Диплом, курсовая, контрольная работа
Помощь в написании студенческих работ

Исследование влияния условий химического осаждения из газовой фазы на микроструктуру пленок карбида кремния

Диссертация: Исследование влияния условий химического осаждения из газовой фазы на микроструктуру пленок карбида кремния
ДиссертацияПомощь в написанииУзнать стоимостьмоей работы

Основные результаты диссертационной работы докладывались и обсуждались на следующих конференциях: научно-технической конференции по результатам работы профессорско-преподавательского состава, аспирантов и студентов Северо-Кавказского государственного технического университета, (Ставрополь, 2005, 2007, 2008 г.) — международной научной конференции «Химия твердого тела и современные микро… Читать ещё >

Содержание

  • Глава I. Литературный обзор
    • 1. 1. Кристаллическая структура карбида кремния. Политипизм
    • 1. 2. Влияние параметров синтеза на состав и структуру пленок SiC
      • 1. 2. 1. Монокристаллические (эпитаксиальные) пленки
        • 1. 2. 1. 1. Гомоэпитаксия слоев SiC
        • 1. 2. 1. 2. Гетероэпитаксия слоев SiC
      • 1. 2. 2. Микрокристаллические пленки
      • 1. 2. 3. Аморфные пленки карбида кремния
    • 1. 3. Теории зародышеобразования в тонких пленках при ХОГФ
    • 1. 4. Применение тонких пленок SiC
    • 1. 5. Выводы по главе 1
  • Глава II. Методы синтеза и исследования пленок SiC
    • 2. 1. Материалы
    • 2. 2. Методика подготовки подложек
    • 2. 3. Характеристики установок ХОГФ и методика синтеза пленок карбида кремния
    • 2. 4. Методы исследования состава и структуры
      • 2. 4. 1. Просвечивающая ИК-спектроскопия
      • 2. 4. 2. Спектроскопия комбинационного рассеяния света (КРС)
      • 2. 4. 3. Рентгенофазовый анализ (РФА)
      • 2. 4. 4. Сканирующая зондовая микроскопия (СЗМ)
    • 2. 5. Измерение толщины пленок SiC
    • 2. 6. Выводы по главе II
  • Глава III. Моделирование процессов зарояедения и роста аморфных и кристаллических пленок
    • 3. 1. Описание структуры кристаллических решеток карбида кремния с позиции высокомолекулярных соединений
    • 3. 2. Моделирование атомарной структуры поверхности монокристаллической пластины, имеющей ориентацию (100)
    • 3. 3. Моделирование атомарной структур агрегатов (зародышей), образующихся на поверхности (100)
    • 3. 4. Моделирование механизма зарождения кристаллической пленки на плоскости (100)
    • 3. 5. Моделирование механизмов зарождения аморфных пленок на плоскости (100)
    • 3. 6. Моделирование атомарной структуры поверхности монокристаллической пластины, имеющей ориентацию (111)
    • 3. 7. Моделирование атомарной структуры зародышей на поверхности монокристаллов с ориентацией (111)
    • 3. 8. Моделирование атомарных структур агрегатов, образующихся на ступенях разориентированных подложек
    • 3. 9. Моделирование процессов зарождения и роста пленок на пластинах, имеющих разориентацию относительно направления (111)
    • 3. 10. Моделирование процессов зарождения и роста аморфных пленок на пластинах с ориентацией (111)
    • 3. 11. Выводы к главе III
  • Глава IV. Анализ влияния условий осаждения на структуру пленок карбида с позиции модели зарождения и роста пленок
    • 4. 1. Кинетика зарождения и роста пленок карбида кремния на подложках (100)
    • 4. 2. Кинетика зарождения и роста пленок карбида кремния на неразориентированных подложках (111)
    • 4. 3. Кинетика зарождения и роста пленок карбида кремния на ступенях разориентированных подложек (111)
    • 4. 4. Влияние дополнительной активации газовой фазы на процессы роста пленок
    • 4. 5. Влияние скорости расхода источников компонентов пленки и газа-носителя на структуру матрицы материала
    • 4. 6. Влияние ориентации подложки на структуру матрицы пленки, синтезированной из ХКС
    • 4. 7. Выводы к главе IV
  • Глава V. Анализ экспериментальных результатов
    • 5. 1. Анализ состава и структуры по данным ИК-спектроскопии
      • 5. 1. 1. Общие представления об ИК-спектрах карбида кремния
        • 5. 1. 1. 1. Анализ ИК-спектров образцов, полученных в реакторе с различным типом активации процесса синтеза
        • 5. 1. 1. 2. Анализ ИК-спектров образцов, полученных из различных типов ХКС
        • 5. 1. 1. 3. Анализ ИК-спектров образцов, полученных при различной температуре
        • 5. 1. 1. 4. Анализ ИК-спектров образцов, полученных при различной скорости расхода водорода
        • 5. 1. 1. 5. Анализ ИК-спектров образцов, полученных при различной концентрации ХКС
    • 5. 2. Анализ состава и структуры пленок SiC по данным КРС
    • 5. 3. Анализ степени кристалличности и фазового состава пленок SiC по данным РФА
    • 5. 4. Анализ влияния условий осаждения на морфологию поверхности пленок SiC
      • 5. 4. 1. Анализ влияния температуры на морфологию поверхности
      • 5. 4. 3. Анализ влияния ориентация подложки на морфологию поверхности
    • 5. 5. Кинетика осаждения тонких пленок карбида кремния
    • 5. 6. Выводы по главе IV

Исследование влияния условий химического осаждения из газовой фазы на микроструктуру пленок карбида кремния (реферат, курсовая, диплом, контрольная)

Благодаря большим значениям: ширины запрещенной зоны (от 2,4 до 3,3 эВ), теплопроводности (4,9 Вт/см-К), напряженности поля пробоя (3 МВ/см), насыщенной скорости дрейфа носителей тока (1000 см" /(В-с), карбид кремния является уникальным материалом для создания силовых и высокочастотных приборов, потребность в которых испытывают практически все сферы жизнедеятельности человека [1].

Несмотря на очевидные достоинства SiC над кремнием и арсенидом галлия, данный материал широкого распространения в изделиях электронной техники не получил. В настоящее время спектр применения карбида кремния ограничивается производством светодиодов, диодов Шоттки, PIN-диодов и MESFET транзисторов [1]. Одним из недостатков существующих промышленных технологий изготовления элементов электронной техники на основе карбида кремния является высокая температура синтеза (1500 — 1650 °С) пленок SiC [2], которая связана с высокими затратами энергии. Следует также отметить, что промышленное применение получили только монокристалические пленки, так как их свойства и условия высокотемпературного синтеза подробно изучены.

