Диплом, курсовая, контрольная работа
Помощь в написании студенческих работ

Фототравление поверхности меди с использованием галогенсодержащих полимерных композиций

Диссертация: Фототравление поверхности меди с использованием галогенсодержащих полимерных композиций
ДиссертацияПомощь в написанииУзнать стоимостьмоей работы

Впервые в комплексе рассмотрено влияние на процесс твердофазного фототравления наличия в составе фоточувствительных пленок на основе поливинилхлорида различных фотосенсибилизирующих соединений. Установлено, что наиболее эффективными сенсибилизаторами являются 1,3,6,8-тетрахлор-9-октилкарбазол (ТХОК), КГ-аллилфенотиазин и Ы-аллилфеноксазин. Рассмотрено влияние на процесс фототравления остаточных… Читать ещё >

Содержание

  • Введение 5 1. Основные закономерности процесса фототравления полимерными фоточувствительными композициями обзор литературы)
    • 1. 1. Влияние различных факторов на протекание процесса фототравления
    • 1. 2. Механизм фотолитического травления
    • 1. 3. Влияние ионов металлов и оксидов металлов на фотоокисление полимеров
    • 1. 4. Закономерности протекания фотодеструкции полимерных композиций для фототравления
    • 1. 5. Постановка задачи исследования
  • 2. Экспериментальная часть
    • 2. 1. Подготовка исходных реактивов
      • 2. 1. 1. Очистка поливинилхлорида
      • 2. 1. 2. Очистка растворителей
    • 2. 2. Изготовление фотошаблонов
    • 2. 3. Подготовка поверхности образцов к фототравлению
    • 2. 4. Подготовка составов для фототравления и нанесение их на поверхность образцов
    • 2. 5. Фототравление образцов
    • 2. 6. Удаление фотоактивной пленки и продуктов фототравления с поверхности дифракционной решетки
    • 2. 7. Определение состава продуктов фототравления меди
    • 2. 8. Методика измерения толщины фотоактивного слоя, наносимого на образец, и контроля качества поверхности меди
  • 3. Основные закономерности процесса фототравления поверхности меди
    • 3. 1. Выбор и исследование составов для удаления продуктов фототравления меди
    • 3. 2. Влияние различных факторов на процесс фототравления поверхности меди полимерными фоточувствительными покрытиями
  • 4. Расчет фазовых отражательных дифракционных решеток
  • 5. Исследование кинетических закономерностей процесса фототравления поверхности меди
    • 5. 1. Анализ сравнительной устойчивости радикалов, образующихся под действием УФ-облучения
    • 5. 2. Исследование кинетики образования продуктов реакции фототравления поверхности меди
  • Выводы

Фототравление поверхности меди с использованием галогенсодержащих полимерных композиций (реферат, курсовая, диплом, контрольная)

Для преобразования, разделения и исследования излучений большой мощности используются специальные изделия металлооптики, к числу которых относятся фазовые отражательные дифракционные решетки с различным профилем штриха. Для их изготовления используют механическую нарезку, фотолитографию и т. д. Каждому методу присущи недостатки. Например, механическая нарезка приводит к неравномерности по глубине, фотолитография — к большому количеству дефектов, искажающих характеристики излучения. Поэтому актуальность приобретает разработка новых методов изготовления отражательных дифракционных решеток. Наиболее перспективным в этом отношении является метод гетерофазного окисления на границе металл-полимер, инициируемого УФ-облучением. В результате фотолиза компонентов, содержащихся в полимерной пленке, нанесенной на поверхность металлической заготовки, образуются соединения, которые в месте облучения взаимодействуют с поверхностью металла. Продукты реакции удаляются растворителем. Преимущества процесса — в его одностадийности, благодаря совмещению стадий облучения и травления, и в уменьшении количества дефектов дифракционной решетки. При этом в зависимости от типа металла, подвергаемого фототравлению, и требований к качеству поверхности дифракционной решетки в каждом конкретном случае необходим индивидуальный подход к выбору состава фоточувствительной композиции. Наиболее перспективным в настоящее время является использование в этих целях галогенсодержащих органических соединений, в том числе, полимеров, позволяющих проводить процесс фототравления в контролируемых условиях.

Целью работы, исходя из вышесказанного, явилось выявление кинетических закономерностей и механизма процесса фототравления поверхности меди полимерными фоточувствительными композициями на основе поливинилхлорида и добавок различных фотосенсибилизаторов для получения дифракционных решеток с контролируемой глубиной штриха.

