Диплом, курсовая, контрольная работа
Помощь в написании студенческих работ

Атомно-силовая микроскопия в исследовании шероховатости наноструктурированных поверхностей

Диссертация: Атомно-силовая микроскопия в исследовании шероховатости наноструктурированных поверхностей
ДиссертацияПомощь в написанииУзнать стоимостьмоей работы

The International Conference «Microand nanoelectronics — 2005» (ICMNE-2005) — V и VI Национальная конференция по применению рентгеновского, синхротронного излучений, нейтронов и электронов для исследования материалов (2005, 2007) — XXI и XXII Российская конференция по электронной микроскопии (2006, 2008) — XY Российский симпозиум по растровой электронной микроскопии и аналитическим методам… Читать ещё >

Содержание

  • 1. Литературный обзор
    • 1. 1. Атомно-силовая микроскопия
    • 1. 2. Аналитический обзор методик анализа статистических свойств наноструктурированных поверхностей по данным ACM
    • 1. 3. Методы изучения рельефа поверхности, основание на взаимодействии электромагнитного излучения с шероховатой границей раздела фаз
    • 1. 4. Вопросы исследования и использования многослойных интерференционных зеркал
  • 2. Методическая часть
    • 2. 1. Атомно-силовая микроскопия
    • 2. 2. Рентгеновское рассеяние
    • 2. 3. Оптические измерения
    • 2. 4. Образцы
  • 3. Экспериментальные результаты
    • 3. 1. Учет артефактов АСМ при расчете параметров шероховатости сверхгладких поверхностей
    • 3. 2. Влияние статического заряда поверхности диэлектрических материалов на достоверность данных АСМ
    • 3. 3. Комплексное исследование поверхностных наноструктур методами атомно-силовой микроскопии, рентгеновского рассеяния и дифференциального рассеяния света
    • 3. 4. Корреляция рельефа пленочного покрытия и подложки в интерференционных зерклах оптического диапазона

Атомно-силовая микроскопия в исследовании шероховатости наноструктурированных поверхностей (реферат, курсовая, диплом, контрольная)

Сверхгладкие поверхности с высотой шероховатости менее 1 нм являются одним из основных компонентов элементной базы современных нанотехнологий. Благодаря малой развитости рельефа сверхгладкие подложки со стохастическим и регулярным нанорельефом обладают рядом уникальных свойств, позволяющих объединить их в общий класспаноструктурированные поверхности.

Круг применения наноструктурированных поверхностей весьма широк. Они могут использоваться в качестве основы для формирования на них микро и нано электромеханических структур (МЭМС и НЭМС). Могут применяться как подложки для формирования пленок Ленгмюра-Блоджетт. Регулярные поверхностные наноструктуры могут служить матрицей для формирования сверхдлинных нанотрубок или для создания фазированных антенн субмикронного периода.

Однако в первую очередь наноструктурированные поверхности используются в качестве подложек для создания различных покрытий: полученные эпитаксией гетеропереходы, образующие элементы наноэлектроники, или многослойные покрытия для интерференционной оптики рентгеновского, ультрафиолетового или видимого диапазона. На основе различных зеркал возможно создание рентгеновских монохроматоров синхротронного излучения, реализация литографии экстремального ультрафиолета, построение кольцевых лазерных гироскопов (КЛГ).

Во всех случаях использования наноструктурированных поверхностей в качестве подложек, свойства созданных на их основе устройств зависят от статистических свойств рельефа поверхности. От шероховатости подложек зависит качество гетеропереходов в устройствах наноэлектроники. От развитости рельефа подложек зависит и величина рассеяния зеркал интерференционной оптики. Поэтому важной задачей представляется как исследование рельефа наноструктурированных поверхностей, так и взаимосвязь рельефа пленочных покрытий с рельефом подложек.