Между тем, при низких температурах (700 — 1300 °С), в зависимости от режимов осаждения можно синтезировать микрокристаллические [3], нанокристаллические [3], аморфные, гидрогенизированные [4] и полимерные слои SiC, которые обладают огромным потенциалом для создания полноцветных дисплеев [5,6], датчиков излучения [7], солнечных элементов [8,9] и т. д. Однако, без проведения всесторонних исследований в этой области невозможна оптимизация условий получения пленок и гетероструктур на основе аморфных, наноили микрокристаллических пленок SiC с заданными характеристиками а, следовательно, и их массовое использование в технологии элементов электронной техники. Существующее положение дел усугубляется отсутствием математических моделей, способных описать процессы зарождения и роста аморфных, нанои микрокристаллических пленок SiC, а также указать пути повышения качества монокристаллических пленок при снижении температуры синтеза.

В связи с этим цель данной работы состояла в том, чтобы установить влияние технологических факторов синтеза на микроструктуру и состав пленок карбида кремния, синтезируемых методами химического осаждения из газовой фазы (ХОГФ).

Для достижения поставленной цели были сформулированы следующие задачи:

— разработка и создание экспериментальных установок ХОГФ для синтеза пленок карбида кремния из паров хлорсодержащих кремнийорганических соединений (ХКС);

— разработка моделей, описывающих механизмы зарождения и роста пленок алмазоподобных материалов (карбида кремния) и позволяющих проводить анализ влияния технологических факторов на процессы образования аморфных и кристаллических пленок карбида кремния;

— синтез серий образцов пленок карбида кремния при различных температурах и ориентациях подложек кремния, скоростях расхода парогазовой смеси, концентрации источника компонентов пленки, типа активации процесса газо-фазного осаждения;

— исследование полученных образцов методами просвечивающей ИК-спектроскопии, спектроскопии комбинационного рассеивания света, рентгенофазового анализа и методами сканирующей зондовой микроскопии;

— определение влияния технологических факторов синтеза на кинетику осаждения тонких пленок карбида кремния;

— на основании результатов моделирования процессов зарождения и роста пленок алмазоподобных материалов и экспериментальных данных, полученных при исследовании синтезированных образцов, описать влияние температуры и ориентациии подложек кремния, скоростей расхода парогазовой смеси, концентрации источника компонентов пленки, типа активации процесса газо-фазного осаждения на микроструктуру и состав слоев SiC.

Научная новизна:

— разработана модель, позволяющая проводить анализ влияния технологических факторов на процессы зарождения и роста аморфных и кристаллических пленок карбида кремния;

— методом химического осаждения из газовой фазы получены слои карбида кремния из паров диметилдихлорсилана и триметилхлорсилана;

— установлено влияние дополнительной термической активации парогазовой смеси на состав и структуру тонких пленок карбида кремния, синтезированных из паров диметилдихлорсилана и триметилхлорсилана;

— показано влияние типа и концентрации кремнийорганического хлорсодержащего соединения в водороде на состав и микроструктуру синтезированных тонких пленок карбида кремния;

— получены зависимости скорости роста толщины пленок карбида кремния от технологических параметров осаждения.

Практическая значимость:

— разработан способ синтеза пленок карбида кремния методом термического разложения хлорсодержащих кремнийорганических соединений в атмосфере водорода с возможностью управления составом и структурой формируемых слоев;

— показано влияние различных технологических факторов термоактивированного газо-фазного осаждения на состав, структуру и морфологию тонких пленок карбида кремния, синтезируемых из паров хлорсодержащих кремнийорганических соединений;

— предложена методика экспресс анализа структуры и состава пленок SiC по данным спектров ИК-пропускания и комбинационного рассеяния света.

Основные положения, выносимые на защиту: модель, описывающая влияние технологических факторов на процессы зарождения и роста пленок аморфных и кристаллических алмазоподобных материалов, основанная на результатах квантово-химических расчетов;

— влияние дополнительной термической активации парогазовой смеси, содержащей источники компонентов пленки, на микроструктуру слоев синтезированных методом ХОГФвлияние типа хлорсодержащего кремнийорганического соединения, используемого в качестве источника кремния и углерода, на состав и микроструктуру слоев SiC, синтезированных методом ХОГФ;

— влияние ориентации подложки кремния на микроструктуру слоев карбида кремния, синтезированных из паров хлорсодержащих кремнийорганических соединений.

Реализация результатов работы.

Тематика данной работы соответствует перечню приоритетных направлений фундаментальных исследований, утвержденных президиумом РАН.

Работа является частью комплексных исследований, проводимых на кафедре «Нанотехнологии и технологии материалов электронной техники» Северо-Кавказского государственного технического университета в рамках грантов:

Мин. Образования РФ, РНП 1.2.05 «Исследование особенностей синтеза полупроводниковых широкозонных материалов для экстремальной электроники»;

Мин. Образования РФ, РНП 3.4.05 «Исследование процессов формирования аморфных гидрогенизированных пленок карбида кремния и углерода»;

Мин. Образования РФ, РНП 1.1.08 «Исследование особенностей синтеза гетероэпитаксиальных тонких пленок карбида и оксида кремния»;

ФЦНТП РНП 2.2.2.2.8767 «Фундаментальные исследования новых изолирующих и полупроводниковых материалов на основе аморфного и гидрогенизированного карбида кремния совместно с Кемницким техническим университетом».

Результаты диссертационной работы легли в основу проекта, поддержанного фондом содействия развитию малых форм предприятий в научно-технической сфере по программе Старт 2008 № 5671р/8226 от 31.03.2008 г. и инвестором (ООО НПФ «Экситон» г. Ставрополь).

Апробация работы.

Основные результаты диссертационной работы докладывались и обсуждались на следующих конференциях: научно-технической конференции по результатам работы профессорско-преподавательского состава, аспирантов и студентов Северо-Кавказского государственного технического университета, (Ставрополь, 2005, 2007, 2008 г.) — международной научной конференции «Химия твердого тела и современные микро — и нанотехнологии», (Кисловодск, 2005 — 2008 г.) — Международной конференции «Аморфные и микрокристаллические полупроводники», (Санкт-Петербург, 2006 г.) — Российско-японском семинаре «Перспективные технологии и оборудование для материаловедения, микро — и наноэлектроники» (Астрахань, 2006, Саратов, 2007 г.) — региональной научно-технической конференции «Вузовская наука — Северо-Кавказскому региону», (Ставрополь, 2006 г.) — ежегодной научной конференции студентов и аспирантов базовых кафедр Южного научного центра РАН. (Ростов-на-Дону, 2007 г.) — IX российско-китайском симпозиуме «Новые материалы и технологии», (Астрахань, 2007 г.), международной казахстанско-российско-японской научной конференции «Перспективные технологии, оборудование и аналитические системы для материаловедения и наноматериалов». (Усть-Каменогорск, 2008 г.).

Публикации.

По тематике диссертационной работы опубликовано 19 печатных работ, в том числе 7 статей и 12 тезисов к докладам на международных, российских и региональных научно-технических конференциях.