Для достижения поставленной цели потребовалось решить следующие задачи:

1. Исследовать взаимосвязь кинетических закономерностей процесса фототравления с условиями его проведения и составом фоточувствительной композиции (видом фотосенсибилизирующих добавок) — влияние образующихся продуктов фотолиза и их активности по отношению к меди.

2. Разработать методику определения состава продуктов фотохимических превращений и выбрать растворители для их удаления.

3. Провести расчет параметров дифракционных решеток, позволяющий определить необходимую глубину штриха для оптимального распределения интенсивности дифрагированного излучения по главным максимумам.

Научная новизна работы заключается в следующем.

На основе квантово-механических расчетов энергии разрыва связей для нормального и возбужденного состояния молекул был построен ряд сенсибилизаторов, расположенный по возрастанию фотоактивности, что позволило выбрать компоненты для фоточувствительной композиции и предложить механизм процесса фототравления меди с использованием композиций на основе поливинилхлорида.

Впервые исследованы состав продуктов фотохимических превращений и кинетика образования продуктов фототравления меди галогенсодержащими композициями.

Определена энергия активации процессов образования продуктов фототравления на поверхности меди в зависимости от состава композиции для фототравления.

Практическая значимость работы. -Предлагаемые фоточувствительные композиции, условия травления и проявления изображения могут быть использованы для получения фазового рельефа с заданными параметрами и в контролируемых условиях для любых планарных систем с медью.

— Предложенный механизм фототравления может быть положен в основу выбора новых материалов для осуществления процесса фототравления полимерными светочувствительными составами как для меди, так и для других переходных металлов.

— Разработанный алгоритм расчета параметров отражательных дифракционных решеток, позволяющий получить оптимальное распределение интенсивности дифрагированного излучения, может быть использован при расчетах требуемых параметров дифракционных решеток.

Основные положения, выносимые на защиту:

— взаимосвязь кинетических закономерностей процесса фототравления с условиями его проведения и составом полимерной композиции;

— предложенную методику удаления продуктов фототравления с поверхности меди и определения их состава;

— предложенный механизм процесса фототравления поверхности меди полимерными фоточувствительными композициями;

— алгоритм расчета параметров отражательных дифракционных решеток, позволяющих получить оптимальное распределение интенсивностей дифрагированного излучения по главным максимумам без изменения характеристик излучения.

Выводы.

1. Впервые в комплексе рассмотрено влияние на процесс твердофазного фототравления наличия в составе фоточувствительных пленок на основе поливинилхлорида различных фотосенсибилизирующих соединений. Установлено, что наиболее эффективными сенсибилизаторами являются 1,3,6,8-тетрахлор-9-октилкарбазол (ТХОК), КГ-аллилфенотиазин и Ы-аллилфеноксазин. Рассмотрено влияние на процесс фототравления остаточных количеств растворителей, условий проведения процесса, в частности, рассмотрена температурная зависимость в интервале 20 — 60° С скорости процесса фототравления.

2. Для объяснения механизма влияния сенсибилизатора на процесс фототравления меди проведены квантово-механические расчеты энергии диссоциации связей компонентов фоточувствительной композиции методом МЖЮ для нормального и возбужденного состояния молекул. Показано, что предложенные фотосенсибилизаторы могут легко переходить в возбужденное состояние при облучении лампой ДРШ-500, после чего энергетически выгодным является образование радикальных интермедиатов поливинилхлорида в результате гомолитического разрыва связей С-С1.

3. Методом ЭПР экспериментально обнаружено образование органических радикалов одинаковой природы при УФ-облучении полимерных композиций, независимо от природы вводимых добавок.

4. Предложен механизм фототравления поверхности меди галогенсодержащими фоточувствительными композициями, предлагающий образование радикальных интермедиатов поливинилхлорида с последующим выделением травителя (хлора), взаимодействующего с поверхностью меди.

5. Показано, что при взаимодействии продуктов фотолиза полимерной композиции с поверхностью меди образуется хлорид меди (I). Предложена методика его количественного определения.