Благодаря высокому пространственному разрешению основным инструментом для изучения рельефа поверхности в нанометровом масштабе на сегодняшний день является атомно-силовая микроскопия (АСМ). Однако при использовании этого метода при исследовании наноструктурированных поверхностей возникает ряд методологических проблем, связанных с крайне низкой развитостью их рельефа и необходимостью учета малых аппаратных искажений метода АСМ. Требуется развитие методов описания статистических свойств нанорельефа, так как наиболее распространенные параметры шероховатости сверхгладких поверхностей не используют в полной мере данные АСМ. При изучении диэлектрических материалов актуальной задачей является изучение влияние статического заряда поверхности на получаемые АСМ-изображения. Не существует однозначно определенного подхода к исследованию методом АСМ корреляции рельефов подложки и пленочного покрытия. Таким образом, развитие методологии метода АСМ при исследовании наноструктурированных поверхностей и пленочных покрытий является актуальной задачей. Цели диссертационной работы.

Целью работы является развитие методологии атомно-силовой микроскопии при исследовании параметров шероховатости наноструктурированного рельефа поверхности диэлектрических образцов, а также исследование корреляции рельефов подложки и пленочного покрытия в многослойных интерференционных зеркалах, используемых в лазерных гироскопах. Задачи работы.

1. Разработать комплексную методику исследования статистических свойств рельефа наноструктурированных поверхностей, позволяющую на основе данных атомно-силовой микроскопии с высокой точностью измерять параметры шероховатости изотропных и анизотропных 5 наноструктурированных поверхностей, а именно: выработать рекомендации по измерению наноструктурированных поверхностей, цифровой обработке АСМ-изображений и выбору наиболее информативных параметров шероховатости наноструктурированных поверхностей.

2. Исследовать влияние статического заряда поверхности диэлектрических материалов на АСМ-изображения. Определить критерии наличия статического заряда поверхности методом АСМ. Найти метод устранения заряда поверхности для повышения достоверности данных АСМ.

3. Провести комплексное исследование наноструктурированных поверхностей методами атомно-силовой микроскопии, рентгеновского рассеяния (РР) и дифференциального рассеяния света (ДРС) с целью выяснения достоверности результатов отдельных методов при определении параметров шероховатости.

4. Изучить влияние наноструктурированного рельефа подложек различных типов, на формирование зеркального покрытия и эффективность работы сформированных многослойных интерференционных зеркал в кольцевых лазерных гироскопах. Для этого исследовать корреляцию рельефа границ раздела фаз и рельефа подложки в многослойных интерференционных зеркалах.

Научная новизна работы:

1. Впервые изучено и оценено влияние поверхностного электростатического заряда различных диэлектрических материалов на параметры шероховатости наноструктурированных поверхностей, измеряемые методом АСМ.

2. Впервые комплекс методов АСМ и РР был применен для определения периода регулярной поверхностной наноструктуры на микронном и сантиметровом масштабах.

3. Впервые с помощью разработанной методики изучена корреляция рельефов подложки и зеркального покрытия.

4. Впервые показано, что рассеивающие свойства многослойных интерференционных зеркал для кольцевых лазерных гироскопов (А,=633 нм) при существующем методе нанесения их методом ионно-лучевого напыления целиком определяются только рельефом подложки.

Практическая значимость работы:

1. Разработанные в ходе настоящей работы методики ведения измерений аттестованы Государственным научным метрологическим центром (ГНМЦ) ОАО «НИЦПВ». Одна из методик доработана и послужила основой разрабатываемого Национального стандарта РФ «Эффективная шероховатость поверхности. Методика выполнения измерений с помощью сканирущего зондового измерительного микроскопа».

2. Разработанная в ходе настоящей работы методика исследования статистических свойств рельефа наноструктурированных поверхностей по данным АСМ в комплексе с исследованиями методом РР применялась для контроля качества полированных подложек из ситалла и многослойных зеркал различных изготовителей. Проведение этих работ позволило улучшить параметры выпускаемых зеркал.

3. Разработанная в ходе настоящей работы методика исследования статистических свойств рельефа наноструктурированных поверхностей применялась для исследования качества полировки и параметров регулярных наноструктур на поверхности полированных сапфировых подложек, предназначенных для эпитаксиального роста GaN. Результаты данных исследований были необходимы для оптимизации технологии роста высококачественных эпитаксиальных слоев GaN.

