Аналитические модели статических и переходных характеристик длиннобазовых биполярных транзисторов с изолированным затвором (БТИЗ)
Для статического режима в одномерном приближении при больших уровнях инжекции получено распределение концентрации дырок в п" — базе и формулы для падения напряжения и&bdquo— на базе БТИЗ. Установлено, что дрейфовый механизм переноса дырок становится доминирующим над диффузионным вблизи эмиттерного р±п перехода при толщине ¿-4>вЬрэ, а падение напряжения ипначинает резко увеличиваться при… Читать ещё >
Содержание
- СПИСОК ОБ^клЧЕНИЙ
- ОБЩАЯ ХАРАКТЕРИСТИКА РАБОТЫ
- ГЛАВА 1. ФИЗИЧЕСКИЕ ОСНОВЫ РАБОТЫ БИПОЛЯРНЫХ ТРАНЗИСТОРОВ С ИЗОЛИРОВАННЫМ ЗАТВОРОМ
- 1. 1. Конструкции и принципы действия БТИЗ
- 1. 2. Статические вольтамперные характеристики
- 1. 3. Переходные процессы при включении и выключении
- БТИЗ на активную нагрузку и в схеме полумоста
- Выводы по первой главе
- ГЛАВА 2. СТАТИЧЕСКИЕ ВОЛЬТАМПЕРНЫЕ ХАРАКТЕРИСТИКИ ВЫСОКОВОЛЬТНЫХ БТИЗ С ТОЛСТОЙ Ы-БАЗОЙ
- 2. 1. Одномерная аналитическая модель для расчета распределения подвижных носителей в базе БТИЗ
- 2. 2. Расчет падения напряжения на п-базе БТИЗ в статическом режиме
- 2. 3. Расчет коэффициента инжекции коллекторного р-п перехода в БТИЗ
- Выводы по второй главе
- ГЛАВА 3. МОДЕЛИ ДЛЯ ПЕРЕХОДНЫХ ПРОЦЕССОВ ПРИ
- ВКЛЮЧЕНИИ БТИЗ С РАЗНЫМИ ВИДАМИ НАГРУЗОК
- 3. 1. Диффузионно-дрейфовая модель переходных процессов при включении длиннобазового БТИЗ с чисто активной нагрузкой
- 3. 1. 1. Анализ влияния трехмерных эффектов растекания основных и неосновных носителей заряда в п — базе на точность одномерной модели определения переходной характеристики БТИЗ при включении ключа
- 3. 1. Диффузионно-дрейфовая модель переходных процессов при включении длиннобазового БТИЗ с чисто активной нагрузкой
1″, 1Р — электронный, дырочный ток, А- п,)р — плотность электронного, дырочного тока, А/см2- - суммарная плотность тока, А/см — п, р — концентрация электронов, дырок, см"3- л&bdquo-, Рр- подвижность электронов, дырок, см /(В-с) —
Дь 1) Р — коэффициент диффузии электронов, дырок, см /с- 1) а = 2----коэффициент амбиполярной диффузии, см /с-
Аг+Пр
Ъ = —— отношение подвижностей электронов и дырок- д — 1.6−10"19 Кл — заряд электрона- Е — напряженность электрического поля, В/см- тр — время жизни дырок, с-
Ьр = ф: рОа — амбиполярная диффузионная длина дырок в базе БТИЗ, см- ур — коэффициент инжекции коллекторного р+ - п перехода-
2 — ширина диффузионных эмиттерных р-ячеек-
4 — толщина п-базы БТИЗ- с1^о2 — толщина подзатвороного окисла БТИЗ- к — 1.38−10"23 Дж/К — постоянная Больцмана-
Т- температура, К- щ -1.5−10 см" - собственная концентрация носителей в полупроводнике- рп — удельное сопротивление п-базы БТИЗ, Ом-см-
Бк — площадь активной коллекторной области БТИЗ, см — Ш- периметр всех диффузионных эмиттерных ячеек- ЬЭрп — ширина эмиттерного р-п перехода БТИЗ-
1/кэ — напряжение коллектор-эмиттер БТИЗ, В- изэ — напряжение на электродах затвор-эмиттер БТИЗ, В-
IIпор — пороговое напряжение открывания канала БТИЗ, В-
Кз — сопротивление в цепи затвора БТИЗ, Ом-
Сзэ — емкость затвор-эмиттер БТИЗ-
Сзк — емкость затвор-коллектор БТИЗ-
ОБЩАЯ ХАРАКТЕРИСТИКА РАБОТЫ
Аналитические модели статических и переходных характеристик длиннобазовых биполярных транзисторов с изолированным затвором (БТИЗ) (реферат, курсовая, диплом, контрольная)