Объем и структура диссертации.

Диссертация состоит из введения, 5 глав, основных результатов и выводов по работе. Содержит 156 страниц машинописного текста, включая 11 таблиц, 55 рисунков и список литературы в количестве 175 наименований.

Основные результаты и выводы.

В результате проделанной работы были разработаны и созданы экспериментальные установки ХОГФ с различным типом активации процесса синтеза пленок карбида кремния из паров кремнийорганических хлорсодержащих соединений. Синтезированы серии образцов пленок карбида кремния на подложках кремния с ориентацией (111) и (100) в диапазоне температур 700- 1150 °C из парогазовых смесей метилтрихлорсилана, диметилдихлорсилана и триметилхлорсилана с водородом.

Полученные образцы пленок карбида кремния на кремнии исследованы методами просвечивающей ИК-спектроскопии, спектроскопии комбинационного рассеивания света, рентгенофазового анализа и методами сканирующей зондовой микроскопии.

При помощи современных полуэмпирических квантово-химических методов компьютерной химии были разработаны модели, описывающие процессы зарождения и роста пленок алмазоподобных материалов.

На основании проведенных в диссертационной работе исследований сделаны следующие выводы:

— согласно результатам разработанной модели, описывающей процессы осаждения алмазоподобных материалов из газовой фазы, в основе их синтеза лежит образование двух типов агрегатов (зародышей), сохраняющих и модифицирующих атомарную структуру поверхности;

— кажущаяся энергия активации процесса образования пленки карбида кремния в исследуемом диапазоне температур (700— 1150 °С) составляет 250±30 кДж/моль и не зависит ни от типа источника компонентов, ни от скорости их расхода, ни от вида реактора. Данное обстоятельство указывает на общий механизм образования пленок SiC;

— дополнительная активация парогазовой смеси, содержащей ХКС, позволяет увеличить скорость роста пленки SiC и снизить минимально возможную температуру осаждения с 950 °C до 700 °C. Однако, при прочих равных условиях, применение дополнительной активации парогазовой смеси ведет к снижению кристалличности матрицы материала пленки. Согласно результатам моделирования, причиной снижения кристалличности пленок карбида кремния является увеличение скорости образования агрегатов, модифицирующих структуру поверхности подложки;

— увеличение соотношения [C]/[Si] в молекуле ХКС, используемых в качестве источников компонентов пленки SiC, приводит к повышению количества разнообразных кластерных систем, образованных углеродом и кремнием;

— повышение температуры, независимо от выбора технологических условий синтеза, ведет к увеличению кристалличности пленки SiC. Как показывают результаты по моделированию процессов зарождения и роста алмазоподобных материалов, причиной увеличения кристалличности является относительное снижение скорости образования аморфных агрегатов в сравнении со скоростью образования кристаллических;

— снижение скорости расхода ХКС ведет к уменьшению скорости роста толщины пленки SiC и к увеличению кристалличности ее матрицы. Причиной повышения кристалличности является более сильное снижение скоростей образования агрегатов, модифицирующих поверхность, по сравнению со скоростью образования агрегатов, сохраняющих структуру поверхности;

— в исследуемом температурном диапазоне синтеза пленок SiC образцы, осажденные на поверхность кремния (111), обладают большей степенью кристалличности по сравнению с образцами, синтезированными на поверхности (100). Согласно разработанной модели, причиной этого являются различия в энергетике релаксации дефектов замещения в агрегатах, сохраняющих структуру поверхности.