Апробация результатов:

Статей по теме диссертации 6. По теме диссертации сделано 30 докладов на российских и международных конференциях.

The International Conference «Microand nanoelectronics — 2005» (ICMNE-2005) — V и VI Национальная конференция по применению рентгеновского, синхротронного излучений, нейтронов и электронов для исследования материалов (2005, 2007) — XXI и XXII Российская конференция по электронной микроскопии (2006, 2008) — XY Российский симпозиум по растровой электронной микроскопии и аналитическим методам исследования твердых тел (РЭМ 2007) — X, XI и XII Симпозиум «Нанофизика и наноэлектроника» (2006, 2007, 2008) — XVI Международная Конференция по использованию синхротронного излучения (СИ-2006) — VII Международная научная конференция «Химия твердого тела и современные микрои нанотехнологии» (2007) — XI Международной конференции «ФИЗИКА ДИЭЛЕКТРИКОВ» (2008).

1 Литературный обзор.

Обзор литературы организован следующим образом. Первый параграф посвящен методу изучения рельефа поверхностей: особенностям прибора — атомно-силового микроскопа. В последующих параграфах будет рассмотрено состояние научно-технических задач, определенных целями диссертации.

Основные результаты и выводы.

1. Разработана комплексная методика исследования статистических свойств рельефа поверхности, позволяющая на основе данных атомно-силовой микроскопии с высокой точностью измерять параметры шероховатости изотропных и анизотропных наноструктурированных поверхностей. Методика включает в себя рекомендации по АСМ-измерению, постэкспериментальной цифровой обработке изображений и выбору наиболее информативных параметров шероховатости наноструктурированных поверхностей.

2. Изучено и оценено влияние поверхностного электростатического заряда различных диэлектрических материалов на измеряемые методом АСМ параметры шероховатости наноструктурированных поверхностей. Определены критерии наличия статического заряда на поверхности по данным атомно-силовой микроскопии. Определен критический масштаб, при котором статический заряд поверхности не оказывает влияния на рассчитываемую высоту шероховатости.

3. Для воздушной атомно-силовой микроскопии разработан новый эффективный неразрушающий способ снятия статического заряда с поверхности диэлектриков, основанный на управлении параметрами искусственного климата. Он позволяет снизить погрешности измерений методом АСМ и устранить характерные артефакты топографических изображений наноструктурированных поверхностей диэлектриков.

4. Проведено комплексное исследование шероховатости наноструктурированных поверхностей методами атомно-силовой микроскопии, рентгеновского рассеяния и дифференциального рассеяния света. Показано, что разброс параметров шероховатости, определенных по данным разных методов составляет 10%, что главным.

117 образом определяется равномерностью обработки поверхности. Впервые комплексом методов АСМ и РР был определен период регулярной поверхностной наноструктуры на поверхности сапфира. При этом АСМ дает информацию о том, как выглядят наноструктуры, их высоте и ширине и периоде на масштабе десятков микрон, а метод РР позволяет обнаружить периодичность наноструктур на сантиметровых масштабах.

5. С помощью АСМ был исследован рельеф поверхности наноструктурированных подложек различных типов и сформированных на них многослойных интерференционных зеркал, используемых в кольцевых лазерных гироскопах. Впервые был определен критический масштаб корреляции подложки и пленочного покрытия, ниже которого рельеф подложки сглаживается рельефом пленочного покрытия. Этот масштаб не превышал 200 нм для всех исследованных типов наноструктурированных подложек.

6. Впервые показано, что рассеивающие свойства многослойных интерференционных покрытий для КЛГ (А,=633 нм) при существующем методе нанесении их методом ионно-лучевого напыления определяются только степенью развитости рельефа подложки.

Благодарности.