Однако, несмотря на относительно долгое использование БТИЗ в схемах силовой электроники физика работы прибора остается не до конца изученной, а математической модели (подобной SPICE моделям для МОП транзисторов) до сих пор нет. Для БТИЗ с 1/кэмакс00 В (dn<2Lp), изготавливаемых на эпитаксиально выращиваемых слоях с тонкой базой, процесс включения достаточно точно описывается диффузионной моделью переноса носителей, а процесс выключения сводится к простой рекомбинации носителей в базе прибора. Для другого же класса БТИЗ с Lfewa^lOOO В (dn>4+6Lp) с однородно легированным кремнием в качестве базы физическое и математическое описание переходных процессов полностью отсутствует в зарубежной и отечественной литературе. Это объясняется сложностью нестационарных процессов в структурах простейшего ключа с одним БТИЗ и активной нагрузкой, обусловленных трехмерным диффузионно-дрейфовым переносом дырок и электронов в п-базе БТИЗ, толщина которой превышает в 4−6 раза диффузионную длину дырок Ьр.
Нестационарные процессы в БТИЗ, входящих в состав полумостовых и мостовых схем с индуктивной составляющей нагрузки (величиной до нескольких микрогенри) и содержащих антипараллельные диоды, оказываются гораздо сложнее нестационарных процессов при включении и выключении одиночного БТИЗ в ключевой схеме с чисто активной нагрузкой. Для полумостовых схем расчеты по формулам для одиночного БТИЗ совершенно неприменимы и не позволяют получить достаточно точные аналитические выражения или численные значения для времен ¿-еюг иыкл, поскольку в данном случае надо учитывать одновременно переходные процессы восстановления обратного сопротивления быстродействующих высоковольтных антипараллельных диодов с р-п переходом и влияние реальных значений индуктивности в нагрузке Ь и паразитных индуктивно-стей в цепи постоянного тока (величиной до 100 нГн).
Сложность нестационарных процессов в таких структурах обусловлена также трехмерным диффузионно-дрейфовым переносом дырок и электронов в п-базе БТИЗ, толщина которой йп превышает в 3−4 раза диффузионную длину дырок Ьр, кроме того, диффузионные эмиттерные р-ячейки имеют размеры в 3−5 раз меньше ?4, а также сложным характером поведения от времени токов через БТИЗ и антипараллельный диод и напряжений на них из-за влияния индуктивностей в цепи питания.
Отсутствие в отечественной и зарубежной литературе методов расчета переходных процессов при включении и выключении БТИЗ в реальных полумостовых схемах с антипараллельными диодами препятствует проведению оптимизации отечественных конструкций БТИЗ с целью повышения их быстродействия в таких наиболее распространенных схемах, не позволяет найти величины выброса прямого тока при включении БТИЗ и перенапряжений на БТИЗ при выключении.
Цель работы. Целью данной диссертации является разработка аналитических методов расчета распределения носителей заряда и электрических параметров биполярного транзистора с изолированным затвором с горизонтальным каналом и длинной базой в статическом и динамическом режимах. Поставленная цель определяет следующие основные задачи:
1. Исследование явлений переноса носителей заряда в БТИЗ, происходящих в базовом слое толщиной в несколько диффузионных длин дырок;
2. Разработка аналитических моделей, описывающих процессы включения и выключения БТИЗ с толстой базой и активной нагрузкой;
3. Исследование прямого падения напряжения в приборах данного типа в зависимости от их конструктивных и физических параметров;
4. Моделирование переходных процессов в схемах полумоста с индуктивной нагрузкой;
5. Исследование физических процессов, происходящих в антипараллельных диодах в схеме полумоста и получение аналитических выражений, позволяющих оценить времена обратного восстановления диода при включении БТИЗ.
Научная новизна диссертации определяется тем, что в ней впервые:
1. Установлено, что в БТИЗ с толстой базой (с1п>АЬр) необходимо учитывать не только диффузионные процессы, которые доминируют в приборах с толщиной базы сравнимой с эффективной диффузионной длиной дырок, но также надо принимать во внимание дрейф носителей через базовый слой.