Показать весь текст

Список литературы

  1. Chelnokov, V.E. High temperature electronics using Sic: actual situation andunsolved problems / V. E. Chelnokov, A. L. Syrkin // Materials science and Engineering B. -1997. -V. 46. P. 248 — 253.
  2. , Г. Карбид кремния / Г. Хениш, Р. М. Рой — пер. с англ. М.: Мир, 1972.-349 с.
  3. Plasma Enhansed Chemical Vapor Deposition and Characterization of
  4. Hydrogenated Amorphous SiC Films on Si / Y. Wang, J. Lin, Z. C. Feng, S.J. Chua, С. H. Huan Alfred // Materials science forum. 2000. — V. 338 -342.-P. 325−328.
  5. , Б.А. Электрические свойства аморфных пленок твердогораствора Ge0.90Si0.10:Hx. / Б. А. Наджафов // Физика и техника полупроводников. 2000. — Т. 34. — Вып. 11. — С. 1383 — 1385.
  6. Gilberto Vitor Zaia. Epitaxial growth of Si and 3C-SiC by Chemical Vapor
  7. Deposition. / Doktors der Naturwissenschaft genehmigten Dissertation. Die Dissertation wurde am 01.10.2002 bei der Technischen Universitat Mtinchen eingereicht und durch die Fakultat fur Physik am 04.12.2002 angenommen.
  8. N-type emitter surface passivation in c-Si solar cells by means of antireflectiveamorphous silicon carbide layers / R. Ferre, I. Martin, P. Ortega, M. Vetter // Journal of applied physics. 2006. — V.100. -73 703
  9. Properties and structure of a-SiC:H for high-efficiency a-Si solar cell /
  10. Y. Tawada, K. Tsuge, M. Kondo, H. Okamoto, Y. Hamakawa // Journal of applied physics. 1982.-V. 53.-P. 5273 -5281.
  11. Philip G. Neudeck / SiC TECHNOLOGY. 1998. p. 54 / http://www.grc.nasa.gov/WWW/SiC/publications/CRCChapterRev.pdf
  12. , Б.Ф. Ведение в физическую химию и кристаллохимию полупроводников: Учебное пособие для втузов / Б. Ф. Ормонт. М.: Высш. школа, 1973. — 655 с.
  13. , С. С. Материаловедение полупроводников и диэлектриков: Учебник для вузов. / С. С. Горелик, М. Я. Дашевский. М.: МИСИС, 2003.-480 с.
  14. Полупроводниковые соединения AIVBIV / Ю. М. Таиров, В. Ф. Цветков // Справочник по электротехническим материалам / Под ред, Ю. В. Корнцкого, В. В. Пасынкова, Б. М. Тареева. JI.: Энергоатомиздат, 1988.-С. 446−472.
  15. Карбид кремния, свойства и области применения. / Под ред. И. Н. Францевич. Киев: Наукова думка, 1975. — 360 с.
  16. , А.А. Центры с глубокими уровнями в карбиде кремния. Обзор /
  17. А.А. Лебедев // Физика и техника полупроводников. 1999. — Т. 33. -Вып. 2.-С. 129−155.
  18. , А.А. Вакансионная модель процесса гетерополитипной эпитаксии SiC / А. А. Лебедев, С. Ю. Давыдов // Физика и техника полупроводников. 2005, — Т. 39. — Вып. 3. — С. 296 — 299.
  19. Е. Н. Примеси и собственные дефекты в карбиде кремния в связи сусловиями роста, легирования и релаксационного отжига: дис.. д-ра физ.-мат. наук: 01.04.10 / Мохов Евгений Николаевич. Спб., 1998.
  20. , А. А. Влияние собственных дефектов на политипизм SiC/ А. А. Лебедев // Физика и техника полупроводников. Т.ЗЗ. — Вып. 7. -С. 769−771.
  21. Исследование кристаллохимических свойств политипов карбида кремния / Н. Д. Сорокин, Ю. М. Таиров, В. Ф. Цветков, М. А. Чернов // Кристаллография. 1983. — Т.28. — С. 910.
  22. Fissel, A. Thermodynamic considerations of the epitaxial growth of SiC olytypes / A. Fissel // Journal of Crystal Growth. 2000. — V. 212. — P. 38 450.
  23. , E. А. Формирование политипов карбида кремния. / 2 национальная кристаллохимическая конференция. Черноголовка, май 2000 / http: // www.icp.ac.ru / conferences / old / NCCC / abstracts / Belenkov l. html
  24. , В. В. Структуре- и формообразование микро и наносистем на основе широкозонных материалов, обладающих полиморфизмом : дис. д-ра техн. наук. / Лучинин, В. В. С. — Петербург, 1999.27.:Website GREE http:// www.gree.com.
  25. Gupta, A. Selective epitaxy and lateral overgrowth of 3C-SiC on Si A review / A. Gupta, C. Jacob // Progress in Crystal Growth and Characterization of Materials. -2005. — V. 51. — P. 43 — 69.
  26. SiC heteroepitaxial growth by low pressure chemical vapor deposition on Si (lll) substrates / F. Yan, Y.D. Zheng, P. Chen, L. Sun, S.L. Gu. // Optical Materials. 2003. — №. 23. — P. 113 — 116.
  27. Low-temperature reaction of CH4 on Si (100) / A. Izena, M. Sakuraba, T. Matsuura, J. Murota // Journal of Crystal Growth. 1998. — V. 188. — P. 131 -136.
  28. The influence of surface preparation on the properties of SiC on Si (111) / J. Pezoldt, B. Schroter, V. Cimalla, P. Masri // Physica Status Solidi A -Applied Research.-2001.-V.l 85. iss 1.-P. 159 166.
  29. Yuan, C. Effect of carbonization on the growth of 3C-SiC on Si (111) by silacyclobutane / C. Yuan, A.J. Steckl, M.J. Loboda // Appl. Phys. Lett. -1994.-V.64.-P. 3000.
  30. Masri, P. Silicon carbide and silicon carbide-based structures. The physics of epitaxy / P. Masri // Surface Science Reports. -2002. -V. 48. P. 1 — 51.
  31. Nishino, S. Production of large-area single-crystal wafers of cubic SiC for semiconductor devices / S. Nishino, J.A. Powell, H.A. Will // Appl. Phys. Lett. 1983.-V. 42. — P. 460.
  32. Epitaxial growth and electric characteristics of cubic SiC on silicon / S. Nishino, H. Suhara, H. Ono, H. Matsunami, J. Appl.Phys. 1987. — V.61. --P. 4889.
  33. , В.И. Физхимия дефектообразования при эндотаксии /З-SIC-SI для датчиков физических величин / В. И. Чепурнов, А. Н. Комов,
  34. A.А. Колесникова // Химия твердого тела и современные микро-инанотехнологии: Тезисы IV международной конференции. Кисловодск, 14−17 сент. 2004 г. Ставрополь: СевКавГТУ, 2004. — 492 с.
  35. Epitaxial growth of cubic silicon carbide on silicon by sublimation method/ X. Feng, Z. Chen, J. Ma, X. Zan, H. Pu, G. Lu // Optical Materials. -2003. -V.23.-P.39 42
  36. Технология материалов микро- и наноэлектроники / JI. В. Кожитов,
  37. B. Г. Косушкин, В. В. Крапухин, Ю. Н. Пархоменко. М.: МИСИС, 2007. — 544 с.