6. Рассмотрены кинетические закономерности взаимодействия меди с хлором с учетом образования твердых продуктов реакции (СиС1) в пределах температур 20 -60° С. Установлено, что температурные зависимости начальной скорости процесса фототравления образцов удовлетворительно описываются уравнением Аррениуса. Энергия активации процесса заметно снижается при использовании в составе фоточувствительной композиции фотосенсибилизаторов: 1,3,6,8 -тетрахлор-9-октилкарбазола и бромоформа и составляет в этом случае 34±2 кДж/моль, в то время как в отсутствии сенсибилизатора она составляет 47 ± 9 кДж/моль.

7. Впервые проведен расчет и оптимизация параметров фазовых отражательных дифракционных решеток с прямоугольным профилем штриха. Найдены параметры, решетки, обеспечивающие ослабление излучения в 100 и 1000 раз ип максимумах порядка п = -1 и п = - 5. Установлена взаимосвязь иитснсипиостей главных дифракционных максимумов при дифракции волн разной длины и рассчитан коэффициент корреляции между длинами волн падающего излучения 10.6- 103 им (рабочей) и 630 им (применяемой для предварительных исследований.

Показать весь текст

Список литературы

  1. Pat. N 3 346 384/ Metal image formation// J. Gaynor.- USA, 1967.
  2. Pat. N 2 411 866/Verfahren zur Hersntlung von Metallbildern und Mittel zu Viner Durchfuhrung//Nagata Masayoshi, e.a.-BRD, 1975.
  3. Pat. N 3 516 346/ Photolytic etching of metals alloy// D.L. Shaefer, J.F. Burgess.-US A, 1970.
  4. Pat. N 3 551 227. Formation of tafered erges on magnetic films of photolytic etching// G.F. Burgess.- USA, 1979.
  5. Pat. N 3 489 563. Photolytic etching of Nickel-cromium alloy// D.L. Shaefer. USA, 1970.
  6. Pat. N 2 416 729. Verfahren zum Atzen von Strukturen Substratoberflachen// A. Gunther, L. Wolff.- BRD, 1975.
  7. Pat. N 3 483 108. Method of chemically etching a non-conductive material using an electrolytically controlled mask//D.L. Schaefer.- USA, 1969.
  8. Pat. N 3 520 686. Interact photolytic etching of silicin dioxide// R.F. Kopszevsky, D.L. Schaefer.- USA, 1970
  9. Pat. N 348 560. Method of etching a metal layer// J.F. Burgess, e.a.-USA, 1969.
  10. Castillo F., Martines G. Influense of structure on PVC//Polum Degrad. and Stab.-V.27.- N 1 1990.-P. 1−11.
  11. Pat. 4 719 163. Multi-active photoconductive elements// StaudenmayerW.J., Regan M.T.- USA, 1988.
  12. Pat. N 3 494 768. Condensed vapor phase photoetching of surfaces//D.L. Schaefer.- USA, 1970.
  13. К.А. и др. Нестационарная теория травления полимерных пленок в диффузионном режиме//Микроэлектроника-Т. 16.-N2.- 1987.- С. 131−139.
  14. Weiher J. L. Influence of structure defects of metallic films// J. Cryst. Growth.V. 88.-N 2.- 1988.- P. 221−228.
  15. К. А. Фототравление полимеров в присутствии воздуха светом// Химия высок. энергий.-Т.22.- N 4.- 1988.- С. 352−358.
  16. Lasar J., Sulvain В. Controll roughening of polyethylene// Rev.phys. appl.- V. 23.-N6.- 1988.-P. 1065−1070.
  17. Pat. N 350 690. Photolytic etching of aluminium oxide// J.F. Burgess.- USA, 1969.
  18. Ю.Д., Ларичева Т. Е. Химичекое травление пленок оксида кремния, облученных ускоренными ионами ксенона.// Структур. Осн. Модиф. Матер. Методами нетрадиц. Технол./ Межгос. Семин.- Обнинск.- 1719 июня 1997.- Обнинск, 1997.
  19. А.В. Фотохимические процессы в тонких слоях.-Л.: Химия, 1978.- 232 с.