В заключении автор хотел бы поблагодарить своего научного руководителя, заведующую сектора сканирующей зондовой микроскопии к.ф.-м.н. Аллу Леонидовну Толстихину за всестороннюю поддержку представленной работы. Также я выражаю благодарность заведующему сектором нейтронографии и рентгеновской рефлектометрии д.ф.-м.н. Виктору Евгеньевичу Асадчикову за исключительно познавательную совместную работу. Хотел бы поблагодарить сотрудников сектора сканирующей зондовой микроскопии Радмира Вильевича Гайнутдинова за обучение технике работы с зондовым микроскопом и Юлию Викторовну Грищенко за проведение серии измерений, представленных в настоящей работе.

3.4.3 Заключение.

Обнаружено наличие наноструктур на подложках из ситалла, проходивших различную обработку. Была установлена взаимосвязь между типом нанорельефа поверхности и особенностями поведения PSD-функции. Установленная взаимосвязь может послужить основой для разработки методик определения параметров регулярных поверхностных наноструктур по анализу особенностей на PSD-функциях.

На базе метода АСМ предложена методика определения критического масштаба корреляции рельефа подложки и пленочного покрытия, основанная на сравнении их спектров высот шероховатости. Для многослойных зеркал для КЛГ определен критический масштаб, который составил 100−200 нм.

Сделано важное заключение о том, что рассеивающие свойства многослойных интерференционных покрытий для КЛГ (Я = 633 нм) при существующем методе нанесении их методом ионно-лучевого напыления целиком определяются только рельефом подложки. Этот вывод хорошо согласуется с данными измерения оптических характеристик зеркальных покрытий.