  38. An Overview of SiC Growth / Hiroyuki Matsunami // Proceeding of the International Conference on Silicon Carbide and Related Materials 1999. Research Triangle Park, North Carolina, USA: 1999. — V.l. — P. 126 — 130.
  39. Improvement of 3C-SiC Surface Morphology on Si (100) by Adding HC1 using
  40. Atmospheric CVD. / Y. Chen, Y. Masuda, C. Jacob, T. Shirafuji and S. Nishino. // Proceeding of the International Conference on Silicon Carbide and Related Materials -1999. Research Triangle Park, North Carolina, USA: 1999. V.l. -P. 257−261.
  41. Porous SiC Substrate Materials for High-Quality Epitaxial and Bulk Growth /
  42. M. Mynbaeva, N. Savkina, A. Zubrilov, N. Seredova, M. Scheglov, A. Titkov, A. Tregubova, A. Lebedev, A. Kryzhanovski, I. Kotousova, V. Dmitriev. Mater. Res. Symp. Materials Research Society. -2000. V. 587. — P. 0861.
  43. , H.C. Влияние высокотемпературного эпитаксиального процессароста слоев SiC на структуру пористого карбида кремния / Н. С. Савкина, В. В. Ратников, В. Б. Шуман // Физика и техника полупроводников. 2001 — Т. 35. — Вып. 2. — С. 159 — 163.
  44. New results in sublimation growth of the SiC epilayers / N.S. Savkina, A.A.1.bedev, D.V. Davydov, A.M. Strel. chuk, A.S. Tregubova, M.A. Yagovkina. Mater. Sci. Eng. B/- 1999. V.61−62. — P. 165 — 167.
  45. Chemical vapor deposition of 4H-SiC epitaxial layers on porous SiC substrates
  46. M. Mynbaeva, S.E. Saddow, G. Melnychuk, I. Nikitina, M. Scheglov,
  47. A. Sitnikova, N. Kuznetsov, M. Mynbaev, V. Dmitriev // Appl. Pphys. Lett. -2001.-V. 78.-№ 1.-P. 117−119.
  48. Структура и свойства карбида кремния, выращенного на пористой подложке методом сублимационной эпитаксии в вакууме / Н. С. Савкина,
  49. B.В. Ратников, А. Ю. Рогачев В. Б. Шуман, А. С. Трегубова, А. А. Волкова // Физика и техника полупроводников. 2005. — Т. 36. -Вып. 7.-С. 812−816.
  50. Shor, J.S. Photoelectrochemical etehing of n-tape 6H-SiC / J.S. Shor, R.S. Okojie, A.D. Kurtz //1. Phys. Conf. Ser. 1993. -№.137. -P. 523 -526.
  51. Direct observation of porous SIC formed by anodization in HF / J.S. Shor, I. Grimberg, B.-Z. Weiss, A.D. Kurtz // Appl. Phys. Lett. 1993. -V.62. -P. 2836−2838.
  52. Кристаллизация из газовой фазы. / Под. ред. Н. Н. Шефтеля. М.: Мир, 1965.-344 с.
  53. , В.В. Некоторые аспекты газофазной эпитаксии карбида кремния. / В. В. Зеленин, М. Л. Корогодский, А. А. Лебедев // Физика и техника полупроводников-2001. Т. 35.-Вып. 10.-С. 1169−1171.
  54. Initial stage of 3C-SiC growth on Si (0 0 1)-2xl surface using monomethylsilane / Y. Narita, T. Inubushi, M. Harashima, K. Yasui, T. Akahane // Applied Surface Science. 2003. — V. 216. — P. 575 — 579.
  55. Teker, K. Selective epitaxial growth of 3C-SiC on patterned Si using hexamethyldisilane by APCVD / K. Teker // Journal of Crystal Growth. -2003. V.257. — P. 245 — 254.
  56. Low-temperature and selective growth of -SiC using the SiH2C12/C3H8/H2/HCl gas system / Y. Ohshita, A. Ishitani // Journal of Applied Physics. 1989. -V. 66. № 4535.
  57. Jou, S. Silicon carbide films from polycarbosilane and their usage as buffer layers for diamond deposition / S. Jou, C.-T. Sun, X. Chen // Diamond & Related Materials. 2005. — V.14. — P. 1688 — 1694.
  58. Аморфные полупроводники и приборы на их основе. / под общ. ред. Й. Хамакавы- пер. с англ. М.: Металлургия- 1986. — 376 с.
  59. Получение тонких пленок кубического карбида кремния термическим разложением метилтрихлорсилана в водороде./ JI. М. Иванова, П. А. Александров, К. Д. Демаков, В. А. Старостин, С. Г. Шемардов // Неорганические материалы. 2005. — Т. 41. — № 3. — С. 1−4.
  60. , JI.M. Термическое разложение паров метилтрихлорсилана / JI.M. Иванова, А. А. Плетюшкин // Изв. АН СССР. Неорганические материалы. 1968. -Т. 4. — № 7. — С. 1089 — 1093.
  61. Получение и свойства слоев 3C-SiC на кремниевой и кварцевой подложках / И. П. Акимченко, JI. М. Иванова, и др. // Изв. АН СССР. Неорганические материалы. 1986. — Т. 22. — № 6. -С. 955 — 959.
  62. Кристаллизация и некоторые свойства карбида кремния кубической модификации / М. С. Саидов, X. А. Шамуратов, М. Мирталипов, А. Умурзаков // Карбид кремния. Ташкент: Фан, 1977. С. 14−21.
  63. Пленки кубического карбида кремния на кремниевой подложке / JI. И. Берегинский, С. И. Власкина, В. Е. Родионов, X. А. Шамуратов // Письма в ЖТФ. 1989. -Т. 15.-Вып. 2. — С. 44−48.
  64. Иванова, J1.M. Получение карбида кремния термическим разложением паров метилтрихлорсилана / JI. М. Иванова, Г. А. Казарян, А. А. Плетюшкин // Изв. АН СССР. Неорганические материалы. 1968. -Т. 2.-№ 7.-С. 1089- 1093.
  65. , JI.M. Получение поликристаллического карбида кремния термическим разложением метилтрихлорсилана JI.M. Иванова, А.А.
  66. Плетюшкин // Карбид кремния. Киев: Наук, думка. -1966.-С. 151−158.
  67. Analytics of CVD Processes in the Deposition of SiC by Methyltrichlorosilane
  68. J. Heinrich, S. Hemeltjen, G. Marx // Mikrochim. Acta. 2000. — V. 133. -P. 209−214.
  69. Технология и аппаратура газовой эпитаксии кремния и германия / И. М. Скворцов, И. И. Лапидус и др. М.: Энергия, 1978. — 136 с.
  70. Miyajima Т., Study of Optimum Condition for Microcrystalline SiC Film Formation by ECR Plasma CVD Method / T. Miyajima, K. Sasaki, S. Furukawa // Springer Proc. Phys. 1992. — V. 71. — P. 281 — 286.
  71. Shimizu, H. Plasma-Assisted Chemical Vapor Deposition of Cubic Silicon Carbide on Silicon Substrate/ H. Shimizu, K. Naito, S. A. C. Ishio // Springer Proc. Phys. 1992.-V. 71. Part I.-P. 119−125.
  72. Fukazawa, T. Preparation of microcrystalline silicon carbide thin films for theemitter of Si HBTs / T. Fukazawa, K. Sasaki, S. Furukawa // Proc. 2nd Int. Conf. on in Amorphous and Crystalline Silicon Carbide Santa Clara, 1988. -P. 49−53.
  73. Kamimura, K. SiC/Si HBT Using Polycrystalline SiC Layers Prepared by Electron Beam Evaporation / K. Kamimura, Y. Nishibe, Y. Onuma // Proc. 2nd Int. Conf. on Amorphous and Crystalline Silicon Carbide. Santa Clara, 1988.-P. 207−210.