  20. Рэнби Б, Рабек Я. Фотодеструкция, фотоокисление, фотосенсибилизация полимеров.: М.- Мир, 1978.- 676 с.
  21. Такаубо Масааки. Способ фотосенсибилизированного изготовления полимерных пленок// Кокай Токке кохо.- Сер 3(3).- N 22.- 1989.- С. 189−192.
  22. Huang W.U. Reactant preordering in polymer matrices//Macromoleculs.-1991.- V. 24.- N 16.-P. 4600−4604.
  23. Д. Механизм фотодсструкиии полимеров//Кобунси Како.- Т.40.-N3.- 1991 CM 14−119.•24. Маслюк А. Ф. и др. Фотосенсибилизированная полимеризация метилметакрилата//Высокомолскул. соед. А-Б.- 'Г. 40.- N 12.-С. 1937−1943.
  24. Pat. N 3 482 976. Photolytic etching of gold// D.L. Schaefer, J.F. Burgess.- USA, 1970.
  25. Pat. N 3 284 975. Photoetching of gold// D.L. Schaefer.- USA, 1970.
  26. Пат. N 59−13 585. Многослойный галогенсодержащий светочувствительный материал// Яги Т., Исикава М.-65 441.- БД ВИНИТИ «Химия» (св. том).- РЖ Хим, 1997.-N 811 241 П.
  27. П.З., Гафт С. И. Исследование оптической сенсибилизации композиций иа основе органических галогенидов// Физ. процессы в светочувств. системах.-Вссс. коиф. 10−14 окт. 1986.- Тез. докл.-Кемерово.-1986.
  28. Pat. N 242 877. Verfahren zur Erhohung der fotopolumer materialen//Baumann H., Timpe J.- Veb Filmarc Wolfen, 1987.
  29. Tao J, Wang J. Photosensibilization of two-dimensional polymers//Polym. Adv. Technol.- V.10.-N 4.- P. 244−250.
  30. Д.Г. Фотосенсибилизированное разложение перекисей в жестких матрицах// Всес. совещание по фотохимии.- Новосибирск.- 16−18 мая 1989.-Тез. докл.-1989.-С. 349.
  31. Urano Т, Nagao T. Photosensibilization mechanism in photopolymer coating film// Polym. Adv. Technol.- V.10.- N 6.- P. 348−356.
  32. В.И., Скурат B.E. Газообразные продукты фототравления и возможный механизм их образования//Химия высок, энергий, — Т.25.- N 5.-. 1991.- С. 448−453.
  33. А.Д. и др. Фотохимическое усиление эффектов фотовоздействия слоев на основе полигидроксиаминоэфиров//Химия высок энергий.- Т. 28.- N 4.- 1994.- С. 341−346.
  34. А .Я., Досовицкая И. Е. Фотохимические превращения соли дифенилиодония в матрицах антраценсодержащих полимеров// Доклады РАН T.351.-N 5.-1996.- С. 637−640.
  35. Suzuki М, Могу Y. Photosensibilized charge separation by complex-containing polymers//J.Chem. Soc.- V.92.-N 19 1996.- P. 3599−3604.
  36. Pat N 4 917 977. Visible sensitizers for photopolymerizable compositions//Smothers W.-USA, 1990.
  37. Gardette J.L., Phillipart J.L. Perturbation of photochemistry of PVC//J.Photochem. and Photobiol.-V.43.- N 2.- 1988.- P.221−231.
  38. В.А., Иванов В. Б. Механизм фотохимического дегидрохлорирования галогенсодержащих полимеров// Депонир. рукопись ВИНИТИ N 2233-D-88, 1988.
  39. А.П., Китай М. С. Фотохмический механизм роста полиенов при фотодеструкции поливинилхлорида// Высокомолекул. соед.- А.- Т.2.- Nш2.-1990.- С.425−432.
  40. С. и др. Стабилизация поливинилхлорида некоторыми производными бензимидазола// Ж.прикл. химии.- Т.61.- N 1.- 1988.- С. 191 194.
  41. М.А., Иванов В.Б.// Фотохимическое дегидрохлорирование поливинилхлорида.- Деп. рукопись ВИНИТИ.- 1988.
  42. Pat. N 4 962 141. Ethylene-vinyl chloride// Iacoviello J.G., DavidowichG.V.-USA, 1990.
  43. Delmata F.G. Synthetic and characterization of tungsten oxo alkylidene complexes//.!, of organometallic chem.- N 15.- 1996.-P. 183−189.