Показать весь текст

Список литературы

  1. Binning G., Quate С. F. and Gerber Ch. Atomic force microscope. — Phys. Rev. Lett. — 1986. — Vol. 56. — pp. 930−933.
  2. Magonov S.N., Whangbo M-H. Surface analysis with STM and AFM: experimental and theoretical aspects of image analysis. WeinHeim- New York- Basel- Cambridge- Tokyo: VHC. 1996. — 318 p.
  3. В.А. Приборы и методы сканирующей зондовой микроскопии для исследования и модификации поверхностей. Докторская диссертация. Москва. 2000. — 393 с.
  4. А. А., Овчинников Д. В., Бухараева А. А. Диагностика поверхности с помощью сканирующей силовой микроскопии (обзор). Зав. лаб. — 1997. — Т. 5.-стр. 10−27.
  5. В.Л. Исследование и модификация локальных свойств тонкопленочных структур. Кандидатская диссертация. Нижний Новогород. -2001.- 153 с.
  6. Binnig G. and Smith D. P. E. Single-tube three-dimensional scanner for scanning tunneling microscopy. Rev. Sci. Instrum. — 1986. Vol. 57. — pp. 16 881 689.
  7. А.А. Диагностика поверхности с помощью сканирующей туннельной микроскопии (обзор). Завод, лаб. — 1994 г. — Т. 10. — стр. 15−26.
  8. Т. R., Akamine S., Carver Т. Е., and Quate С. F. Microfabrication of cantilever styli for the atomic force microscope. J. Vac. Sci. Technol. A. -1990. — Vol. 8. — pp. 3386−3396.
  9. Г. С., Батурин А. С, Шешин Е.П. Моделирование контактной жесткости полусферического островкового включения. ЖТФ. 2008. Т. 78. сс. 126−128.
  10. Wolter О., Bayer Th., and Greschner J. Micromachined silicon sensors for scanning force microscopy. J. Vac. Sci. Technol. B. — 1991. — Vol. 9. — pp. 13 531 357.
  11. Meyer G., Amer N.M. Novel optical approach to atomic force microscopy. -Appl. Phys. Lett. 1988. — Vol. 53. — pp. 1045−1047.
  12. Martin Y., Williams С. C. and Wickramasinghe H. K. Atomic force microscope-force mapping and profiling on a sub 100-A scale. J. Appl. Phys. -1987. — Vol. 61. — pp. 4723−4729.
  13. Meyer G., Amer N.M. Erratum: Novel optical approach to atomic force microscopy. Appi. Phys. Lett. — 1988. — Vol. 53. — pp. 2400−2402.
  14. Diirig U., Gimzewski J. K. and Pohl D. W. Experimental observation of forces acting during scanning tunneling microscopy. Phys. Rev. Lett. — 1986. -Vol. 57. — pp. 2403−2406.
  15. Zhong Q., Inniss D., Kjoller K. and Elings V. B. Fractured polymer/silica fiber surface studied by tapping mode atomic force microscopy. Surf. Sci. Lett. -1993. — Vol. 290. — pp. L688-L692.
  16. Sedin D.L., Rowlen K.L. Influence of tip size on AFM roughness measurements. Applied Surface Science. — 2001. — Vol. 182. — pp. 40−48.
  17. B.JI., Удалое ОТ. Использование данных атомно-силовой микроскопии для оценки параметров, характеризующих рассеяние рентгеновского излучения наномасштабными шероховатостями поверхности. БелСЗМ. — г. Минск. — 2004 г. — стр. 17−23.
  18. Palasantzas G. Roughness spectrum and surface width of self-affine fractal surfaces via the K-correlation model. Phys. Rev. В — 1993. — Vol. 48. — N. 19. -pp. 14 472−14 478.
  19. С.И., Снопок Б. А., Стерлингов В. А., Ширшов Ю. М. Статистические свойства поверхностей: особенности расчета автоковариационной функциииз индикатрисы рассеянного света. Оптика и спектроскопия. — 2001 г. — Т. 91. — № 5. — стр. 852−861.
  20. Filies О., Boling О., Grewer К., Lekki J., Lekka М., Stachura Z., Cleff В. Surface roughness of thin layers a comparison of XRR and SFM measurements. -Applied Surface Science. — 1999. — Vol. 14. — pp. 357−365.
  21. Ulmeanu M., Serghei A., Mihailescu I.N., Budau P., Enachescu M. C-Ni amorphous multilayers studied by atomic force microscopy. Applied Surface Science. — 2000. — Vol. 165. — pp. 109−115.
  22. Rasigni G., Varnier F., Rasigni M., Palmari J.P., Llebaria A. Roughness spectrum and surface plasmons for surfaces of silver, copper, gold, and magnesium deposits. Physical Review B. — 1983. — Vol. 27. — N. 2. — pp. 819−830.
