J. Dalfors et al. Mechanism for Radiativ Recombination in Ino. i5Gao.85N/(jaN Multiple Quantum Well
  78. B. Mjnntmar, J.P. Btrgman, LA. Buyanova et al. Free Exitons in GaN // MIJ- NSR, V. l, Art.2
  79. K. Fukui, S. Hamada, S. Naje et al. Photo Luminescence and Photo 1. uminescence Exitation Spectra of AIN // International Workshop onNitride Semiconductors 2006, October 22−27,2006, Kyoto, Japan, p.442
  80. Y. Honda, S. Kato, M. Yamaguchi, N. Sawaki. Series resistance in GaN/AlGaN/n-Si Structure Grown by MOVPE // International Workshop onNitride Semiconductors 2006, October 22−27,2006, Kyoto, Japan, p.457
  81. Ф.И. Эффект поднорогового смещения атомов нри взаимодействии с горячими электронами // Материалыдокладов международного научного семинара «Шумовые идеградационные процессы в полупроводниковых приборах». Москва. МЭИ. 1997. 394−399.203
  82. Т.В., Шейнкман М. К. Физическая природа деградации светодиодов и нолунроводниковых лазеров. // ЖПС. 1983. Т.38. В.З. 371−382.
  83. И.В. Греков, А. Ф. Шулекин, М. И. Векслер. Деградация туннельных МОП структур при высокой плотности тока // ФТП, 1998, том 32, Т6, с.743−747
  84. Л.П. Павлов. Методы определения основных параметров полупроводниковых материалов. Москва, Высшая школа, 1987,239 с.
  85. Л.С. Нелинейная полупроводниковая емкость. Москва. Изд. физ-мат. лит. 1963. 86 с.
  86. Д.А. Способ определения концентрации примесей в полупроводниковых пластинах. Патент № 504 516.
  87. Берман Л. С, Лебедев А. А. Емкостная спектроскопия глубоких центров в полупроводниках. Ленинград. Наука. 1981.176 с.204
  88. Berman L.S. Purity control of semiconductors by method of capacitance transient spectroscopy. St-Petersburg, Russia. «Electronics IntegralSystems». 1995. P. 114.
  89. П., Ортон Дж.В. Методы измерения электрических свойств полупроводников. Ч.1 // Зарубежная радиоэлектроника. 1981. Ш. З-50.
  90. Л.С. Берман. Емкостные методы исследования прлупроводников. Изд. Наука, Ленинградское отделение. Ленинград. 1972 г. 104 с.
  91. Chang Y.F. The capacitance of p-n-junctions. // Solid State Electron., 1967, v. l0,№ 4,p.281−287-
  92. Kleinknecht H.P. Space-charge capacitance of asymmetric abrupt p-n- junction. // J. Appl. Phys., 1967, v.38, № 7, p.3034−3035-
  93. A.c. № 1 087 002 СССР. «Способ измерения профиля концентрации носителей заряда в полупроводниках иустройство, для его осуществления». Маняхин Ф. И., КовалевА.Н.
  94. Т., Огита М. Способ и устройство для измерения распределения примеси в полупроводниках. Яп. патент № 52−44 030.
  95. Ф.И. Маняхин. Деградация излучателей при высоких уровнях инжекции // Техническая физика, 1995, вып. 3−4, с.76−83
  96. Н.С. Грушко. Термодинамика 1″)вденсированных сред,ьяновск, УлГУ. 2001 Г. 167 с.
  97. Н.Ю. Арутюнов, А. В. Михайлин, В. Ю. Давыдов, В. В, Емцев, ГА. Оганесян, Е. Е. Халлер. Исследование комнлексов вакансионного типа вGaN и A1N методом аннишяции позитронов // ФТП, 2002, том 36, вьш.1О, с. 1186−1190
  98. Мопешаг, В., Lagerstedt, О., Gislason, Н.Р., J. Appl. Phys. 51 (1980) 625
  99. Б.Л. Шарма, Р. К. Пурохит. Полупроводниковые гетеропереходы. Пер. с английского под ред. Ю. В. Гуляева. М.- «Советсше радио», 1979,228 с.
  100. R.L. Anderson. IBM. J. Res. Dev. v.4, 1960, p.283- R.L. Anderson. Solid State Electron., v.5,1962, p.341
  101. S.S. Perlman and D.L. Feucht. Solid State Electron., v.7,1964, p.911
  102. U.Dolega, Z. Naturf. v. l8a, 1963, p.653
  103. Ю.С., Рыжиков И. В. Инжекция электронов и дырокв изоляторы и полупроводники. ЭТ, Серия № 2, Полупроводниковыеприборы, 1972, № 4, с.3−2. Часть Ц
  104. Акимов Ю. С, Рыжиков И. В. Инжекция элекгронов и дырокв изоляторы и полупроводники. Часть П. ЭТ, Серия № 2,Полупроводниковые приборы, 1972, № 4, с.47−76
  105. Э.И. Адирович, П.М. Карагеоргий-Алкалаев, А. Ю. Лейдерман. Токи двойной инжекции в полупроводниках. Под ред. Е. И. Гальперина, Москва, «Советское радио», 1 978 206
  106. Herring // Bell Sys. Techn. J., 1949, v. 28, № 401, p. l72
  107. Ф.И. Маняхин, E.B. Калинина. Особенности распределения заряда, напряженности электрического поля и потенциала ввысоковольтных барьерных структурах па оспове SiC // Изв. ВУЗов, сер. «Материалы элекгропной техники», 2003, № 2, с.50−56.
  108. V.F. Mymrin, К.А. Balashevich, N.I. Podolskaya, LA. Shmakin, S.Yu. Karpov, Yu.N. Makarov. Modelling study of MQW LED operation //Phys. Stat. Sol. ©, 2, No. 7,2928−2931 (2005)
  109. В.СВавилов. Излучательная реюзмбинация в полупроводпиках // Успехи физических паук, 1959, т. LXVni, вып. 2, с. 247−260
  110. А.Н. Георгобиани. Электролюмипесцепция цолупроводпиков и полупроводниковых структур // Соровский образовагельпый журпал.2000,том.6,№ 3,с.105−111
  111. К.В. Шалимова. Физика полупроводников. Высшая школа. 1980, 357 с.207
Заполнить форму текущей работой

На отлично!