  44. П.П., Кузьмин В. А. Исследование рекомбинации радикальных пар * в полимерных пленках// Изв. АН СССР.- Сер. химия.-N 8.- 1988.- С. 17 421 745.
  45. Tsuji К. Cationic polymerizationof photochemically and thermally induced byphenothiazine cation radical salts//
  46. Adv. polymer Sci. N 12.- 1973.- P. 131.
  47. Jellinec H.H.S. Pavlinec J./ Photochemistry of macromolecules//J. Polym. Sci. Chem. N 3.- 1970.- P. 237−250.48Jotner J. Picosecond flash-photolysis studies on phenothiazine in polymers// J. Polym. Sci. Chem.-N37.- 1988.- P.199.
  48. Spreitzer, H.- Scholz, M.- Gescheidt, G.- Daub, J. Electron-transfer chemistry and redox-switching of stilbene-likeheteroaromatic-compounds// Hoechst Aktiengessell.- Zf.- Ep G865A: D-65 926 Frankfurt.- Germany, 1998.
  49. G., Francis J. //J. Amer. Chem. Soc.- V.83.- N11.- 1961.- P. 25 662 572
  50. B.A., Фридланд C.B. Ионы переходных металлов как катализаторы фотоокисления // Успехи химии и технологии полимеров.- Сб. З.-М.: 1960.
  51. Midsutani I. Catalytic influencing of ions of metals on process of photooxidation // J. Cemistry and Industry.- N 1.- 1988.- P. 124.
  52. Р.Ф., Карпухин O.H. Ионы цинка как антиоксиданты в реакциях с алкильными радикалами // Журн. физ. химии.- N 35.- 1987.- С. 61.
  53. В.Б., Кузнецова М. Н., Ангерт Л. Г. Исследование кинетических закономерностей фотоинициировфнных реакций // ДАН СССР.- вып.228,-1976.- С. 1144
  54. Дж., Питтс Дж. Фотохимия,— М.: Мир, 1968.- :78 с.
  55. О.Н. Гидроперекиси как катализаторы фотолиза ВМС// Кинетика и катализ.- Т. 17.- 1976.- С. 589.
  56. А.А., Червяцова Л.Л.Образование свободных радикалов в полимерных матрицах // В сб. Новые проблемы химии высокомолекулярных соединений.-Киев: Наукова думка.- 1975.- С. 129.
  57. A.A., Шрубович Б. А. Фотохимическое модифицирование органических соединений.- Киев: Наукова думка.- 1973.
  58. Е.Е. Быстрые реакции в растворах.- М.: Мир.- 1966.
  59. Г., Гомбкете Я. Светостойкость окрашенных текстильных волокон.- М.: Легкая индустрия.- 1975. Щ
  60. И.П., Золотарева К. А., Баранова A.C. Химические добавки к полимерам.- М: Химия.- 1973.
  61. H.H., Кротова А. И. Исследование продуктов фотолиза полимеров на основе полиметилметакрилата //Пласт, массы.- N 2.- 1976.- С. 56.
  62. B.C. Расчет характеристического квантового выхода полимеров//Пласт. массы, — N 2.- 1976.- С. 18.
  63. В.А. Исследование температурных зависимостей разложения полимеров// Высокомолек. соединения.- А.- N 18ю- 1976.- С. 1899.
  64. С.Д., Зайков Г. Е. Реакции кислорода с органическими соединениями.- М.: Наука, 1976.
  65. Э.Л., Бабинов H.H., Воеводский В. В. Зависимость квантового выхода разрыва связей от температуры стеклования// Кинетика и катализ.- N 6.-1985.-С 56.
  66. М.С., Бучаченко А. Л. Нейман М.Б., Васильева А.Г.Исследование механизма дегидрохлорирования поливинилхлорида// Кин. и кат.- N 6.- 1965.-С. 394
  67. В.Я. Механизмфотодеструкции поливинилхлорида// Пласт, массы.-N2.- 1989.-С 47.
  68. В.Я., Иванов В.Б.Фотодеструкция полимеров // Пласт, массы.-N5.- 1975.-С 15.
  69. В.Я., Иванов В. Б., Хвостач О. М., Шапиро А.Б.Термоокислительное дегидрохлорирование некоторых полимеров// ДАН СССР.- вып. 25.- 1985.- С. 1132.
  70. Энциклопедия полимеров.- М.: Советская энциклопедия, — 1972. 82. Эмануэль Н. М., Кнорре Д. Г. Курс химической кинетики, — М.: Высшая школа.- 1974.