  23. Jakobs S., Schulz U., Duparre A., Kaiser N. Characterization of Si02 protective coating on polycarbonate. Fresenius J Anal Chem. — 1997. — Vol. 358. -pp. 242−244.
  24. Niklasson G.A., Ronnow D., Mattsson M.S., Kullman L., Nillson H., Roos A. Surface roughness of pyrolytic tin dioxide films evaluated by different methods. -Thin Solid Films. 2000. — Vol. 359. — 203−209.
  25. Peverini L., Zeigler E., Bigault Т., Kozhevnikov I. Roughness conformity during tungsten film growth: An in situ synchrotron scattering study. Phys. Rev. B. — 2005. — Vol. 72. — pp. 45 445−1 — 45 445−6.
  26. Senthilkumar M., Sahoo N.K., Thakur S., Tokas R.B. Characterization of microroughness parameters in gadolinium oxide thin films: A study based on extended power spectral density analyses. Applied Surface Science. — 2005. — Vol. 252.-pp. 1608−1619.
  27. П.А., Толстихина A.JI. Феноменологическое описание характеристик поверхности, измеряемых методом атомно-силовой микроскопии. //Микроэлектроника. 1997. Т.26. N6. С.426−439.
  28. Ruppe С., Duparre A. Roughness analysis of optical films and substrates by atomic force microscopy. Thin Solid Films. — 1996. — Vol. 288. — pp.
  29. Chen Y., Huang W. Numerical simulation of the geometrical factors affecting surface roughness measurements by AFM. Meas. Sci. Technol. — 2004. -Vol. 15.-pp. 2005−2010.
  30. Boer E.A., Bell L.D., Brongersma M.L., Atwater H.A., Ostraat M.L., Flagan R.C. Charging of single Si nanocrystals by atomic force microscopy Appl.Phys.Lett. 2001. V.78. № 20. P. 3133.
  31. C. Guillemot, P. Budau, J. Chevrier, F. Marchi, F. Comin, C. Alandi, F. Bertin, N. Buffet, Ch. Wyon, and P. Mur Imaging of stored charges in Si quantum dots by tapping and electrostatic force microscopy- Europhys.Lett. 2002. V.59. № 4. P. 566.
  32. M. Nafra, M.C. Blum, X. Aymerich, S. Sadewasser Atomic force microscope topographical artifacts after the dielectric breakdown of ultrathin SiC>2 films- Surface Sci. 2003. V.532−535. P.727.
  33. R. Dianoux, F. Martins, F. Marchi, C. Alandil, F. Comin, and J. Chevrier Detection of electrostatic forces with an atomic force microscope: and experimental dynamic force curves in the nonlinear regime- Phys.Rev.B. 2003. V.68. P. 4 5403(1).
  34. Robert W Stark, Nicola Naujoks and Andreas Stemmer Multifrequency electrostatic force microscopy in the repulsive regime- Nanotechnology. 2007. P. 6 5502(1).
  35. Okamoto K., Sugawara Y., Morita S. The elimination of the 'artifact' in the electrostatic force measurement using a novel noncontact atomic force microscope/electrostatic force microscope- Appl. Surf.Sci. 2002.V.188. P.381.
  36. M. Yasutake, М. Fujihira, D. Aoki Surface potential measurements using the Kelvin probe force microscope- Thin Solid Films. 1996.V.273.P.279.
  37. Yan M., Bernstein G.H. Apparent height in tapping mode of electrostatic force microscopy- Ultramicroscopy. 2006. V. 106. № 7. P.582.
  38. Terris B.D., Stern J.E., Rugar D., Mamin H.J. Contact electrification using force microscopy- Phys.Rev.Lett. 1989. V. 63. P. 2669.
  39. Schonenberger C., Alvarado S.F. Observation of single charge carriers by force microscopy- Phys.Rev.Lett. 1990. V.65. P.3162.
  40. Wintle H.J. Interpretation of atomic force microscope (AFM) signals from surface charge on insulators. Meas. Sci. Technol. — 1997. — Vol. 8. — pp. 508−513.
  41. L. M. Eng, H.-J. Giintherodt, G. Rosenman, A. Skliar, M. Oron, M. Katz, D. Eger Nondestructive imaging and characterization of ferroelectric domains in periodically poled crystals J.Appl.Phys. 1998. V.83. P.5973.
  42. Stern J.E., Terris B.D., Mamin H.J., Rugar D. U Deposition and imaging of localized charge on insulator surfaces using a force microscope Appl.Phys.Lett. 1988. V.53.P. 2717.
  43. М.И., Емельянов A.B., Плебанович В. И. Электростатические заряды в электронике. Минск, 2006.