2. Предложены аналитические выражения для расчета распределения дырок в базе со временем при включении БТИЗ в ключевой схеме на активную нагрузку и формулы для времен включения 1вкл и выключения 1выт прибора.
3. Из анализа работы основной ключевой схемы, применяемой на практике — схемы полумоста с индуктивной нагрузкой с двумя БТИЗ и двумя антипараллельными диодами впервые получены аналитические выражения для распределения подвижных носителей в базе БТИЗ, позволяющие достаточно точно оценить времена переключения 1вЮ1 и 1выкл в такой схеме с учетом процессов происходящих в паре БТИЗ-антипараллельный диод.
Практическая значимость. Полученные в работе новые результаты анализа механизмов переноса заряда через толстую базу биполярного транзистора с изолированным затвором в статическом режиме и численная оценка полного прямого падения напряжения в приборе были использованы для разработки первого отечественного БТИЗ. Кафедрой физики полупроводников и микроэлектроники Воронежского госуниверситета под руководством профессора Петрова Б. К. совместно с АООТ ВЗПП (НПО «Электроника», г. Воронеж) были разработаны биполярные транзисторы с изолированным затвором на основе перспективной технологии с использованием однородно легированных подложек кремния п" - типа. В результате были созданы приборы КП 730А с икэмаКС=600-=-1200 В при токе коллектора 1к=50 А. Инженерные формулы, полученные аналитическими методами для распределения носителей в базе БТИЗ, времен включения и выключения прибора, падения напряжения в базе и времени обратного восстановления антипараллельного диода могут быть использованы для разработки новых биполярных транзисторов с изолированным затвором и ключевых схем на их основе.
Работа выполнялась в рамках научно-исследовательских работ кафедры полупроводников и микроэлектроники ВГУ «Физика переходных процессов в мощных биполярных транзисторах с изолированным затвором», тема НИЧ-618 и «Разработка многомерных моделей электрических и тепловых процессов в мощных биполярных транзисторах с изолированным затвором (БТИЗ)», тема НИЧ-802.
Основные результаты и положения, выносимые на защиту.
1. В БТИЗ с толстой базой (с1п>АЬр) наряду с диффузионным переносом носителей в базе существенное влияние на статические и переходные процессы оказывает дрейф носителей через базовый слой прибора.
2. Результаты аналитического расчета в статическом режиме тока коллектора, прямого падения напряжения, коэффициента инжекции коллекторного р-п перехода в зависимости от конструктивных и технологических параметров.
3. Закон распределения носителей заряда со временем при включении прибора на активную нагрузку и время выключения БТИЗ, учитывающие физические процессы, происходящие в структуре БТИЗ с толщиной базы большей АЬР.
4. Результаты аналитического расчета переходных процессов и времен включения и выключения полумостовой схемы с индуктивной нагрузкой с учетом взаимодействия двух приборов — БТИЗ и антипараллельного диода.
Апробация работы. Основные результаты диссертации докладывались и обсуждались на VI международной научно-технической конференции «Радиолокация, навигация, связь» (Воронеж, 2000), научно-техническом семинаре «Шумовые и деградационные процессы в полупроводниковых приборах» (Москва, 1997, 1998, 1999 гг.), Всероссийской межвузовской научно-технической конференции «Микроэлектроника и информатика» (Зеленоград, 1997, 1998), десятой научно-технической отраслевой конференции «Состояние и пути повышения надежности видеомагнитофонов» (Воронеж, 1996), а также на ежегодных научно-технических
11 конференциях аспирантов и научно-преподавательского состава ВГУ (Воронеж, 1996;2000 гг.).
Публикации. Основные результаты, представленные в диссертации, опубликованы в 19-и печатных работах в виде статей и тезисов докладов. В совместных работах автору принадлежат некоторые выводы аналитических выражений, результаты численных оценок по полученным аналитическим моделям и экспериментальные исследования. Определение направление исследований, обсуждение результатов и подготовка работ к печати осуществлялись совместно с научным руководителем проф. Петровым Б.К.
Структура и объем работы. Диссертация состоит из введения, четырех глав, заключения и списка литературы, включающего 57 наименований, и содержит 125 страниц печатного текста, 16 рисунков и 6 таблиц.