  71. Allen N.C., McCellar G.P.// Chem. Soc. Revs.- N 4.- 1975.- P. 533.
  72. D.G. Wiles D.M. //J.Polym. Sei.: Polym. Lett.- N 14.- 1985.- P.493. 85McNeil I.C.// J. Oil and colour Chem. Assoc.- N 59.- 1976.- P. 231.
  73. Baileg D., Vogl O.//J. Macromolecul. Sci.-N 14.-1976.- P. 155.
  74. Baum B. Deanin R.D.// Polymer plast tecnol eng.- N 2.- 1973.- P. 1.
  75. Rabek J.F., Ranby В.// Polym. Eng. and Sei. N 15.- 1975.- P. 40.
  76. A.C., Давыдова В.М.Расчет энергии сопряжения двойных связей в ПВХ// Журн. прикл. химии.- N 36.- 1990.- С. 187.
  77. З. В. Яновский Д.М., Козлова А. И. Кинетические закономерности некоторых реакций дегидрохлорирования// Журн. прикл. химии.- N 35,1989.- С. 164.
  78. З.В., Яновский Д. М. Фотораспад поливинилхлорида// Журн. прикл. химии.- N 28.- 1986.- С. 158.
  79. Pokholok K.V., Karpukhin C.V.Mechanizm of thermodistuction// J. polymer Sci.-N 25.- 1988.-P. 48.
  80. Sheldric G.E., Vogl O. Photodistruction of Polymers// Polym. Eng. and Sei. N 16.- 1976.-P. 65
  81. Stove B.C., Fornes E.F.Termostabililyty of Polymers // Chem. Soc. Revs.- N 25.- 1985.- P. 33.
  82. Kirillova E.I., Fradkina G.P. Mater, plast.ed.elast//.// Chem. Soc. Revs N 16.1989.- P.86.
  83. Vinc P. Process of photooxidation // Plastica.-N 28.- 1976.- P. 25.
  84. M.B. Физика и химия твердого состояния органических веществ.М.: Мир. 1968.
  85. .А., Новиков C.B. Влияние растворителей на фотодеструкцию полимеров// Высокомолек. соединения.- N 6, 1984.- С.1127
  86. В.И., Пшежецкий С. Я.Дегидрохлорирование полимеров при УФ-облучении// ДАН СССР.- вып. 156.- 1964.- С. 144.
  87. ЮО.Турро Н. Молекулярная фотохимия.- М.: Мир, 1967.
  88. Справочник химика. T.2.-JI.: Госхимиздат.-1966.- 1170 с.
  89. Н.С. Общая и неорганическая химия,— М.: Высшая школа.-1993.-680 с.
  90. ЮЗ.Татевосян Г. О., Кузнецова И. Б. Фотолиз в слоях высокоскоростного полимерного покрытия// Пласт, массы.- N 7.- 1977.- С. 2221−2229.
  91. A.A., Калинин A.B. Распределение продуктов фотоокисления при диффузионном режиме сенсибилизированной фотоокислительной модификации полистирола // Пласт, массы.- N 7.- 1997.-С. 26−32.
  92. А., Форд Р. Спутник химика.- М.: Мир, 1976.- 541 с.
  93. Д.В. Общий курс физики. Т. 4. Оптика.- М.: Наука. Гл. ред физ.-мат. лит., 1980.- 752 с.
  94. Н.И. Волновая оптика.-М.: Высш. школа, 1978.-383 с.
  95. Е.А. Численные методы.-М.:Наука. Гл. ред. физ.- мат. лит. 1987.-248 с.
  96. Д. Анализ процессов статистическими методами.-М.:Мир, 1973.-396 с.
  97. Е.Е., Скороходова Т. С. Локальное фотоокисление неорганических материалов// Химики ТГУ на пороге третьего тысячелетия. Вопросы химии и химического материаловедения.- Изд-во Томского ун-та.-Томск.-1998.
  98. Е.Е., Скороходова Т. С. Новый карбазолилсодержащий реагент 1,3,6,8 тетрахлор-9-октилкарбазол// Первое северо-Кавказское совещание по химреактивам.- Махачкала.- Тез. докл.- С. 195.
  99. В.А., Сироткина Е. Е., Домина Н. Г., Хлебников А. И. Выбор и исследование составов для растворения продуктов фототравления поверхности меди// Известия высших учебных заведений. Химия и химическая технология.-2001.-Т.44.- Вып.4.- С. 139−141.
  100. В.А., Сироткина Е. Е., Домина Н. Г., Хлебников А. И. Фототравление поверхности меди полимерными фоточувствительными покрытиями//Журн Прикл. Химии.-2001 .-T.74.-N 11.- С.1884−1887.
Заполнить форму текущей работой

На отлично!