  44. J. Е. Griffith, Е. М. Kneedler, S. Ningen, A. Berghaus, С. Е. Bryson, S. Раи, Е. Houge, Т. Shofner. ll Scanning probe metrology in the presence of surface charge- J.Vac.Sci.Technol.B. 2000. V. 18. № 6. P.3264−3267.
  45. Sinha S K, Sirota E B, Garoff S and Stanley H В X-ray and neutron scattering from rough surfaces- Physical Review B, 38, (1988), pp.2297 2336
  46. A. Gibaud, N. Cowlam, G. Vignaud, T. Richardson Evidence of self-affine rough interfaces in Langmuir Blodgett film from X-ray reflectometry, Physical Review Letters, 74, (1995), pp.3205 — 3208
  47. А.В.Виноградов, Н. Н. Зорев, И. В. Кожевников О рассеянии рентгеновского излучения слабошероховатыми поверхностями, Журнал экспериментальной и теоретической физики, 94, (1988), сс.203 216
  48. S.S.Borisova, I.F.Mikhailov, I.V.Kozhevniko Determination of the roughness spectrum of polished surfaces by measuring X-ray scattering, Optical and Acoustical Review, 1, № 2, (1990), pp.183 -195
  49. D.K.G. de Boer, Influence of the roughness profile on the specular reflectivity of X-rays and neutrons, Physical Review B, 49, (1994), pp.5817 5820
  50. D.K.G. de Boer, X-ray reflection by rouhg surfaces, Physical Review B, 51,1995), pp.5297−5305
  51. P. Beckman, A. Spizzichino, The scattering of electromagnetic waves of rough surfaces, N.Y., Pergamon press, (1963), 420p.
  52. L. Nevot, P. Croce, Caracterisation des surfaces par reflexion rasante de rayons X. Application a l’etude du polissage de verres silicates, Rev. Phys.Appl. 15, (1980), pp. 761−779
  53. В.А.Бушуев, А. А. Ломов, А. Г. Сатурин, В. А. Караванский, Структура пленок пористого кремния по данным рентгеновской рефлектометрии, Материалы электронной техники. Перспективные материалы, № 4 (2000), сс. 25−33
  54. F.Stanglmeier, B. Lengeler, W. Weber Determination of the dispersive correction f (E) to the atomic form factor from X-ray reflection, Acta Cryst. A, 48,1996), p.626−639
  55. R.Pinn, Neutron scattering by rough surfaces at grazing incidence- Physical Review B, 45, (1992), pp.602 612
  56. A.M., Александров П. А., Имамов P.M. Рентгеноструктурная диагностика субмикронных слоев. М. Наука, 1989, 152 стр.
  57. W.A.Hamilton, R. Pinn, The effect of surface roughness on the phase of neutron specularly reflected at grazing incidence- Physica B, 173, (1991), pp.71 -73
  58. А.В.Виноградов, И. А. Брытов, А. Я. Грудский под общей редакцией А. В. Виноградова. Зеркальная рентгеновская оптика — Д.: Машиностроение. 1989−463с.
  59. А.В.Виноградов, И. В. Кожевников, Отражение и рассеяние рентгеновского излучения от шероховатых поверхностей, Труды ФИАН, 196, (1989), сс. 18−46
  60. М.Борн, Д. Вольф, Основы оптики М., Наука, (1973), 720 с.
  61. E.L.Church, Fractal surface finish, Appl. Opt., 27, (1988), pp.1518 1526.
  62. I. V. Kozhevnikov, M. V. Pyatakhin, Journal of X-Ray Science and Technology, 8, (2000), pp.253 27.
  63. G.Y.Vineyard, Grazing-incidence diffraction and the distorted-wave approximation for the study of surfaces, Physical Review B, 26, (1982), 4146 -4159
  64. S.Dietrich, H. Wagner, Critical Surface Scattering of X Rays and Neutrons at Grazing Angles, Phys. Rev. Let., 51, (1983), pp.1469 1471
  65. V.Holy, J. Kubena, I. Olidal, K. Lischka, W. Plotz, X-ray reflection from rough layered systems, Phys. Rev. B, 47, (1993), p. 15 896 15 903
  66. V.Holy, T. Baumbach, Nonspecular X-ray reflection from rough multilayers, Phys. Rev. B, 49, (1994), pp.10 668 10 676
  67. V.Holy, C. Giannini, L. Tafer, T. Marschner, W.Stoltz. Diffuse x-ray reflection from multilayers with stepped interfaces, Phys. Rev. B, 55, (1997), p.9960 9974
  68. M.K.Sanyal, S.K.Sinha, K.G.Yuang, B.M.Ocko, X-ray scattering study of capillary-wave fluctuations at a liquid surface, Physical Review Letters, 66, (1991), pp. 628−631