ОСНОВНЫЕ РЕЗУЛЬТАТЫ И ВЫВОДЫ
Анализ статического режима и переходных процессов в биполярных транзисторах с изолированным затвором, работающих в различных схемах позволил получить следующие результаты:
1. Исследованы механизмы переноса носителей заряда в БТИЗ с толстой базой. Вместо существовавшей диффузионной модели протекания тока для БТИЗ с толстой базой (с1п>4Ьр) предложена более точная диффузионно-дрейфовая модель.
2. Для статического режима в одномерном приближении при больших уровнях инжекции получено распределение концентрации дырок в п" - базе и формулы для падения напряжения и&bdquo— на базе БТИЗ. Установлено, что дрейфовый механизм переноса дырок становится доминирующим над диффузионным вблизи эмиттерного р±п перехода при толщине ¿-4>вЬрэ, а падение напряжения ипначинает резко увеличиваться при с1п>5Ьрэ. Представлена простая методика расчета коэффициента инжекции диффузионного коллекторного р±п перехода БТИЗ.
3. Для БТИЗ в схеме ключа с активной нагрузкой установлено, что в приколлекторной области при включении БТИЗ преобладает диффузионный механизм переноса дырок, а около эмиттера доминирует дрейфовый механизм. Получены аналитические выражения для распределения концентрации дырок в зависимости от времени в этих областях и формула для нестационарного падения напряжения на базе БТИЗ при включении прибора в зависимости от времени протекания постоянного коллекторного тока.
4. Впервые дан анализ переходных процессов, происходящих при переключении БТИЗ в схеме полумоста с индуктивной нагрузкой и антипараллельным диодом. С учетом изменения протекания тока в БТИЗ со временем при включении получены распределения концентрации дырок в п-базе диода и выражения расчета времени обратного восстановления диода через физические параметры диода и БТИЗ.
5. Предложены аналитические зависимости коллекторного тока от времени с учетом рекомбинации при выключении БТИЗ в схеме ключа с активной нагрузкой, а также формулы для времени выключения Установлено, что минимальное время выключения ¿-выкя=2,3 тр (при ур= 1) имеет место в длиннобазовых БТИЗ, для которых йп-ЕкрП (Екэ)^>ЬрЭ.
6. Получены формулы, характеризующие длительность двух фаз выключения БТИЗ в схеме полумоста с индуктивной нагрузкой: фазы расширения эмиттерного р±п перехода, происходящего при постоянном коллекторном токе, и второй фазы — убывания коллекторного тока при почти постоянном напряжении 11кэ=Екэ
7. Впервые предложено аналитическое выражение для пикового напряжения Ц~кэ при выключении БТИЗ в схеме полумоста из-за э.д.с. самоиндукции на паразитных индуктивностях в цепи питания. Показано, что в быстродействующих БТИЗ с малым временем жизни дырок в п-базе (трд<0,2 мкс) пиковое напряжение может превысить предельно допустимое напряжение икэмакс
8. С помощью выведенных выражений для нестационарного падения напряжения на п — базе ип-() в ключевом режиме, а также в статическом режиме, можно проводить оптимизацию конструкций высоковольтных БТИЗ с заданными напряжениями 1/кэмакс и ипр, динамическими параметрами 1вк-ь 1выю1 путем научно обоснованного выбора толщины йп и удельного сопротивления рп п — базы, времени жизни дырок тр, топологии эмиттерных диффузионных р — ячеек.
С учетом полученных в настоящей работе результатов для статического режима работы БТИЗ кафедрой физики полупроводников и микроэлектроники Воронежского госуниверситета под руководством профессора Петрова Б. К. совместно с АООТ ВЗПП (НПО «Электро
118 ника", г. Воронеж) были разработаны первые отечественные биполярные транзисторы с изолированным затвором на основе перспективной технологии с использованием однородно легированных подложек кремния п — типа. В результате были созданы приборы КП 730А с икэмакс=600-И200 В при токе коллектора 1^=5О А.
Список литературы
- B.J. Baliga, M.S. Adler, P.V. Gray and R.P. Love The insulated gate rectifier (1.R): A new power switching device// IEEE IEDM Dig. abstract 10.6. -1982.-pp. 264−267.
- Б. Дж. Балига Эволюция техники силовых МОП-биполярных полупроводниковых приборов// ТИИЭР. 1988. — т.76. — № 4. — С. 117−127.
- D. Y. Chen, S. Chandrasekaran, S. A. Chin A new FET-bipolar combinational power semiconductor switch// IEEE Transactions on Aerospace and Electronic Systems. 1984. — Vol. AES-20. — No. 2. — pp. 104−111.