  74. Applications of High Purity SiC Prepared by Chemical Vapor Deposition / Y. Chinone, S. Ezaki, F. Fujita, K. Matsumoto // Proc. 2nd Int. Conf. on Amorphous and Crystalline Silicon Carbide Santa Clara, 1988. -P. 198 206.
  75. High-Quality Microcrystalline SiC Films Fabricated by the Controlled Plasma
  76. Magnetron Method / M. Nishikuni, H. Dohjoh, K. Ninomiya et al. // Proc. 2nd Int. Conf. on in Amorphous and Crystalline Silicon Carbide Santa Clara, 1988.-P. 54−59.
  77. Preparation of Polycrystalline SiC Thin Films by a Reactive Sputtering Process
  78. Y. Onuma, P. Okada, H. Ono, K. Kamimura // Proc. 5 Conf. on Silicon Carbide and Related Materials. Washington, DC, 1993. P. 133 — 136.
  79. SiC Thin Film Growth on Si: Mechanisms and Application / A.J. Steckl, J. Devrajan, S. Madapura, J. Chen // 12th Int. Conf. on Crystal Growth-10th Int. Conf. on Vapor Growth and Epitaxy. Jerusalem, 1998. P. 36.
  80. Heinrich, J. Analytics of CVD Processes in the Deposition of SiC by Methyltrichlorosilane / J. Heinrich, S. Hemeltjen, G. Marx // Mikrochim. Acta, 2000. V. 133. — P. 209 — 214.
  81. Ш. Р., Комов A.H., Чепурнов В. И. и др. // Полупроводниковыйкарбид кремния и приборы на его основе: междунар. тез. докл. семинар. Новгород, 1995. — С. 25−26.
  82. Jinschek, J. Void Shapes in the Si (111) Substrate at the Heteroepitaxial Thin
  83. Film Si Interface ./ J. Jinschek, U. Kaiser, W. Rihter.// Proceeding of the International Conference on Silicon Carbide and Related Materials. North Carolina, USA, 1999. -V.l. P.521−524.
  84. A. J. Steckl, C. Yuan, and J. P. Li. Growth of crystalline X-Sic on Si at reducedtemperatures by chemical vapor deposition from silacycllobutane // Appl. Phys. Lett. 1993. -V.63. — № 24. — P. 3347 — 3349.
  85. Carbon surface diffusion and SiC nanocluster self-ordering. / J Pezoldt, Yu.V.
  86. Trushin, V.S. Kharlamov, A.A. Schmidt, V. Cimalla, O. Ambacher. // Nuclear Instruments and Methods in Physics Research. B. 2006. — V.253. — P. 241 245.
  87. , А.И. Нанокристаллические материалы: методы получения и свойства / А. И. Гусев. Екатеринбург: УрО РАН, 1998. — 198 с.
  88. Synthesis of silicon carbonitride thin films by means of r.f.-sputtering and ionimplantation / H. Lutz, M. Bruns, F. Link, H. Baumann, // Surface Coating Technol. -1999.-V.419.-P.116- 119.
  89. Indium doping of amorphous SiC: H films prepared by reactive magnetron cosputtering / N. Saito, Y. Inui, T. Yamaguchi, I. Nakaaki, // Thin Solid Films. -1999. V. 353.-P.189- 193.
  90. SiCN alloys deposited by electron cyclotron resonance plasma chemical vapordeposition / F.J. Go’mez, P. Prieto, E. Elizalde, J. Piqueras // Appl. Phys. Lett. 1996. -V. 69.-P. 773.
  91. Molecular beam epitaxy of pseudomorphic silicon/carbon superlattices on silicon substrates / W. Faschinger, S. Zerlauth, J. Stangl, G. Bauer, Appl. Phys. Lett. 1995. — V. 67. — P. 2630.
  92. Dependences of amorphous structure on bias voltage and annealing in siliconcarbon alloys / S.P. Lau, X.L. Xu, J.R. Shi, X.Z. Ding, Z. Sun, B.K. Tay. // Materials Science and Engineering B. 2001. — V.85- P.20 — 24.
  93. Basa, D.K. Annealing study of the optical properties of hydrogenated amorphous silicon-carbon alloy film / D.K. Basa // Thin Solid Films. 1997. -V.298.-P. 211 -214.
  94. Crystallization of hydrogenated amorphous silicon-carbon films by means of laser treatments / G. Ambrosone, U. Coscia, S. Lettieri, P. Maddalena, C. Minarini, V. Parisi, S. Schutzmann. // Applied Surface Science. -2005. -V.247.-P. 471 -476.
  95. Maruyama, T. The network structure of amorphous silicon-carbon alloy / T. Maruyama, S. Mitani // Journal of Non-Crystalline Solids. 2003. -V. 319.-P. 219−224.
  96. Munekata, H. White photoluminescence of amorphous silicon-carbon alloy prepared by glow-discharge decomposition of tetramethylsilane /
  97. H. Munekata, S. Murasato and H. Kukimoto // Appl. Phys. Lett. 1980. -V.37.-P. 536.
  98. Аморфные полупроводники / под общ. ред. М. Бродски — пер. с англ. -М.: Мир, 1962.-419 с.
  99. Comparison be-LwtHi nielbane and acetylene as carbon sources for C-rieh a, SiC: H films / F. Demichelis, G. Cmvini. P. Giorgis, C.F. Pirri. E. Tresso // Diamond and Relaited Materials. 1995. — № 4. — P. 473 — 477.
  100. Особенности электронного строения и состава пленок карбида кремнии по данным метода ультрамягкой рентгеновской спектроскопии / Терехов
  101. B.Л., Абызов М. А., Остапенко О. В., Лигачев В. Л., Кашкаров В. М. // Материалы электронной техники. 2002. — № 3. — С. 72 — 74.
  102. , И. В. Новые направления физического материаловедения: Учебное пособие./ И. В. Золотухин, Ю. Е. Калинин, О. В. Стогней. -Воронеж: Изд. ВГУ, 2000. 360с.
  103. , В. Н. Физико-химические процессы в технологии РЭА: учебникдля вузов / В. Н. Черняев.- М.: Высшая школа, 1987. 376 с.
  104. , В. Н. Технология производства интегральных микросхем и микропроцессоров: учебник для вузов / В.Н. Черняев- М.: Радио и связь, 1987.-465 с.
  105. Технология тонких пленок: Справочник / под общ. ред. М. И. Елинсона, Г. Г. Смолко — пер. с англ.- М.: «Сов. Радио», 1977. -Т. 2. 768 с.
  106. Пленочные технологии: учебное пособие / А. Б. Саутиев, JI.H. Визер, Г. П. Воронков, Д. Е. Шаманов. Ставрополь: СевКавГТУ, 2008. — 136 с.
  107. , Ю. Д. Физико-химические • основы технологии микроэлектроники / Ю. Д. Чистяков, Ю. П. Райнова. М.: Металлургия, 1979.-408 с.
  108. , Ю. М., Технология полупроводниковых и диэлектрических материалов / Ю. М. Таиров, В. Ф. Цветков. М.: Высшая школа, 1990. — 423 с.
  109. , В.В. Технология материалов электронной техники / В. В. Крапухин, И. А. Соколов, Г. Д. Кузнецов. М.: МИСИС, 1995. -496 с.
  110. , В. В. Физико-химические основы технологии полупроврдниковых материалов / В. В. Крапухин, И. А. Соколов, Т. Д. Кузнецов. М.: Металургия, 1982. — 352 с.