  69. S.K.Sinha, Reflectivity using neutrons or X-ray? A critical comparison, Physica B, 173, (1991), pp.25 34
  70. S.K.Sinha, X-ray diffuse scattering as probe for thin film and interface structure, Journal de physique III, 4, N9 (1994), pp. 1543 1557
  71. Elson J.M., Bennet J.M., Stover J.C. Wavelength and angular dependence of light scattering from beryllium: comparison of theory and experiment- Appl. Opt. -1993. Vol. 32. — pp. 3362−3376.
  72. Amra C. From light scattering to the microstructure of thin-film multilayers- Appl. Opt. 1993. — Vol. 32. — pp. 5481−5491.
  73. Amra C., Bousquet P. Scattering from surfaces and multilayer coatings: recent advances for a better investigation of experiment- Proc. SPIE. 1988. — Vol. 1009.-pp. 82−97.
  74. Ruppe C., Duparre A. Roughness analysis of optical films and substrates by atomic force microscopy- Thin Solid Films. 1996. — Vol. 288. — pp. 8−13.
  75. Vorburger T.V., Marx E., Lettieri T.R. Regimes of surface roughness measurable with light scattering Appl. Opt. 1993. — Vol. 32. — pp. 3401−3408.
  76. Amra C. Light scattering from multilayer optics. I. Tools of investigation JOS A. A. 1994. — Vol. 11. — pp. 197−210.
  77. В.В., Ефремова Н. А., Шаров В.А. II Приборы и системы управления. 1997. № 5. С. 15.
  78. Ф. Лазерные гироскопы. / В «Применения лазеров» пер. с английского под ред. Тычинского В. П., М.: Мир, 1974, с. 182−270
  79. Aronowitz F. Fundamentals of the ring laser gyro. // In «Optical gyros and their application» RTO-AG-339, 1999, p.p. 3−1.3−45
  80. Волновые и флуктационные процессы в лазерах. Под редакцией Климантовича Ю. Л., М.: Наука, 1974, 416 с.
  81. С.И., Лукьянов Д. П., Бакаляр А. И. Лазерный гироскоп. М.: Советское радио, 1975, 424 с.
  82. Лазерные измерительные системы. Под редакцией Лукьянова Д. П. -М.: Радио и связь. 1981, 465 с.
  83. П.С., Ларионцев Е. Г. Режимы биений и синхронизации встречных волн во вращающемся кольцевом газовом лазере. // Радиотехника и электроника, 1970, т.15, № 6, с.1214−1226
  84. И.А., Бернштейн И. Л. Экспериментальное исследование обратных связей на работу кольцевого лазера. // Известия Вузов СССР, Радиофизика, 1971, т. 14, № 5, с. 698−704
  85. Kataoka /., Kawahara Y. Dependence of lock-in threshold and winking pattern on the phase-interaction of scattering waves in the ring laser. // Japanese journal of applied physics, 1986, v.25, № 9, pp.1365−1372
  86. Rodloff R. A laser gyro with optimized resonator geometry. I I IEEE journal of quantum electronics, 1987, v. QE-23, № 4, pp.438−445
  87. K.B., Голяев Ю. Д., Махин П. В., Мельников А. В., Тихменев Н. В. Повышение точности лазерного гироскопа путем управления связью встречных волн. //Гирорскопия и навигация, 1995, № 2(9), с. 25−29
  88. А.А., Павловский М. А. Анализ проблем и тенденций развития лазерной гироскопии на Украине // Гироскопия и навигация, 1995, № 1 (8), с. 27−33
  89. Dovbeshko А.А., Kaminska I. V. Self-adapting laser gyroscope. //Symposium gyro technology, 2001, Stuttgart, Germany, pp.7.0−7.11
  90. A.B., Суминов B.M., Чиркин M.B. Формирование доминирующей погрешности лазерного гироскопа // Авиакосмическое приборостроение, № 9, 2004
  91. А.В., Степанов А. Ю., Чиркин М. В. Технологические аспекты минимизации погрешностей лазерных гироскопов // Proceedings of the 13 th S-Petersburg International Conference on Integrated Navigation Systems S-Pb., 2931 May 2006
  92. A.B. Молчанов, А. Ю. Степанов, М. В. Чиркин Статистические характеристики подложек зеркал и случайная погрешность лазерного гироскопа // Авикосмическое приборостроение, № 3, 2008, стр. 9−16.
  93. I.A. Vasin, A.V.Molchanov, D.A.Morozov, M.V. Chirkin Technical fluctuations in a ring cavity and error analysis of a laser gyro // Proceedings of the 15th S-Petersburg International Conference on Integrated Navigation Systems S-Pb., 28−30 May 2008.
Заполнить форму текущей работой

На отлично!