- F. Goodenough Power semiconductors// Electronic Devsign. 1987. -Vol.35.-No. l.-pp. 147−156.
- B.J. Baliga and E. Sun Comparison of gold, platinum, and electron irradiation for controlling lifetime in power rectifiers// IEEE Trans. Electron Devices.- 1977. vol. ED-24. — pp. 685−688.
- L. Lorenz MOS-controlled power semiconductor components for voltages from 50 V to 2000 V// EPE Journal. 1992. — Vol.2. — No. 2. — pp. 77−84.
- Флоренцев C.H. Состояние и перспективы развития приборов силовой электроники на рубеже столетий (анализ рынка)// Электротехника. 1999.- № 4. С. 2−9.
- В. Jayant Baliga Power ICs in the saddle// IEEE Spectrum. 1995. — pp. 34−48.
- Naresh Thapar and B. Jayant Baliga Enhancing the maximum controllable current density of the accumulation channel driven bipolar transistor// SolidState Electronics. 1999. — vol. 43. — pp. 395−402.
- Zuxin Qin, E.M.S. Narayanan, M.M. De Souza A lateral MOS-controlled thyristor-enhanced insulated gate bipolar transistor// Solid-State Electronics. -1999. vol. 43. — pp. 1845−1853.
- D.M. Garner, F. Udrea, H.T. Lim, W.I. Milne// Solid-State Electronics. -1999. vol. 43. — pp. 1855−1868.
- P.K. Steimer, H.E. Griming, J. Werninger IGCT появление новой технологии для сверхмощных экономически эффективных преобразователей// Электротехника. — 1999. — № 4. — С. 10−17.
- Naresh Thapar and В. Jayant Baliga An experimental evaluation of the on-state performance of trench IGBT designs// Solid-State Electronics. 1998. -vol. 42. — No. 5. — pp. 771−776.
- B.J. Baliga, M.S. Adler, P.V. Gray and R.P. Love Suppressing latch-up in insulated gate transistors// IEEE Electron Device Lett. 1984. — vol. EDL-5. -pp. 323−325.
- S. Clemente, A. Dubhashi, B. Pelly IGBT characteristics and applications// International Rectifier AN-983. pp. 93−106.
- Петров Б.К., Николаенков Ю. К. Моделирование эффекта защелкивания в биполярных транзисторах с изолированным затвором.// Научно-технический семинар «Шумовые и деградационные процессы в полупроводниковых приборах», Москва, 1996. С. 217−221.
- Т. P. Chow, В. J. Baliga, P. V. Gray, М. S. Adler, М. F. Chang, G. С. Pifer, Н. Yilmaz A self-aligned short process for insulated-gate bipolar transistors// IEEE Transactions on Electron Devices. 1992. — Vol. 39. — No. 6. — pp. 1317— 1320.
- Кузьмин В. А., Юрков С. H., Поморцева Л. И. Анализ и моделирование статических характеристик биполярных транзисторов с изолированным затвором// Радиотехника и электроника. 1996. — т. 41. — № 7. — С. 870−875.
- Иванов В. В., Колпаков А. И. Применение IGBT// Электронные компоненты. 1996. — № 1(2). — С. 12−15.
- G. Castino, A. Dubashi, S. Clemente, В. Pelly Protecting IGBTs against short circuit// International Rectifier AN-984. pp. 107−113.
- Nakagawa A., Imamura K., Furukawa K.// Toshiba Rev. 1987. — No. 161. -P.34.
- Heftier A.R., Blackburn D.L. An analytical model for the steady-state and transient characteristics of the power insulated-gate bipolar transistior// SolidState Electronics 1988. — Vol. 31. — No. 10. — pp. 1513−1532.
- M. J. Lazarus, I. Smith, L. L. Jones, A. D. Finney Output characteristics of insulated gate bipolar transistor modules and improvement with substrate control// IEE Proceedings. 1988. — Vol. 135. — No. 5. — pp. 97−106.
- Di-Son Kuo, Chenming Hu Optimization of epitaxial layers for power bipolar MOS transistor// IEEE Electron Device Letters. 1986. — Vol. EDL-7. -No. 7.-pp. 510−512.
- Di-Son Kuo, Chenming Hu An analytical model for the power bipolar-mos transistor// Solid-State Electronics. 1986. — Vol. 29. — No. 12. — pp. 12 291 237.