  111. , Р. А., Наноструктурные материалы: учеб. пособие студ. высш. учеб. заведений / Р. А. Андриевский, А. В. Рагуля. М.: Издательскикий центр «Академия», 2005. — 192 с.
  112. , А. И. Основы материаловедения и технологии полупроводников: Учебное пособие / А. И. Случинская. М.: МИФИ, 2002.-380 с.
  113. , JI. В. Технология эпитаксиальных слоев / JI.B. Кожитов, В. В. Крапухин, В. А. Улыбин. М.:МИСИС, 2001. — 158 с.
  114. Chow, Т. P. SiC and GaN High-Voltage Power Switching Devices / T. P. Chow // Proceeding of the International Conference on Silicon Carbide and Related Materials. USA, 1999. V. 1. — P. 1155 — 1160.
  115. Designing, Physical Simulation and Fabrication of High-Voltage (3.85 kV) 4H-SiC Schottky Rectifiers processed on Hot-Wall and Chimney CVD Films / Q. Wahab, A. Ellison, J. Zhang, U. Forsberg, E. Duranova, A. Henry,
  116. D. Madsen, E. Janzen // Proceeding of the International Conference on Silicon Carbide and Related Materials. USA, 1999. -V.l. P. 1171 — 1174.
  117. Electrical Impact of SiC Structural Crystal Defects on High Electric Field Devices / Philip G. Neudeck // Proceeding of the International Conference on Silicon Carbide and Related Materials. North Carolina, USA, 1999. -V.l. -P. 1161−1166.
  118. Surface induced instabilities in 4H-SiC microwave MESFETs / K.P. Hilton, M.J. Uren, D.G. Hayes, P. J. Wilding, // Proceeding of the International Conference on Silicon Carbide and Related Materials. North Carolina, USA, 1999.-V.l.-P. 1251 1254.
  119. , В. А. Получение профилированных монокристаллов карбида кремния методами сублимации и электрической эрозии : дис. д-ра техн. наук: 05.37.06: утверждена 18.11.2005 / Карачинов Владимир Александрович. Нижний Новгород, 2005. -304 с.
  120. Schottky diode characteristics of 3C-SiC grown on a Sisubstrate by vapor phase epitaxy / J. Komiyama, Y. Abe, S. Suzuki, T. Kita, H. Nakanishi. // Journal of Crystal Growth. 2005. — V. 275. — P. 1001−1006.
  121. Высокотемпературные радиационно-стойкие датчики давления на основе карбида кремния / А. В. Корляков, В. В. Лучинин, В. Ф. Глазина,
  122. С. В. Костромин, и др. // СЕНСОР 2000 Сенсоры и микросистемы: Тезисы докладов. СПб.: Изд-во НИИХ СПбГУ, 2000. С. 56.
  123. Тензорезистивный датчик давления: эволюция в высокотемпературную область / А. В. Корляков, А. Ю. Никифоров, А. А. Первышев, О. В. Субботин // Петербургский журнал электроники, — 2000. — Т. З- 4. — С. 21−33.
  124. , В. А. Эффект самосопряженной перфорации аморфных слоев карбида кремния / В. А. Карачинов, С. Б. Троицын, Д. В. Карачинов // Журнал технической физики. 2004. — Т.74. — Вып.12.-С. 96−97.
  125. , А. А. Механизмы токопереноса и свойства гетероструктур a-SiC:H/c-Si / А. А. Шерченков, Б. Г. Будагян, А. В Мазуров // Физика и техника полупроводников. 2005. — Т. 39. — Вып. 8. — С. 964 — 969.
  126. , В. А. Электрофизические свойства окисных пленок карбида кремния политипа 6Н : рукопись деп. в ВИНИТИ № 4366 4389 / В. А Карачинов. — Нижний Новгород, 1989 — 6 с.
  127. , В. А. Эффект зарядовой нестабильности в системе карбид кремния диэлектрик / В. А. Карачинов // Физика и техника полупроводников. — 1997. — Т. 31- № 1. — С. 53 — 55.
  128. , А.В. Применение SiC микронагревателъных систем в микросистемной технике / А. В. Корляков, В. В. Лучинин, И. В. Никитин // Микросистемная техника. 2000. — № 2. — С. 27 — 31.
  129. Kurzinger W. Siliziumkartnd (SiC) ein Halbleitermatenal nur fur blauleuehtende Dioden. / W. Kurzinger // Nachr. Etektron. 1979. T.33. -№ 11. — P.362 — 364.
  130. Мелкосерийное производство семейства высокотемпературных радиоционностойких датчиков давления на основе структур «Карбид кремния на изоляторе» / А. В. Корляков, В. В. Лучинин, О. В. Субботин,
  131. A.П. Сазанов и др. // Карбид кремния и родственные материалы: Сборник докладов III Междунар. семинара. — Великий Новгород: НовГУ им. Я. Мудрого, 2000. С. 191 — 194.
  132. Hydrogenated a morphous silicon carbide as window material for high efficiency a-SiC Solar cells / Y. Tawada, M. Kondo, H. Okamoto, Y. Hamatakawa // Solar Energy Mater, 1982. V.6. — № 3. -P. 299 — 315.
  133. , B.A. Карбид кремния в телевизионных системах промышленной безопасности / В. А. Карачинов, С. Б. Торицин,
  134. B.Н. Филиппов // Кристаллы: рост, свойства, реальная структура, применение: Материалы VI международной конференции. -Александров: ВНИИСИМС, 2003. С.163−165.
  135. , А.Я. Технология полупроводниковых материалов /
  136. A.Я. Нашельский. М.: Металлургия, 1987. — 336 с.
  137. Физические методы исследования материалов твердотельной электроники / С. И. Рембеза, Б. М. Синельников, Е. С. Рембеза, Н. И. Каргин. Ставрополь: СевКавГТУ, 2002. — 432 с.
  138. Фурье-спектрометры инфракрасные ФСМ: Руководство по эксплуатации. С. — Петербург: АОЗТ «СПб Инструметс», 2003. — 46 с.
  139. Brodsky, М.Н. Infrared and Raman spectra of the silicon-hydrogen bonds in amorphous silicon prepared by glow discharge and sputtering / M.H. Brodsky, M. Cardona, J.J. Cuomo // Phys. Rev. B. 1977. — V.16. — № 8. — P. 3556 -3871.
  140. В.И. Основы сканирующей зондовой микроскопии /
  141. B.И. Миронов. М.: Техносфера, 2004. 144 с.
  142. , Е.И. Микроструктура и свойства аморфного гидрогенизированного сплава углерода с кремнием, дисс. канд. техн. наук.05.27.06 / Артемов Евгений Иванович М.: МИЭТ, 2004. — 174 с.
  143. Техническое описание и инструкция по эксплуатации микроинтерферометра МИИ-4 // Ленинградское оптико-механическое объединение имени В. И. Ленина, 1975.
  144. , М.Е. Компьютерная химия. / М. Е. Соловьев, М. М. Соловьев. М.: СОЛОН-Пресс, 2005. -536 с.
  145. Website Seki technotron corp / www. seki tech. со. jp.
  146. , Б.М. Физическая химия кристаллов с дефектами / Б. М. Синельников М.: Высшая школа, 2005. — 136 с.