- Зи С. Физика полупроводниковых приборов/ Кн.2. Пер. с англ. 2-е перераб. и доп. изд. — М.: Мир, 1984. — 456 с.
- B.J. Baliga Fast switching insulated gate transistors// IEEE Electron Device Lett. 1983. — Vol. EDL-4. — pp.452−454.
- Проектирование и технология производства мощных СВЧ-транзисторов/ В. И. Никишин, Б. К. Петров, В. Ф. Сыноров и др. М.: Радио и связь, 1989. — 144 с.
- High turn-off current capability of parallel-connected 4.5 kV trench -IEGTs/ T. Ogura, K. Sugiyama, S. Hasegawa et al.// Proceedings of 1998 International Symposium on Power Semiconductor Devices & Ics Kyoto. 1998. -P. 47.
- Toshiba & Toshiba Semiconductor Group T. Sugimoto, Semiconductor Group Toshiba Corporation. Nov. 1998. — P. 30.
- Catt J., Chokhawala R., Pelly В. Введение по применению модулей БТИЗ в корпусах 600 В, ADD-A-PAK и INT-A-PAK// сб. Силовые полупроводниковые приборы: Пер. с англ. под ред. Токарева В. В. 1995. -С.509−544.
- Baliga В .J. Analysis of insulated gate transistor turn-off waveform// IEEE Electron Device Lett. 1985. — V.EDL. — N.6. — pp.74−77.
- Отчет о научно исследовательской работе «Физика переходных процессов в мощных биполярных транзисторах с изолированным затвором», Тема НИЧ-618, № госрегистрации 01.9.80 003 960.
- Петров Б.К., Николаенков Ю. К., Федоров М. Г. Статические вольтам-перные характеристики биполярных транзисторов с изолированным затвором.// Тезисы доклада Межвузовской научно-технической конференции «Микроэлектроника и информатика», Москва, 1996. С. 67.
- Петров Б.К., Николаенков Ю. К. Диффузионно-дрейфовая модель переходных процессов в биполярных транзисторах с изолированным затвором// Известия вузов. Электроника 1997. -№ 2-С.58−62.
- Моделирование и автоматизация проектирования силовых полупроводниковых приборов / В. П. Григоренко, П. Г. Дерменжи, В. А. Кузьмин и др. М.: Энергоатомиздат. 1988. — 280 с.
- Справочник по специальным функциям. С формулами, графиками и математическими таблицами/ Под ред. М. Абрамовича и И. Стиган. Пер. с англ. под ред. В. А. Диткина и JI.H. Кармазиной. М.: Наука, 1979. — 830 с.
- Тугов Н.М., Глебов Б. А., Чариков H.A. Полупроводниковые приборы/ Под ред. проф. В. А. Лабунцева. -М.: Энергоатомиздат. 1990. — 575 с.
- Блихер А. Физика силовых биполярных и полевых транзисторов. Л. -1986.-248 с.
- Nickolaenkov Y.K., Petrov В.К., Kursheva E.N. Switching characteristics of the power insulated gate bipolar transistor.// Proc. of the Fifth International Seminar on Simulation of Devices and Technologies. Obninsk, May 13−17 1996.-P. 40−41.
- Камке Э. Справочник по дифференциальным уравнениям в частных производных первого порядка/ Пер. с немецкого Н. Х. Резова и Б.Ю. Стер-нина. Под общей ред. Н. Х. Резова. М.: Наука. — 1966. — 260 с.
- Khersonsky Y., Robinson M., Gutierrez D. Использование ультрабыстрых гексагональных диодов (HEXFRED) в мощных ключевых схемах// сб. Силовые полупроводниковые приборы: Пер. с англ. под ред. Токарева В. В. 1995.-С. 545−553.
- Петров Б.К., Николаенков Ю. К. Переходные процессы при выключении высоковольтных БТИЗ в схеме полумоста.// Известия вузов. Электроника 1999. — № 5. — С. 43−48.
- Николаенков Ю.К. Моделирование растекания тока в высокоомной области ДМОП-транзистора.// Тезисы доклада Межвузовской научно-технической конференции «Микроэлектроника и информатика», Москва, 1996.-С.121.
- Петров Б.К., Николаенков Ю. К. Принципы создания биполярного транзистора с изолированным затвором.// Тезисы доклада II Всероссийской науч.-техн. конференции «Электроника и информатика 97», Зеленоград, 1997.-С.115.