  147. , Е.А. Особенности колебательных спектров алмазоподобных и полимероподобных пленок а-С:Н / Е. А. Коншина, А. И Вангонен // Физика и техника полупроводников. 2005. — Т.39. — Вып. 5. — С. 616 — 622.
  148. Brehm, М. Matrix isolation and theoretical study of the reaction of HSiCl3 and CH3OH: infrared spectroscopic characterization of Cl2HSiOCH3 / M.
  149. Brehm, В. S. Ault // Journal of Molecular Structure. -2003. V. 649. -P. 95 — 103.
  150. Synthesis and Characterization of the First Amino- and Iminosilsesquioxanes / Z. Fei, K. Ibrom and F. T. Edelmann // Z. anorg. allg. Chem. 2002. -V. 628.-P. 2109.
  151. Hydrogenated amorphous silicon carbon alloys for solar cells / G. Ambrosonea, U. Cosciaa, S. Lettieria, P. Maddalenaa, C. Privatob, S. Ferrero // Thin Solid Films. -2002. -V. 403 404. — P. 349−353.
  152. , Л. Инфракрасные спектры адсорбированных молекул / Л. Литтл- пер. с англ. -М.: Мир, 1969. 513 с.
  153. , А.Н. Влияние технологических параметров на структуру и морфологию поверхности углеродных пленок / А. Н. Гладкий, С. Ю. Суздальцев, Р. К. Яфаров // Журнал технической физики. 2000. -Т. 70. Вып. 5.-С. 133−135.
  154. Local structure and bonding states in a-Sil-xCx:H / Van Swaaij, A.J.M. Berntsen, W.G.J.H.M. van Sark, H. Herremans, J. Bezemer, W.F.van der Weg // Journal of Applied Physics.- 1994. V.76. — P.251.
  155. Chen, J. Grows and Characterization of N-doped SiC Films from Trimethylsilane / J. Chen, A. Steckl, M. Loboda // Materials science forum. -2000. V. 338 — 342. — P. 273 — 276.
  156. Yihua, W. Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition and Characterization of Hydrogenated Amorphous SiC Films on Si. / W. Yihua, L. Jiianyi // Materials science forum. 2000.- V. 338 — 342. — P. 325 — 328.
  157. Prado, R. J. Thin Films of a-Sil-xCx:H Deposited by PECVD: The rf Power and H2 Dilution Role / R. J. Prado, M.C.A. Frantiny // Materials science forum. 2000. — V. 338 — 342. — P. 329 — 332.
  158. Приготовление и исследование карбидизированного пористого кремния / О. М. Сресели, Д. Н. Горячев, В. Ю. Осипов, Л.В. и др. // Физика и техника полупроводников. -2000. Т.36. — Вып. 5. — С.604 — 610.
  159. Characterization of a-SiCx:H Films for c-Si Surface Passivation / M. Vetter, I. Marten, A. Orpella, C. Voz, J. Puigdollers and R. Alcubilla // Mat. Res. Soc. Symp. Proc. 2002. — V. 715. — P. 2451- 2456.
  160. Fluoroformic Acid Anhydride, FC (0)0C (0)F / H. Pernice, H. Willner, K. Bierbrauer, M. B. Paci and C. A. Arguello, // Angewandte Chemie International Edition. 2002. -V. 41. — Iss. 20. — P. 3832 — 3834.
  161. Thermal oxidation of polymer-like amorphous SiCHOxywz nanoparticles / D. Dasa, J. Farjasa, P. Rouraa, G. Vierab, E. Bertranb // Diamond and Related Materials. -2001. -№ 10. P. 1295 — 1299.
  162. Oliveira, M. L. On the carbon incorporation into a-SiC:H films with low carbon content / M. L. de Oliveira, S.S. Camargo, F.L. Freire // J. Appl. Phys. V.71. — № 31. -P.1531 — 1533.
  163. , JI. Инфракрасные спектры сложных молекул. / Л. Беллами. М.: Мир, 1963.-590 с.
  164. , С.П. Свойства алмазоподобных пленок, полученных в барьерном разряде при атмосферном давлении / С. П. Бугаев и др. // Журнал технической физики. 1997. Т. 67. — № 8. — С. 100.
  165. Lazar, G. Infrared Absoption properties of amorphous carbon films / G. Lazar // J. of Optoelectr. and Advanc. Mater. 2005. — V. 7. — № 2. — P. 647 — 652.
  166. Von Keudell, A. // Interaction of hydrogen plasmas with hydrocarbon films, investigated by infrared spectroscopy using an optical cavity substrate / A. Von Keudell, W. Jacob // J. Vac. Sci. Technol. A. 1997. -№ 15(2). -P. 402 — 407.
  167. , К. ИК-спектры и спектры КР неорганических и координационных соединений / К. Накамото- пер. с англ. М.: Мир, 1991.-536 с.
  168. Tolstoy, V.P. Handbook of infrared spectroscopy of ultrathin films / V. P. Tolstoy, I. V. Chernyshova, V. A. Skryshevsky / A john wiley & sons, inc., publication, 2003. 710 p.
  169. , JI.A. Применение УФ-, ИК- и ЯМР-спектроскопии в органической химии: Учеб. пособие для вузов / Л. А. Казицына, Н. Б. Куплетская. М.: Высшая школа, 1971. — 264 с.
  170. Pereyra, I. Highly ordered amorphous silicon-carbon alloys obtained by RF PECVD / I. Pereyra, C.A. Villacorta, M.N.P.Careno // Brazilian Journal of Physics. 2000. — V. 30(3). P. 533 — 540.
  171. Bullot, J. Physics of Amorphous Silicon-Carbide Alloys / J. Bullot, M.P. Schmidt//Phys.Status Solidi B. 1987. — V. 143.-P. 345−418.
  172. Compagnini, G. Vibrational analysis of compositional disorder in amorphous silicon carbon alloys / G. Compagnini, G. Foti, A. Makhtari. // Europhys. Lett. 1998. — № 41 (2). — P. 225 — 230.
  173. Quantitative analysis of hydrogenated diamondlike carbon films by visible Raman spectroscopy / A. Singha, A. Ghosh, A. Roya, N. R. Rayb. / Journal of Applied Physics. 2006. — V. 100. — № 4. — P. 44 910.
  174. Bonding in hydrogenated diamond-like carbon by Raman spectroscopy / C. Casiraghi, F. Piazza, A. C. Ferrari, D. Grambole, J. Robertson // Diamond & Related Materials.- 2005. -V.14.- P. 1098- 1102.
  175. Raman analysis of laser annealed nitrogen doped amorphous carbon film / W. Zhang, Y. Xia, J. Ju, Y. Fan, Z. Fang, L. Wang, Z. Wang. // Solid State Communications. -2002. V. 123. — P. 97 — 100.
  176. , И.А. Физическая химия: Учебник. / И. А Семиохин. М.: МГУ, 2001.-272 с.
  177. Sone, Н. In situ measurements and growth kinetics of silicon carbide chemical vapor deposition from methyltrichlorosilane / H. Sone, T. Kaneko, N. Miyakawa // Journal of Crystal Growth. 2000. — V. 219. — P. 245 — 252.
  178. Interpretation of initial stage of 3C-SiC growth on Si (100) using dimethylsilane / Y. Narita, M. Harashima, K. Yasui, T. Akahane, M. Takata. // Applied Surface Science. 2006. — V. 252. — P. 3460 — 3465.
Заполнить форму текущей работой

На отлично!